專利名稱：用在冶金反應(yīng)器的裝料設(shè)備中的分配裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總體上涉及一種用于分配塊體材料(bulk material)的分配裝置。更具體而言，本發(fā)明涉及這樣一種裝置，其使分配斜槽圍繞第一大致豎直軸線旋轉(zhuǎn)并且使分配斜槽圍繞第二大致水平軸線樞轉(zhuǎn)。這種分配裝置典型地用在冶金反應(yīng)器(尤其是鼓風(fēng)爐)的裝料設(shè)備中，例如，用在眾所周知的無料鐘爐頂 型的裝料設(shè)備中。本發(fā)明還涉及一種相應(yīng)的分配斜槽。
背景技術(shù)：
例如，從美國專利號3’ 814’ 403中已知上述類型的具有槽形旋轉(zhuǎn)并樞轉(zhuǎn)的分配斜槽的分配裝置的一個(gè)早期實(shí)例。當(dāng)暴露在冶金反應(yīng)器(例如，在鼓風(fēng)爐的情況下)的典型較高內(nèi)部溫度中時(shí)，這種分配裝置通常必須設(shè)置有有效的冷卻設(shè)備，以避免損壞，并且尤其但并非唯一地，用于保護(hù)用于使斜槽傾斜所需要的齒輪部件。歐洲專利EP0116142提出了一種合適的冷卻系統(tǒng)，其已經(jīng)廣泛地用在鼓風(fēng)爐的分配裝置中。由于轉(zhuǎn)子的典型構(gòu)造，即，支持分配斜槽的旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，所以這種裝料裝置包括一定數(shù)量的需要冷卻的水平表面。實(shí)際上，根據(jù)EP0116142的分配裝置的轉(zhuǎn)子尤其具有帶橢圓孔的下部水平護(hù)罩以及形成橢圓空腔的上限的橢圓水平蓋，斜槽的上部可樞轉(zhuǎn)到該空腔中。顯然，水平表面尤其暴露在來自反應(yīng)器內(nèi)部的熱中，這尤其是因?yàn)槠渲苯颖┞对谳椛錈嶂小Ｒ虼?，在上述類型的冷卻設(shè)備內(nèi)的轉(zhuǎn)子上需要相當(dāng)大的冷卻能力。然而，與固定部件相反，轉(zhuǎn)子上的冷卻能力受到低產(chǎn)量、將冷卻劑(來回地)傳輸?shù)叫D(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子上所需要的適當(dāng)旋轉(zhuǎn)接頭的使用壽命和/或成本的固有限制。因此，期望減小轉(zhuǎn)子上的暴露水平表面的總面積。例如，從PCT申請W000/20646中已知一種具有減小的量的暴露旋轉(zhuǎn)水平表面的分配裝置。本專利申請?zhí)岢隽艘环N尤其為小型反應(yīng)器而設(shè)計(jì)的分配裝置。然而，順便提一下，W000/20646還提出了這樣一種設(shè)計(jì)，其中，轉(zhuǎn)子具有很小的水冷水平表面，如果有的話。實(shí)際上，W000/20646提出了一種具有固定外殼的分配裝置，該固定外殼在底部處具有固定下護(hù)罩，該固定下護(hù)罩具有與斜槽的旋轉(zhuǎn)軸線共軸的中心開口。固定護(hù)罩覆蓋熔爐的爐口的一定范圍，并且因此從開口向外延伸。其裝配有用于保護(hù)外殼的內(nèi)部免受熱的冷卻盤管(cooling serpentine)。如將理解的,護(hù)罩為固定的,甚至在高容量下,其也可容易地冷卻。轉(zhuǎn)子可旋轉(zhuǎn)地支撐在外殼內(nèi)部，并且分配斜槽安裝在轉(zhuǎn)子上，另一方面，轉(zhuǎn)子具有下端，該下端具有小的水平圓盤狀保護(hù)軸環(huán)，該軸環(huán)在下表面處提供有絕熱。在轉(zhuǎn)子的軸環(huán)內(nèi)部，具有空腔，該空腔可從軸環(huán)的外部邊緣接近，從而可從固定護(hù)罩中注入冷卻氣體。因此，W000/20646的設(shè)計(jì)在轉(zhuǎn)子上需要很少的(如果有的話)冷卻劑容量。與EP0116142 (其中，轉(zhuǎn)子需要具有某些水平表面，從而斜槽可樞轉(zhuǎn)到如典型地所要求的(對于中心裝料)大致豎直的位置中)相比，W000/20646的設(shè)計(jì)避免了斜槽樞轉(zhuǎn)到由支撐轉(zhuǎn)子限定的旋轉(zhuǎn)包絡(luò)內(nèi)。這通過從槽形斜槽本體的上部延伸至樞軸的相對長的彎曲懸掛臂來實(shí)現(xiàn)，這種在該樞軸處，斜槽樞轉(zhuǎn)地安裝至轉(zhuǎn)子。然而，W000/20646的構(gòu)造的一個(gè)主要缺點(diǎn)在于，斜槽在樞轉(zhuǎn)齒輪上施加相對高的力矩，并且反之亦然。因此，這種設(shè)計(jì)不容易適合于現(xiàn)代的大直徑反應(yīng)器，尤其是鼓風(fēng)爐，這些反應(yīng)器通常需要3m到5m長的斜槽長度。日本專利申請59031807涉及一種豎爐裝料設(shè)備，其裝配有具有彎曲形狀的分配斜槽。法國專利2230246公開了一種豎爐裝料設(shè)備，其包括固定外殼、由外殼支撐以可圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子、以及安裝至轉(zhuǎn)子的分配斜槽。固定外殼包括固定下護(hù)罩，該固定下護(hù)罩具有內(nèi)邊界，該內(nèi)邊界界定中心位于旋轉(zhuǎn)軸線上的中心開口，護(hù)罩從中心開口向外延伸，以用于保護(hù)外殼的內(nèi)部免受反應(yīng)器內(nèi)部的熱。轉(zhuǎn)子包括與旋轉(zhuǎn)軸線共軸地設(shè)置的管狀支撐件。傾斜機(jī)構(gòu)允許分配斜槽圍繞與旋轉(zhuǎn)軸線垂直的傾斜軸線傾斜。具有彎曲形狀的斜槽具有上入口部，該上入口部設(shè)置在管狀支撐件內(nèi)。為了允許斜槽的傾斜，管狀支撐件具有相對大的直徑。技術(shù)問題因此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種最初提及的類型的分配裝置的可替代設(shè)計(jì)，并非唯一地但尤其是當(dāng)用在大直徑的鼓風(fēng)爐內(nèi)時(shí)，該設(shè)計(jì)允許可靠的操作，并且減小轉(zhuǎn)子側(cè)上(即，該裝置的可旋轉(zhuǎn)部件上)的冷卻劑容量。這個(gè)目的通過如權(quán)利要求1所要求保護(hù)的裝置來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的概述為了克服上述問題，本發(fā)明提出了一種用于裝料設(shè)備的分配裝置，該分配裝置具有旋轉(zhuǎn)并樞轉(zhuǎn)的分配斜槽。裝置 具有可旋轉(zhuǎn)地支撐可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)(下文中轉(zhuǎn)子)的外殼，斜槽安裝至該可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)。外殼在其下端處具有固定防熱護(hù)罩。護(hù)罩具有由內(nèi)邊界界定的中心開口。護(hù)罩徑向向外地延伸，并且保護(hù)外殼的內(nèi)部免受熱。另一方面，轉(zhuǎn)子具有與用于使斜槽樞轉(zhuǎn)的傾斜軸共軸在其旋轉(zhuǎn)軸線上的大致管狀支撐件。傾斜軸限定與旋轉(zhuǎn)軸線垂直的傾斜軸線。根據(jù)本發(fā)明，管狀支撐件以其下邊緣到達(dá)護(hù)罩內(nèi)的開口的邊界，S卩，到達(dá)固定防熱護(hù)罩的內(nèi)邊界。而且，斜槽安裝成使得其上部位于管狀支撐件內(nèi)部，其入口位于支撐件的下邊緣上方。為了能夠?qū)⑿辈廴肟谶@樣直接安裝在轉(zhuǎn)子內(nèi)部，并且不減小徑向裝料范圍，斜槽被提供有彎曲形狀。因此，斜槽本體具有上部和下部，在上部中材料沿著第一方向流動(dòng)，在下部中材料沿著具有不太陡峭的斜坡的轉(zhuǎn)向的第二方向流動(dòng)。斜槽本體的上部包括環(huán)形封閉安裝頭，該安裝頭形成入口并且具有兩個(gè)沿直徑相對的安裝件。傾斜軸每個(gè)具有與一個(gè)安裝件配合的相應(yīng)底座。環(huán)形封閉安裝頭具有第一縱向軸線并且形成入口。下部包括周向封閉外罩(jacket)，該外罩具有第二縱向軸線并且終止在出口處，縱向軸線以與第一和第二方向之間的角度大致對應(yīng)的角度設(shè)置。在斜槽本體中設(shè)置有凹槽，該凹槽允許斜槽傾斜至升高位置，在該升高位置中，管狀支撐件的下邊緣進(jìn)入凹槽。如將理解的是，所提出的外殼設(shè)計(jì)、轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)以及斜槽形狀的組合允許大幅減小在轉(zhuǎn)子上需要的冷卻容量，同時(shí)可與大型站點(diǎn)反應(yīng)器兼容，即，實(shí)現(xiàn)足夠大的分配半徑。還要注意的是，由于斜槽的上部到達(dá)裝料裝置的冷卻段中，所以減少了斜槽的熱負(fù)荷。值得注意的是，凹槽允許在斜槽不與管狀支撐件的下邊緣鄰接且特別地不與固定護(hù)罩的內(nèi)邊界鄰接的情況下，使分配斜槽樞轉(zhuǎn)至相對于豎直線更大的角度。因此，固定護(hù)罩中的開口的直徑可制造得與傳統(tǒng)分配裝置(例如，F(xiàn)R2230246中的分配裝置)中的小。由于與轉(zhuǎn)子相比更容易冷卻固定護(hù)罩，所以高度重視直接暴露在冶金反應(yīng)器中的熔料的熱中的旋轉(zhuǎn)水平表面的任何減小。裝料裝置的優(yōu)選實(shí)施例在所附從屬權(quán)利要求中限定。附圖的簡述從以下參照附圖對一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的非限制性詳細(xì)描述中，本發(fā)明的進(jìn)一步的細(xì)節(jié)和優(yōu)點(diǎn)將是顯而易見的，其中

圖1為示意性示出根據(jù)本發(fā)明的裝料裝置和分配斜槽的裝料裝置的第一豎直剖視圖；圖2為示意性示出用于使分配斜槽樞轉(zhuǎn)的樞轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、與圖1的平面成直角地截取的第二豎直剖視圖；圖3為示出移除一個(gè)樞轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、與圖2相對應(yīng)的豎直剖視圖。在這些圖中，相同的參考標(biāo)號用于表不相同的部件。關(guān)于附圖的詳述圖1-圖3示意性示出了總體上以10標(biāo)出的分配裝置。分配裝置設(shè)計(jì)成用在冶金反應(yīng)器(特別是鼓風(fēng)爐)的裝料設(shè)備中。典型地，分配裝置10設(shè)置成封閉反應(yīng)器的頂部開口(例如在爐喉(未示出)上)。分配裝置10被供給有來自一個(gè)或多個(gè)中間儲料斗的爐料，例如，根據(jù)如在W02007/082633中公開的構(gòu)造。分配裝置10具有固定外殼12，該固定外殼在其下外周向處具有環(huán)形周向安裝凸緣14，通過該安裝凸緣，外殼12典型地固定至例如爐口的邊緣。在外殼12內(nèi)部，總體上以16標(biāo)出的轉(zhuǎn)子通過滾柱軸承18支撐在外殼12上，更具體而言，支撐在固定外殼12的頂板上。轉(zhuǎn)子16因此可圍繞旋轉(zhuǎn)軸線A旋轉(zhuǎn)，該旋轉(zhuǎn)軸線對應(yīng)于例如鼓風(fēng)爐軸線。如圖1中所示，總體上以20標(biāo)出的分配斜槽安裝至轉(zhuǎn)子16，以與轉(zhuǎn)子一致地圍繞軸線A旋轉(zhuǎn)。如圖1-圖3中進(jìn)一步所示，固定外殼12具有固定下護(hù)罩22，該下護(hù)罩具有限制中心開口 26的內(nèi)邊界24，該中心開口的中心位于旋轉(zhuǎn)軸線A上。為了避開，即，保護(hù)外殼12的內(nèi)部免受來自反應(yīng)器內(nèi)部的熱，護(hù)罩22包括冷卻回路28，例如，用于液體冷卻劑的螺旋形的管。護(hù)罩22在徑向方向上在很大的范圍上從中心開口 26延伸至安裝凸緣14。此外，護(hù)罩22的下側(cè)可提供有熱絕緣。由于不排除其他設(shè)計(jì)，例如，朝著中心升高的截頭錐形狀，所以固定下護(hù)罩22優(yōu)選地大致水平并且為圓盤狀。圖1-圖3進(jìn)一步示出了轉(zhuǎn)子16具有管狀支撐件30，該管狀支撐件與旋轉(zhuǎn)軸線A共軸地設(shè)置。雖然不排除具有單個(gè)傾斜齒輪以及兩個(gè)樞轉(zhuǎn)杠桿的實(shí)施例，但是如例如在歐洲專利EP1001039中提出的，轉(zhuǎn)子16優(yōu)選地具有用于使斜槽樞轉(zhuǎn)的兩個(gè)沿直徑相對的傾斜齒輪32。每個(gè)傾斜齒輪32具有以34示意性示出的相應(yīng)傾斜軸，該傾斜軸穿過管狀支撐件30。傾斜齒輪32以懸臂方式支撐在管狀支撐件30上。因此，管狀支撐件30也承受所安裝的斜槽20的重量。以傳統(tǒng)方式，傾斜軸34共線(即，共軸)并且限定與旋轉(zhuǎn)軸線A垂直的傾斜軸線B。每個(gè)傾斜軸34具有以36示意性示出的相應(yīng)底座，該底座與分配斜槽20的兩個(gè)安裝件(未示出)中的相應(yīng)一個(gè)配合。如在圖1中清晰地示出的，管狀支撐件30向下延伸到下護(hù)罩22內(nèi)的開口 26中，并且具有與護(hù)罩22的內(nèi)邊界24相鄰地設(shè)置的下邊緣38。如將理解的是，無論下邊緣38確切地終止在哪個(gè)位置，在護(hù)罩22上方不遠(yuǎn)、正好在開口 26中還是在護(hù)罩22下方不遠(yuǎn)，下邊緣38和邊界24之間的最小間隙都是理想的。管狀支撐件30具有大致為圓環(huán)形的上連接凸緣40，通過該上連接凸緣，該支撐件安裝至軸承18的旋轉(zhuǎn)溝槽(race)。下邊緣38也通常為圓形。因此，如圖1-圖3中所示，管狀支撐件30以恒定的圓柱形剖面從連接凸緣40延伸至圓形下邊緣38。當(dāng)然，管狀支撐件30也可略微偏離這個(gè)形狀，例如，向下略微變寬，但是該支撐件優(yōu)選地僅僅存在從豎直下方看到的最小熱侵襲表面(在仰視圖中看到的表面)。從下方觀看時(shí)，主要隔熱表面設(shè)置在固定護(hù)罩22上。為此，護(hù)罩22呈現(xiàn)出至少為管狀支撐件30的半徑的40%的徑向范圍(即，從開口 26至安裝凸緣14的徑向尺寸)。因此，護(hù)罩22的暴露表面至少為轉(zhuǎn)子16在管狀支撐件30內(nèi)部的任何可能暴露表面的125%。下護(hù)罩22從管狀支撐件30的下邊緣朝著底部凸緣14延伸所經(jīng)的徑向距離優(yōu)選地至少為底部凸緣的半徑的20%。如圖1-圖3中進(jìn)一步所示，固定外殼12進(jìn)一步包括供料器噴嘴42，該供料器噴嘴與旋轉(zhuǎn)軸線A共軸，并且例如通過可拆卸的凸緣以典型方式固定至外殼12的頂板。為了保護(hù)關(guān)鍵元件免受熱，特別是保護(hù)滾柱軸承18，固定外殼12進(jìn)一步具有固定冷卻罩44，該冷卻罩設(shè)置在供料器噴嘴42和管狀支撐件30之間。冷卻罩44成形為向下變寬，例如，以截頭錐的方式從與供料器噴嘴42相鄰地設(shè)置的小上部半徑朝著與管狀支撐件30相鄰的相對大下部半徑變寬。在圖1-圖3的優(yōu)選實(shí)施例中，冷卻罩44具有大致為圓柱形的上部，其后為截頭錐形的下部。根據(jù)本發(fā)明，并且如圖1-圖3中所示，分配斜槽20具有斜槽本體，該斜槽本體在縱向剖面中具有大致彎曲的形狀。斜槽20優(yōu)選地是成角度的(銳利地彎曲)，但是也可為弧形的(緩和地彎曲)。因此，斜槽本體具有上部46和下部48，這兩部分分別具有不同的縱向軸線，如圖1中所示。進(jìn)一步如圖1中所示，上部46大致為圓柱形，并且在其上游端處形成斜槽入口 50。上部46限制塊體材料在撞擊在斜槽20上之后在上部46內(nèi)部沿著第一方向Dl流動(dòng)。另一方面，在其下游端處形成斜槽出口 52的下部48限制塊體材料沿著不同的第二方向D2從上部46流至出口 52，該第二方向在豎直平面內(nèi)相對于第一方向Dl成一個(gè)角度。更具體而言，在豎直平面中，相對于如圖1中所示的豎直線(軸線A)，方向D2處于比方向Dl小的陡峭角度。為了充分的效果(見下文)，在豎直平面中，第一和第二方向Dl、D2之間的角度a優(yōu)選地不大于165°，例如，在135° -160°的范圍內(nèi)。進(jìn)一步根據(jù)本發(fā)明，如圖1中最佳所示，斜槽本體的上部46在傾斜軸34的軸線B上安裝在管狀支撐件30內(nèi)部，從而其入口 50設(shè)置在管狀支撐件30的下邊緣38上方。因此，使斜槽20傾斜所需要的力矩大幅減小，并且如與在轉(zhuǎn)子內(nèi)具有橢圓形凹槽的傳統(tǒng)裝料裝置相比時(shí)將理解的，轉(zhuǎn)子16中的開口(如由管狀支撐件30內(nèi)部的敞開剖面所限定的)可保持相對小。為了盡管在管狀支撐件30內(nèi)部可用于上部46的傾斜角度受限制也確保足夠大的裝料半徑，斜槽20被提供有上述彎曲形狀。因此，即使在圍繞軸線B的樞轉(zhuǎn)角度相對小時(shí)，由于方向Dl和D2之間的偏差角a，所以實(shí)現(xiàn)相當(dāng)大的徑向偏移。作為另一個(gè)益處，從供料器噴嘴42下落在斜槽20上的材料的加速距離減小。實(shí)際上，如圖1中所示，斜槽本體的上部46優(yōu)選地安裝在管狀支撐件30內(nèi)部，從而供料器噴嘴42到達(dá)斜槽本體的入口 50中。為了為彎曲的斜槽20提供機(jī)械剛度，斜槽本體的上部46包括環(huán)形封閉安裝頭54，該安裝頭形成入口 50并且具有任何合適已知形狀(例如，鴨嘴形)的兩個(gè)沿直徑相對的安裝件(未示出)，以允許將斜槽20可靠地安裝至齒輪32的底座36。實(shí)際上，已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)安裝頭54在入口 50處具有大約為管狀支撐件30的內(nèi)徑的65%-75%的外徑時(shí)，并且優(yōu)選地，供料器噴嘴42具有為管狀支撐件30的內(nèi)徑的35%-50%的外徑時(shí)，可實(shí)現(xiàn)無阻礙且充足的樞轉(zhuǎn)范圍。反之亦然，供料器噴嘴42所需要的直徑?jīng)Q定管狀支撐件30和安裝頭54的合適尺寸。如圖1中進(jìn)一步所示，環(huán)形封閉安裝頭54后面是大致圓柱形外殼。安裝頭和外殼都具有第一縱向軸線，對于圓柱形上部46，該第一縱向軸線與方向Dl平行。下部48又優(yōu)選地具有用于額外的穩(wěn)定性的周向封閉外罩(jacket)。如圖1中所示，形成下部48的外罩優(yōu)選地朝著出口 52例如以錐形漸縮，以用于流動(dòng)的額外集中。然而，在后一種情況中，下部的縱向軸線并非與下部48內(nèi)部的流動(dòng)方向D2完全平行。然而，縱向軸線必然以與第一和第二方向D1、D2之間的角度a大致對應(yīng)的角度設(shè)置，如圖1中所示。為了能夠使斜槽20樞轉(zhuǎn)至更大的傾斜位置(為了以更大的半徑裝料)，如圖1中所示，斜槽20具有凹槽56，該凹槽能夠使斜槽20傾斜至管狀支撐件30的下邊緣38進(jìn)入凹槽56中的位置。換言之,在下邊緣38位于斜槽部分46、48的一個(gè)或兩個(gè)包絡(luò)內(nèi)的位置處,斜槽20具有凹槽56。由于下面變得顯而易見的原因，裝料裝置10優(yōu)選地構(gòu)造成使得由齒輪32及其軸34的位置限定的傾斜軸線B豎直地設(shè)置在安裝凸緣14上方。軸線B位于例如安裝凸緣上方的至少為外殼12的總高度的10%、更優(yōu)選地至少為20%的豎直高度處。實(shí)際上，如圖1中所示，平的下護(hù)罩22設(shè)置在安裝凸緣14的水平面上方。因此，傾斜齒輪32設(shè)置在安裝凸緣14的水平面上方。更具體而言，斜槽20可安裝至其上的底座36也設(shè)置在安裝凸緣14的水平面上方。因此，作為一個(gè)益處，通過比較圖2和圖3最佳地示出，例如在維修干預(yù)期間，每個(gè)齒輪32可使用具有大致水平導(dǎo)軌的導(dǎo)軌單元58以簡單的方式移除或安裝。因此，每個(gè)傾斜齒輪32具有相關(guān)的永久地安裝或可移除的輥?zhàn)?0，這些輥?zhàn)优c導(dǎo)軌單元58配合，以用于從外殼12中移除傾斜齒輪32。最后，如將理解的是，所提出的構(gòu)造允許轉(zhuǎn)子16上的暴露水平表面最小化或者甚至完全消除。而且，這在無需增大必須據(jù)此設(shè)計(jì)齒輪32的額定轉(zhuǎn)矩的情況下實(shí)現(xiàn)。相反，通過使斜槽20的上部46升高至支撐底座36的高度，甚至大幅減小轉(zhuǎn)矩。說明10分配裝置12固定外殼14安裝凸緣16 轉(zhuǎn)子18滾柱軸承20分配斜槽22固定下護(hù)罩24內(nèi)邊界26中心開口
28冷卻回路30管狀支撐件32傾斜齒輪34傾斜軸36 底座38下邊緣40連接凸緣42供料器噴嘴44冷卻罩46 上部48 下部50 入口52 出口54安裝頭56 四槽58拆裝導(dǎo)軌單元60 輥?zhàn)?br> 權(quán)利要求
1.一種用在冶金反應(yīng)器且特別是鼓風(fēng)爐的裝料設(shè)備中的分配裝置，所述裝置構(gòu)造成用于使分配斜槽旋轉(zhuǎn)并樞轉(zhuǎn)，并且所述裝置包括 固定外殼、由所述外殼支撐以能圍繞旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子、以及安裝至所述轉(zhuǎn)子的分配斜槽； 所述固定外殼包括固定下護(hù)罩，所述固定下護(hù)罩具有界定中心開口的內(nèi)邊界，所述中心開口的中心位于所述旋轉(zhuǎn)軸線上，所述護(hù)罩從所述中心開口向外延伸，以用于保護(hù)所述外殼的內(nèi)部免受來自所述反應(yīng)器內(nèi)部的熱； 所述轉(zhuǎn)子包括管狀支撐件，所述管狀支撐件與所述旋轉(zhuǎn)軸線共軸地布置并且具有至少一個(gè)傾斜齒輪和兩個(gè)傾斜軸，所述傾斜軸穿過所述支撐件并且限定與所述旋轉(zhuǎn)軸線垂直的傾斜軸線；其中 -所述管狀支撐件向下延伸至所述下護(hù)罩并且具有布置在所述下護(hù)罩的所述內(nèi)邊界處的下邊緣； -所述斜槽本體具有彎曲形狀并且包括 上部，所述上部具有入口并且限制塊體材料沿著第一方向流動(dòng)，以及下部，所述下部具有出口并且限制塊體材料沿著第二方向流動(dòng)，所述第二方向在豎直平面中相對于所述第一方向成一角度； -所述斜槽本體的所述上部在所述管狀支撐件內(nèi)部安裝至所述傾斜軸，并且所述上部的入口布置在所述管狀支撐件的所述下邊緣上方； -所述斜槽本體的所述上部包括環(huán)形封閉安裝頭，所述環(huán)形封閉安裝頭形成所述入口并且具有兩個(gè)沿直徑相對的安裝件； -所述傾斜軸每個(gè)具有與一個(gè)所述安裝件配合的相應(yīng)底座； -所述環(huán)形封閉安裝頭具有第一縱向軸線并且形成所述入口， -所述下部包括周向封閉外罩，所述周向封閉外罩具有第二縱向軸線并且終止在所述出口處，所述縱向軸線以與所述第一方向和所述第二方向之間的所述角度大致對應(yīng)的角度布置；并且 -所述斜槽本體中設(shè)置有凹槽，所述凹槽允許所述斜槽傾斜至升高位置，在所述升高位置中，所述管狀支撐件的所述下邊緣進(jìn)入所述凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分配裝置，其特征在于，所述管狀支撐件具有環(huán)形上連接凸緣、圓形下邊緣，并且以柱形從所述連接凸緣延伸至所述圓形下邊緣。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分配裝置，其特征在于，所述固定外殼包括供料器噴嘴，所述供料器噴嘴在所述管狀支撐件內(nèi)部與所述旋轉(zhuǎn)軸線共軸地布置，以用于將裝料供給到所述分配斜槽上，所述斜槽本體的所述上部安裝在所述管狀支撐件內(nèi)部，以使所述供料器噴嘴到達(dá)所述斜槽本體的所述入口中。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的分配裝置，其特征在于，所述固定外殼包括固定冷卻罩，所述固定冷卻罩布置在所述供料器噴嘴與所述管狀支撐件之間，并且成形為在向下方向上從相鄰的所述供料器噴嘴向相鄰的所述管狀支撐件變寬。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的分配裝置，其特征在于，所述環(huán)形封閉安裝頭在所述入口處具有大約為所述管狀支撐件的內(nèi)徑的65-75%的外徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的分配裝置，其特征在于，所述供料器噴嘴具有為所述管狀支撐件的內(nèi)徑的35-50%的外徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的分配裝置，其特征在于，所述安裝頭大致為柱形，并且所述周向封閉外罩大致為錐形以朝著所述出口漸縮。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配裝置，其特征在于，所述第一方向和所述第二方向之間的所述角度在豎直平面中不大于165°。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配裝置，其特征在于，所述固定下護(hù)罩大致水平且為圓盤形，并且包括冷卻回路。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的分配裝置，其特征在于，所述固定下護(hù)罩具有至少為所述管狀支撐件的徑向范圍的40%的徑向范圍。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配裝置，其特征在于，所述外殼具有圓形底部凸緣，以用于將所述外殼安裝至冶金反應(yīng)器的頂部開口，特別是安裝至鼓風(fēng)爐的爐喉，并且所述傾斜軸線豎直地布置在所述安裝凸緣上方。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分配裝置，其特征在于，所述傾斜軸線布置在所述安裝凸緣上方的至少為所述外殼的總高度的10%的豎直高度處。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分配裝置，其特征在于，所述傾斜軸線布置在所述安裝凸緣上方的至少為所述外殼的總高度的20%的豎直高度處。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的分配裝置，其特征在于，所述下護(hù)罩布置在所述安裝凸緣上方，并且所述轉(zhuǎn)子具有兩個(gè)傾斜齒輪，每個(gè)齒輪具有帶底座的相應(yīng)傾斜軸，所述底座與所述斜槽本體的安裝件配合，所述齒輪在所述下護(hù)罩上方支撐在所述管狀支撐件上，以使所述底座布置在所述安裝凸緣上方。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的分配裝置，其特征在于，每個(gè)所述傾斜齒輪包括輥?zhàn)?，以用于在大致水平的?dǎo)軌上從所述外殼中移除所述傾斜齒輪。
16.根據(jù)權(quán)利要求11至15中任一項(xiàng)所述的分配裝置，其特征在于，所述下護(hù)罩從所述管狀支撐件的所述下邊緣朝著所述底部凸緣延伸。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的分配裝置，其特征在于，所述下護(hù)罩在至少為所述底部凸緣的半徑的20%的徑向范圍內(nèi)從所述管狀支撐件的所述下邊緣朝著所述底部凸緣延伸。
18.一種鼓風(fēng)爐，包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的分配裝置。
全文摘要
本發(fā)明提出了一種用于裝料設(shè)備的分配裝置，該分配裝置具有旋轉(zhuǎn)并樞轉(zhuǎn)的分配斜槽。裝置具有可旋轉(zhuǎn)地支撐可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)(下文中轉(zhuǎn)子)的外殼，斜槽安裝至該可旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)。外殼在其下端處具有固定防熱護(hù)罩。護(hù)罩具有由內(nèi)邊界界定的中心開口。護(hù)罩徑向向外地延伸，并且保護(hù)外殼的內(nèi)部免受熱。另一方面，轉(zhuǎn)子具有與用于使斜槽樞轉(zhuǎn)的傾斜軸共軸在其旋轉(zhuǎn)軸線上的大致管狀支撐件。根據(jù)本發(fā)明，管狀支撐件以其下邊緣到達(dá)護(hù)罩內(nèi)的開口的邊界。而且，斜槽安裝成使得其上部位于管狀支撐件內(nèi)部，其入口位于支撐件的下邊緣上方。為了能夠?qū)⑿辈廴肟谶@樣直接安裝在轉(zhuǎn)子內(nèi)部，并且不減小徑向裝料范圍，斜槽被提供有彎曲形狀。因此，斜槽本體具有上部和下部，在該上部中，材料沿著第一方向流動(dòng)，在該下部中，材料沿著轉(zhuǎn)向的第二方向流動(dòng)。斜槽本體的上部包括環(huán)形封閉安裝頭，該安裝頭形成入口并且具有兩個(gè)沿直徑相對的安裝件。傾斜軸每個(gè)具有與一個(gè)安裝件配合的相應(yīng)底座。環(huán)形封閉安裝頭具有第一縱向軸線并且形成入口。下部包括周向封閉外罩，該外罩具有第二縱向軸線并且終止在出口處，縱向軸線以與第一和第二方向之間的角度大致對應(yīng)的角度布置。斜槽本體中設(shè)置有凹槽，該凹槽允許斜槽傾斜至升高位置，在該升高位置中，管狀支撐件的下邊緣進(jìn)入凹槽。
文檔編號F27D3/10GK103069241SQ201180038693
公開日2013年4月24日 申請日期2011年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月6日
發(fā)明者埃米爾·洛納爾迪, 居伊·蒂倫, 多米尼克·羅切基, 澤格·德維萊特, 杰夫·萬迪威尼 申請人:保爾伍斯股份有限公司