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高儲能密度電容器用氧化鋁基電介質(zhì)薄膜及其制備方法與流程

文檔序號:12724688閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及高儲能密度電容器用氧化鋁基電介質(zhì)薄膜及其制備方法,其化學(xué)組成成分為Al2Bi2?xSiyOz,其中:x=0.005~0.1,y=0.02,采用溶膠凝膠法制備得到氧化鋁基電介質(zhì)薄膜。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明制備得到的氧化鋁基電介質(zhì)薄膜耐壓在80~200V之間可調(diào)控,擊穿之前漏導(dǎo)低于1μA,同時介電常數(shù)高于傳統(tǒng)氧化鋁薄膜,可用于各種高儲能密度及高壓電容器。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明制備工藝簡單,薄膜致密均勻,介電性能優(yōu)良。

技術(shù)研發(fā)人員:姚曼文;蘇振;李菲;彭勇;陳建文;姚熹
受保護(hù)的技術(shù)使用者:同濟(jì)大學(xué)
文檔號碼:201710034897
技術(shù)研發(fā)日:2017.01.17
技術(shù)公布日:2017.06.23

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