用于處理、加熱和冷卻襯底的方法和裝置，在該襯底上由工具在熱可流動材料涂層中制得圖案，包括襯底運輸、工具擱置、工具張緊以及工具退回相關(guān)文獻(xiàn)這里主張了于2011年9月23日提交的題名為“METHODSANDAPPARATIFORHANDLING,HEATINGANDCOOLINGASUBSTRATEUPONWHICHAPATTERNISMADEBYATOOLINHEATFLOWABLEMATERIALCOATING,INCLUDINGSUBSTRATETRANSPORT,TOOLLAYDOWN,TOOLTENSIONING,ANDTOOLRETRACTION”(“用于處理、加熱和冷卻襯底的方法和裝置，在該襯底上由工具在熱可流動材料涂層中制得圖案，包括襯底運輸、工具擱置、工具張緊以及工具退回”)的美國臨時申請No.61/538,542的權(quán)益，且其整個公開通過引用而全部結(jié)合在本文中。指定美國的PCT申請于同日一起提交，其以1366-0066-0070PCT的代理人卷號通過美國專利和商標(biāo)局電子送件系統(tǒng)進(jìn)行提交，題名為“TECHNIQUESFORIMPROVEDIMPRINTINGOFSOFTMATERIALONSUBSTRATEUSINGSTAMPINCLUDINGUNDERFILLINGTOLEAVEAGAPANDPULSINGSTAMP”(“用于利用包括不填滿以保留間隙的印模和脈動印模在襯底上改進(jìn)壓印軟材料的技術(shù)”)，該PCT申請要求享有于2011年9月23日提交的相同標(biāo)題的美國臨時申請No.61/538,489的優(yōu)先權(quán)。該PCT申請在下文中被援引為共同待決申請，并通過引用而全部結(jié)合在本文中。優(yōu)先權(quán)臨時申請也因而通過引用而全部結(jié)合在本文中。介紹在2008年2月15日以EmanuelM.Sachs、JamesF.Bredt和麻省理工學(xué)院的名義提交的題名為“SOLARCELLWITHTEXTUREDSURFACES”(“帶有紋理表面的太陽能電池”)的指定美國的專利合作條約申請No.PCT/US2008/002058中公開了某些處理機(jī)制和架構(gòu)，其國家階段是于2012年9月4日以美國專利No.8257998發(fā)布的美國專利申請No.12/526,439，并且還主張享有兩個于2007年2月15日提交的臨時美國申請No.US60/901,511以及于2008年1月23日提交的No.US61/011,933的優(yōu)先權(quán)。所有PCT申請、美國專利、專利申請和兩個美國臨時申請都通過引用而全部結(jié)合在本文中。在這些申請中公開的技術(shù)在本文中被總稱為自對準(zhǔn)電池(SAC)技術(shù)。在2009年4月17日以BenjaminF.Polito、HollyG.Gates和EmanuelM.Sachs以及麻省理工學(xué)院和1366工業(yè)公司的名義提交的題名為“WEDGEIMPRINTPATTERNINGOFIRREGULARSURFACE”(“不規(guī)則表面的楔形壓印圖案形成”)的指定美國的專利合作條約申請No.PCT/US2009/002423中公開了某些另外的處理方法和裝置，其國家階段是美國專利申請No.12/937,810，并且還主張享有兩個于2008年4月18日提交的臨時美國申請No.US61/124,608以及于2008年12月12日提交的No.US61/201,595的優(yōu)先權(quán)。所有PCT申請、美國專利申請和兩個美國臨時申請都通過引用而全部結(jié)合在本文中。在該段落提及的申請中公開的技術(shù)在本文中被總稱為楔形壓印技術(shù)或楔壓(wedging)技術(shù)，但在某些情況下可使用具有不同于楔形的形狀的突部。相關(guān)申請在下文中被稱為楔壓申請。簡要地說，這種楔形壓印技術(shù)包括方法。用于光伏和其它用途的帶有特定紋理的形成圖案的襯底被制成。參照圖1、2、3、4和5及6所示，襯底通過將柔性印模110的突部112壓印到抗蝕劑材料的薄層202上而制成，薄層202覆蓋襯底晶片204。使用的印模工具具有材料(通常彈性體)，其足夠軟，使得工具在與襯底或晶片204接觸時變形，之前已在襯底或晶片上涂敷了抗蝕劑涂層202。圖3顯示了剛與抗蝕劑202的表面203接觸的印模110的突部112?？刮g劑在加熱時變軟，并在熱量和壓力的條件下移離突部112處的壓印位置，揭露突部附近的襯底區(qū)域。(抗蝕劑可在突部與抗蝕劑接觸之前或之后或前后兩者以及該過程中被加熱)。襯底然后隨印模110一起就地冷卻，如圖5中所示除去印模，留下襯底區(qū)域522暴露于孔521下面，抗蝕劑已從孔中移走。襯底進(jìn)一步經(jīng)受某些成型處理，通常是蝕刻處理。襯底的暴露部分522通過例如蝕刻作用除去，并且由抗蝕劑保護(hù)的襯底部分保留下來，其分別如圖6中的622(蝕刻掉)和623(未蝕刻或較少蝕刻)所示。對于某些應(yīng)用，印模突部還可在與抗蝕劑材料接觸時不變形，而是，簡單地由于其體積，它們置換足夠抗蝕劑，使得蝕刻可發(fā)生。例如，這可發(fā)生在突部扁平末端時，并且簡單地通過迫使它們進(jìn)入抗蝕劑材料中，抗蝕劑會移離其原始位置。典型的襯底是硅，并且典型的抗蝕劑是蠟或蠟、樹脂和松脂的混合物。印?？梢辉僦貜?fù)使用。印模的突部可為離散的、間隔開的，例如所示的錐體元件112?；蛘?，它們可為擴(kuò)展的楔形元件，例如楔壓申請中所示?；蛘撸鼈兛蔀槠浣M合或任何其它合適的形狀，其可造成抗蝕劑材料移離原始覆蓋條件。因而，印模用于對工件上的抗蝕劑層形成圖案，其然后經(jīng)受不同的成型步驟以使工件成型。工件然后可用于光伏或其它用途?？商峁┙o工件的紋理包括延伸的槽、離散的間隔開的凹坑和其組合、以及其中間體?；趬喊宓募夹g(shù)可用于對工件形成圖案。粗糙且不規(guī)則的工件襯底可通過利用擴(kuò)展的印模元件來適應(yīng)，以確保印模的成型部分與工件的表面接觸。在楔壓申請和上文中所述的方法在此被稱為楔形壓印或楔壓。有利的是用于施加這種圖案的技術(shù)能夠相對快速地生產(chǎn)形成圖案的元件。還有利的是在不損壞襯底的條件下提供這種元件。如果在壓印圖案時將太大力施加至襯底，這種損傷就可能出現(xiàn)。損傷還可由于熱循環(huán)而出現(xiàn)，應(yīng)用熱循環(huán)以使可流動材料變軟以用于形成圖案，然后再次使其硬化以用于保持這種圖案。這種損傷還可由于工具與襯底分離而出現(xiàn)，襯底被可流動材料覆蓋。能夠加熱和冷卻襯底及其上面的可流動材料通常也是有利的。具有可快速加熱和/或冷卻襯底但不在晶片中引起不可接受應(yīng)力的加熱和冷卻系統(tǒng)將是有利的，應(yīng)力可造成晶片破裂。如果在工具與涂敷抗蝕劑的晶片之間捕獲了空氣，可能出現(xiàn)其它潛在的問題。捕獲的空氣引起難以預(yù)測和控制的不希望的壓力狀況，因為這種捕獲的空氣還可引起虛假的非均勻壓力位置和因而在抗蝕劑中形成的孔尺寸的不規(guī)則性。有利的是，在工具和抗蝕劑層之間具有最小且理想地沒有捕獲的空氣。重要的還有能夠安全且快速地將襯底移動到處理工位，然后在對其進(jìn)行處理時保持襯底工件，并且安全且快速地將其移至后續(xù)的處理工位。重要的還有能夠?qū)⒂∧Ｊ┘又烈r底，然后從襯底將其除去而不損壞襯底且還不干擾可流動材料，該材料將要形成圖案或者剛剛形成圖案。因為工具在處理期間被加熱和冷卻，因而可出現(xiàn)另一問題。這可引起尺寸變化，其然后將引起抗蝕劑材料中所制成圖案的不希望的尺寸差異。因而，期望具有一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)可快速且安全地操縱襯底，將其移動到處理工位，然后在對其進(jìn)行處理時保持襯底工件，且然后安全且快速地將其移動至后續(xù)的處理工位。還期望具有一種方法，其中，在可流動抗蝕劑材料與印模工具之間的腔體中沒有隨著印模工具的施加而捕獲空氣或者至多只捕獲最少的空氣。還期望提供一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)可快速加熱和冷卻襯底及其上面的可流動抗蝕劑材料，而不使襯底破裂或產(chǎn)生不可接受的應(yīng)力，但仍在商業(yè)可接受的速度下。還期望能夠在形成圖案后從抗蝕劑材料除去工具，而不損壞襯底或新成形的圖案。還期望提供一種系統(tǒng)，其中加熱和冷卻工具不會引起在可流動抗蝕劑材料中提供的圖案的尺寸變化或不規(guī)則性。還期望發(fā)展出一種可靠且可復(fù)制的系統(tǒng)。這里公開的本發(fā)明的這些及其它目的和方面將參照附圖得到更好的理解，其中。附圖說明圖1示意性地顯示了用于楔壓的印模(現(xiàn)有技術(shù))；圖2示意性地顯示了圖1的印模和涂敷抗蝕劑的襯底，襯底有待被印模形成圖案(現(xiàn)有技術(shù))；圖3示意性地顯示了圖2的印模和襯底，其中印模的突部的頂部剛與抗蝕劑相接觸(現(xiàn)有技術(shù))；圖4示意性地顯示了以填充模式操作的印模和襯底，其中印模的突部變形并被壓靠在襯底上，并且抗蝕劑基本上填滿襯底和印模本體之間的空間(現(xiàn)有技術(shù))；圖5示意性地顯示了印模和襯底，其中形成圖案的抗蝕劑在用印模楔壓之后涂敷在襯底上(現(xiàn)有技術(shù))；圖6示意性地顯示了蝕刻之后的襯底，其中形成圖案的抗蝕劑掩模如圖5中所示(現(xiàn)有技術(shù))；圖7A示意性地在橫截面圖中顯示了處于本發(fā)明處理步驟中的狀態(tài)下的裝置，其中涂敷涂層的襯底被帶入卡盤上的合適位置，準(zhǔn)備通過柔性印模形成圖案；圖7B顯示了圖7A的裝置，其中襯底通過真空保持在卡盤上的合適位置，并且印模被拉向受熱板；圖7C顯示了圖7A的裝置，其中印模被充氣，印模中心開始按壓在襯底的中心上；圖7D顯示了圖7A的裝置，其中較大但仍非印模的完整部分按壓在襯底上；圖7E顯示了圖7A的裝置，其中印模被完全按壓在襯底的整個范圍上，并且還超過襯底的范圍；圖7F顯示了圖7A的裝置，其中印模開始通過真空壓力撤回，遠(yuǎn)離卡盤，但仍在印模開始從襯底本身剝離之前；圖7G顯示了圖7A的裝置，其中印模被進(jìn)一步剝離，但仍未完全脫離襯底；圖7H顯示了圖7A的裝置，其中印模被更進(jìn)一步剝離，但幾乎不完全脫離襯底；圖8A示意性地在橫截面圖中顯示了處于本發(fā)明處理步驟中的狀態(tài)下的裝置，類似于圖7A-7H中所示，其還包括居中定位的柔性囊體；圖8B顯示了圖8A的裝置，其中襯底通過真空保持在卡盤上的合適位置，并且印模和中心囊體被拉向受熱板；圖8C顯示了圖8A的裝置，其中中心囊體被充氣，印模中心開始按壓在襯底的中心上；圖8D顯示了圖8A的裝置，其中印模的囊體也被充氣，使得印模的較大但非完整部分按壓在襯底上；圖8E顯示了圖8A的裝置，其中印模被完全按壓在襯底的全部范圍上且還超過襯底的范圍，并且中心囊體撤回至其初始靜止位置；圖8F顯示了圖8A的裝置，其中印模開始通過真空壓力撤回，遠(yuǎn)離卡盤，但仍在印模開始從襯底本身剝離之前；圖9示意性地在橫截面平面圖中顯示了本發(fā)明的卡盤，其顯示內(nèi)部氣室和流體流動導(dǎo)向器，該導(dǎo)向器用于引導(dǎo)加熱和冷卻流體，帶有所示用于加熱的流體流型；圖9A示意性地在沿著剖面線A-A的橫截面圖中顯示圖9的卡盤；圖10示意性地在橫截面平面圖中顯示了圖9的卡盤，帶有所示用于冷卻的流體流型；圖10A示意性地在沿著剖面線A-A的橫截面圖中顯示圖10的卡盤；且圖11示意性地在除去頂板的條件下從上面以某一角度看去的局部橫截面視圖中顯示了圖9的卡盤，其顯示了內(nèi)部氣室和流體流動導(dǎo)向器，該導(dǎo)向器用于引導(dǎo)加熱和冷卻流體。概要本發(fā)明的一種方法是利用多孔皮帶運送工件的方法，該皮帶將工件傳送到卡盤，工件通過真空或差動氣壓而保持在卡盤上。本發(fā)明的裝置是一種例如由多孔PTFE制成的多孔皮帶、以及裝配孔的卡盤，由此可提供差動氣壓。本發(fā)明的另一方法是在柔性印模施加到工件上之前通過例如差動氣壓或真空壓力將印模拉向加熱板從而預(yù)加該熱柔性印模的方法。本發(fā)明的相關(guān)方法是一種將柔性印模施加于工件的方法，通過首先使印模的中心接觸工件的中心，然后促使接觸線從該公共中心徑向向外移動，從而防止或至少最大限度地減少空氣捕獲在印模與被覆蓋工件之間的腔體中。印模可通過對印模的側(cè)面施加空氣壓力而充氣，印模之前已通過壓差從工件拉向加熱板，例如通過對攜帶印模的柔性囊體充氣，或者通過利用居中定位的補(bǔ)充囊體，其位于柔性印模和囊體的后面。另一發(fā)明是一種工作站，工件通過差動氣壓而固定至工作站，該工作站具有墊片，其與相鄰的工件用位置間隔開。墊片具有表面，該表面可大致與工件共面，或者在一個實施例中略高于工件，以通過使印模從工件橋接至墊片而非披蓋在工件邊緣周圍，從而防止印模密封在工件邊緣周圍。墊片還可具有顯著高于工件表面的頂面，在此情況下，其定位成遠(yuǎn)離工件。在工作站提供這種墊片的方法也是一項發(fā)明。本發(fā)明的另一方法是在加熱之前預(yù)張緊柔性印模，使得印模在加熱和冷卻時不改變尺寸，而是經(jīng)歷內(nèi)部應(yīng)力的變化。因而，印模上圖案的空間尺寸保持恒定，而不管其溫度如何。本發(fā)明的另一方法是在形成圖案后從工件除去形成圖案的印模的方法，首先在工件的轉(zhuǎn)角和外邊緣處，之后逐漸地向內(nèi)朝著工件和印模的共享中心將印模剝離工件。本發(fā)明的又一方法是以這樣一種方式加熱工件，使其外周邊始終處于與工件中心的溫度相等或更高的溫度下。本發(fā)明的相關(guān)方法是以這樣一種方式冷卻工件，使其外周邊始終處于與工件中心的溫度相等或更高的溫度下。加熱可通過將工件固定至帶通道卡盤來實現(xiàn)，卡盤具有連接至中心和周邊導(dǎo)管的徑向通道，以及通過使熱水傳遞到周邊導(dǎo)管，然后沿著徑向通道并通過中心導(dǎo)管離開卡盤。冷卻可通過反方向傳遞較冷卻的水來進(jìn)行。本發(fā)明的裝置是例如上面所述的卡盤。在本文獻(xiàn)中，上面已稱為印模的物件還可被稱為工具。突出并用于在抗蝕劑材料中制作壓印的印模的元件通常被稱為突部。它們還可被稱為壓頭、凸起物、楔形物和錐體。上面提供抗蝕劑材料然后形成圖案的襯底通常被稱為襯底。其還可被稱為晶片或工件。在襯底上提供的材料可被稱為抗蝕劑或可流動材料，或者簡單地稱為材料。詳細(xì)描述[綜述]圖7A-7H示意性地顯示了用于楔壓的裝置的橫截面圖，并且示出代表性的處理序列。卡盤707加熱和冷卻涂敷抗蝕劑的襯底晶片701。(在圖7A-7F中未顯示但在圖9、9A、10和10A顯示了用于加熱和冷卻卡盤的內(nèi)部流動通道)。多孔皮帶703將涂敷抗蝕劑的晶片701運送到和運離卡盤?？ūP707由隔熱支架710支撐。如圖7所示，真空貫穿真空通道708、真空氣室709和卡盤中的真空通道711并穿過多孔皮帶703被引入，以保持晶片靠在工件工位處的皮帶和卡盤上。工件在圖7及以下中的工位處于合適位置。該壓制真空在晶片和卡盤之間提供良好的熱接觸，且隨后將有助于將工具剝離晶片。柔性工具/印模706被夾在預(yù)張緊的環(huán)712中，使得工具是平坦的，直到通過通道704對其施加真空或壓力。受熱的頂板705可用于通過在工具和壓板之間施加真空以將工具拉靠至壓板上而將工具預(yù)熱至指定溫度，并在兩者之間形成良好熱接觸，如圖7中所示。受熱的頂板705可整體或部分地由透明材料例如玻璃制成，以便于處理過程的觀察和控制。工具可攜帶在柔性膜上，柔性膜是可充氣的，例如囊體。或者，工具可本身與組成囊體的柔性膜構(gòu)成整體。在成形操作開始時，在頂部705與工具之間施加壓力，造成工具擱置在涂敷抗蝕劑的晶片701上，如圖7C-E中所示。例如，合適的壓力將在約0.02atm表壓至約0.5atm表壓之間，優(yōu)選約0.1atm表壓。如圖7C所示，首次接觸可優(yōu)選地在晶片的中心，并且工具繼續(xù)擱置，接觸區(qū)域如圖7D和圖7E中所示徑向向外移動。通過在工具之前徑向擠出空氣，徑向擱置避免或至少最大限度地減小了印模與涂敷涂層的晶片之間的空氣捕獲泡。在使工具基本上在晶片整個區(qū)域與晶片完全接觸之后，隨著突起的工...