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制備個人護理制品的方法_4

文檔序號:9239478閱讀:來源:國知局
繞的個人護理組合物22的分立區(qū)域。作為另外一種選擇,在基底10與平坦的支撐 表面42接觸時,可結(jié)合第二基底,或可將涂覆基底10從支撐表面42移除。
[0059] 圖10示出供最終消費者使用的最終個人護理制品優(yōu)選實施例的局部分解圖。由 本文所述制程形成個人護理組合物22的分立區(qū)域。將基底10切成允許消費者施用個人護 理組合物22的形狀202。將第二基底30切成形狀208以形成卡片,攜帶一種或多種基底 202和個人護理組合物22。個人護理組合物22和基底202優(yōu)選為不同的形狀,基底區(qū)域202 大于個人護理組合物22。這將提供供消費者握持未涂覆個人護理組合物的基底的區(qū)域。第 二基底208的形狀優(yōu)選不同于并且大于基底202的形狀。圖10中的形狀僅為了進行示意 性的說明。許多其它形狀是可行的。
[0060] 參見圖11,涂覆復合纖維網(wǎng)80以箭頭108方向行進??墒褂玫?00在基底10中 切割出形狀202。刀200優(yōu)選為吻切刀,其將切穿基底10,但不切穿第二基底30,以將第一 基底切成比個人護理組合物涂覆區(qū)域大并且有區(qū)別的區(qū)域,而不切割第二基底。刀200優(yōu) 選為轉(zhuǎn)動模具切割器,在刀片末端與砧座之間具有足夠的余隙,以僅能夠吻切基底202。切 割形狀202余下的修剪材料204可從制程中移除以循環(huán)利用或棄去。
[0061] 可使用第二刀206將形狀208切成第二基底30,使得第二基底大于第一基底中的 切割區(qū)域。刀206優(yōu)選為轉(zhuǎn)動模具切割器,將其設(shè)置以完全切穿第二基底30。切割形狀208 余下的修剪材料207可從制程中移除以循環(huán)利用或棄去。最終產(chǎn)品卡片208可以箭頭109 方向,經(jīng)由傳送裝置或其它裝置傳送離開。最終產(chǎn)品卡片208可隨后被包裝于第二包裝如 小袋、袋、托盤或紙盒中。優(yōu)選地,可在用惰性氣體或氮氣將小袋內(nèi)的所有氧氣吹出后,將卡 片208包裝于箔袋中。這將保護個人護理組合物22以防止因暴露于氧氣而降解。
[0062] 本文所公開的量綱和值不應(yīng)理解為嚴格限于所引用的精確值。相反,除非另外指 明,每個這樣的量綱旨在表示所述值以及該值附近的函數(shù)等效范圍。例如,所公開的量綱 "40mm"旨在表示"約40mm"。
[0063] 除非明確排除或換句話講有所限制,本文所引用的每個文獻包括任何交叉引用或 相關(guān)的專利或?qū)@暾垼瑩?jù)此全文均以引用方式并入本文。對任何文獻的引用均不是承認 其為本文公開的或受權(quán)利要求書保護的任何發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)、或承認其獨立地或以與任何 其它一個或多個參考文獻的任何組合的方式提出、建議或公開任何此類發(fā)明。此外,當本文 獻中術(shù)語的任何含義或定義與以引用方式并入的文獻中相同術(shù)語的任何含義或定義沖突 時,應(yīng)以本文獻中賦予該術(shù)語的含義或定義為準。
[0064] 盡管已用具體實施例來說明和描述了本發(fā)明,但是對那些本領(lǐng)域的技術(shù)人員顯而 易見的是,在不背離本發(fā)明的實質(zhì)和范圍的情況下可作出許多其它的改變和變型。因此,所 附權(quán)利要求書旨在涵蓋本發(fā)明范圍內(nèi)的所有此類改變和變型。
【主權(quán)項】
1. 一種將個人護理組合物涂覆到具有第一表面和第二表面的基底的至少一個分立處 理區(qū)域上的方法,其中在IHz的頻率和25°C的溫度下,經(jīng)由應(yīng)力受控振幅掃描測定,所述個 人護理組合物具有IOPa至2000Pa的屈服點,所述方法包括以下步驟: a. 將所述個人護理組合物施涂于所述基底的第一表面的一部分; b. 提供具有支撐表面的支撐構(gòu)件,其中所述基底的第二表面接觸所述支撐構(gòu)件的支撐 表面,所述支撐表面具有至少一個對應(yīng)于所述處理區(qū)域的腔體; c. 提供與所述基底的第一表面接觸的擦拭構(gòu)件; d. 使在其第一表面上具有所施涂的個人護理組合物的所述基底變形進入所述腔體,使 得因所述基底變形進入腔體而產(chǎn)生的所得應(yīng)力小于所述基底的彈性極限; e. 在所述支撐構(gòu)件與所述擦拭構(gòu)件之間提供相對運動,使得移除過量的個人護理組合 物,并且使所述基底涂覆有基本上對應(yīng)于所述腔體的分立區(qū)域的個人護理組合物;其中所 述基底未永久性變形;以及 f. 從所述支撐構(gòu)件移除所述基底。2. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述個人護理組合物為脫毛劑組合 物。3. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述支撐構(gòu)件為能夠旋轉(zhuǎn)的,優(yōu)選地 其中所述支撐構(gòu)件為圓柱形的。4. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述支撐構(gòu)件與施加于所述腔體的負 壓同時存在。5. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中優(yōu)選采用刮擦、洗擦、抽吸、溶劑噴射、 溶劑沉浸以及它們的混合或組合,更優(yōu)選采用由所述擦拭構(gòu)件刮擦,甚至更優(yōu)選采用由所 述擦拭構(gòu)件刮擦和抽吸,將過量的個人護理組合物至少部分地從基底移除,使得除了所述 處理區(qū)域以外所述基底基本上不含個人護理組合物。6. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中在將所述涂覆基底從所述支撐構(gòu)件移 除之前,放置第二基底的第一表面以與所述涂覆基底接觸。7. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述擦拭構(gòu)件包括刀片。8. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述擦拭構(gòu)件形成1°至179°,優(yōu)選 10°至170°,優(yōu)選10°至70°,更優(yōu)選20°至55°,甚至更優(yōu)選30°至45°,并且還甚至 更優(yōu)選35°至40°的接觸角。9. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中采用真空將過量的個人護理組合物從 所述擦拭構(gòu)件移除。10. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中在使所述基底與所述支撐構(gòu)件接觸 之前,所述個人護理組合物以連續(xù)條帶形式施涂于所述基底的第一表面。11. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中每單位面積的所述涂覆區(qū)域的所述 個人護理組合物以〇? 300g/cm2至0? 001g/cm 2,更優(yōu)選0? 015g/cm2至0? 003g/cm 2,甚至更優(yōu) 選0? 080g/cm2至0? 005g/cm2,并且還甚至更優(yōu)選0? 05g/cm2至0? 005g/cm2的量設(shè)置于所述 基底上。12. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述基底具有5. 00g/cm至0. 08g/ cm,優(yōu)選 3. 00g/cm 至 0? 08g/cm,更優(yōu)選 I. 80g/cm 至 0? 10g/cm,甚至更優(yōu)選 0? 80g/cm 至 0? 15g/cm,并且還甚至更優(yōu)選0? 60g/cm至0? 25g/cm范圍內(nèi)的剛度。13. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述基底是水不可滲透的,優(yōu)選地其 中所述基底包含水不可滲透的材料,更優(yōu)選塑性片材,甚至更優(yōu)選聚烯烴,還甚至更優(yōu)選聚 乙烯,并且還更優(yōu)選高密度聚乙烯。14. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述方法還包括刀,所述刀在大于 且有別于由個人護理組合物涂覆的所述區(qū)域的區(qū)域中切割所述第一基底,而不切割所述第 二基底,并且其中第二刀在大于所述第一基底中的所述切割區(qū)域的區(qū)域中切割所述第二基 底。15. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法,其中所述支撐表面中的所述腔體包括具 有不均一深度的區(qū)域。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種將個人護理組合物涂覆到具有第一表面和第二表面的基底的至少一個分立處理區(qū)域上的方法,其中在1Hz的頻率和25℃的溫度下,經(jīng)由應(yīng)力受控振幅掃描測定,所述個人護理組合物具有10Pa至2000Pa的屈服點,所述方法包括將所述個人護理組合物施涂于基底的第一表面的一部分;提供具有支撐表面的支撐構(gòu)件,其中所述基底的第二表面接觸所述支撐構(gòu)件的支撐表面,所述支撐表面具有至少一個對應(yīng)于所述處理區(qū)域的腔體;提供與所述基底的第一表面接觸的擦拭構(gòu)件;使在其第一表面上具有所施涂的個人護理組合物的基底變形進入腔體,使得因基底變形進入腔體而產(chǎn)生的所得應(yīng)力小于基底的彈性極限;在所述支撐構(gòu)件與所述擦拭構(gòu)件之間提供相對運動,使得移除過量的個人護理組合物,并且使基底涂覆有基本上對應(yīng)于腔體的分立區(qū)域的個人護理組合物;其中所述基底沒有永久性變形;以及從所述支撐構(gòu)件移除所述基底。
【IPC分類】B65B41/16, B65B9/02, B65B61/06, B65B61/00, B65B9/04
【公開號】CN104955733
【申請?zhí)枴緾N201480005944
【發(fā)明人】C·T·帕普斯多夫, B·C·克倫肖
【申請人】寶潔公司
【公開日】2015年9月30日
【申請日】2014年1月24日
【公告號】CA2898918A1, EP2948376A1, US20140205741, WO2014116911A1
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