本發(fā)明涉及一種真空吸附滑動裝置。

背景技術(shù)：

在一些生產(chǎn)設(shè)備或生產(chǎn)線上，對一些板狀零部件需要進行運送或移動。而真空輸運的方法就是一種可采用的方式。有些板狀零部件如果人工用手操作會對板面造成污染或損傷，影響板的質(zhì)量，包括可能的靜電危害。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種真空吸附滑動裝置，該真空吸附滑動裝置可以利用真空吸附來輸運一些板形的零部件，對所輸運零部件的表面損傷小，沒有靜電危害，并且滑塊可以在滑軌上滑動，便于上料。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是：提供一種真空吸附滑動裝置，包括滑塊和升降板，所述升降板位于所述滑塊的上方，所述升降板與所述滑塊平行，所述滑塊的頂面上設(shè)置有一凹槽，所述真空吸附滑動裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴，所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板進行升降和水平運動的驅(qū)動裝置，所述滑塊設(shè)置有滑槽，所述滑槽與所述滑軌配合使所述滑塊可以在所述滑軌上滑動。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述升降桿為中空的管狀，所述升降桿的頂端連接有氣管，所述氣管內(nèi)充有負壓氣體。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述滑塊上設(shè)置有定位銷，所述被吸附板上設(shè)置有定位孔，所述定位銷與定位孔間隙配合。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述吸嘴與所述升降桿的所述中空部分連通。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的真空吸附滑動裝置可以利用真空吸附來輸運一些板形的零部件，對所輸運零部件的表面損傷小，沒有靜電危害，并且滑塊可以在滑軌上滑動，便于上料。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中：

圖1是本發(fā)明的真空吸附滑動裝置的實施例示意圖。

附圖中各部件的標記如下：1、滑塊，2、凹槽，3、被吸附板，4、升降板，5、升降桿，6、吸嘴，7、驅(qū)動裝置，8、氣管，9、滑軌，10、定位銷。

具體實施方式

下面將對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

請參閱圖1，本發(fā)明實施例包括：

一種真空吸附滑動裝置，包括滑塊1和升降板4，所述升降板4位于所述滑塊1的上方，所述升降板4與所述滑塊1平行，所述滑塊1的頂面上設(shè)置有一凹槽2，所述真空吸附滑動裝置所吸附的被吸附板3設(shè)置在所述凹槽2內(nèi)，所述升降板4上垂直設(shè)置有兩根升降桿5，所述兩根升降桿5的底端均設(shè)置有吸嘴6，所述升降板4上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板4進行升降和水平運動的驅(qū)動裝置7，所述滑塊1設(shè)置有滑槽，所述滑槽與所述滑軌9配合使所述滑塊可以在所述滑軌9上滑動。

優(yōu)選地，所述升降桿5為中空的管狀，所述升降桿5的頂端連接有氣管8，所述氣管8內(nèi)充有負壓氣體。

優(yōu)選地，所述滑塊1上設(shè)置有定位銷10，所述被吸附板3上設(shè)置有定位孔，所述定位銷10與定位孔間隙配合。

優(yōu)選地，所述吸嘴6與所述升降桿5的所述中空部分連通。

驅(qū)動裝置7驅(qū)動升降板4下降，升降板4帶動升降桿5和吸嘴6下降，吸嘴6壓住被吸附板3，在氣管8內(nèi)負壓氣體的作用下吸嘴6將被吸附板3吸附住。驅(qū)動裝置7驅(qū)動升降板4上升將被吸附板3提起并可以移走。整個過程不需要人工的手接觸被吸附板3，不會對被吸附板3造成表面污染或是靜電損害。

定位銷10對被吸附板3起定位作用，滑塊1在滑軌9上滑動，可以將滑塊1滑動到上料位置進行上料，安放被吸附板3。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。