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電子射線照射裝置的制造方法

文檔序號:11056939閱讀:309來源:國知局
電子射線照射裝置的制造方法
本發(fā)明涉及將電子射線照射在物品(被照射物)上來進行殺菌等處理的電子射線照射裝置,特別涉及可以抑制由電子射線的照射發(fā)生的X射線的量的電子射線照射裝置。

背景技術:
電子射線照射裝置將從電子射線發(fā)生裝置經(jīng)由照射窗釋放的電子射線照射在由輸送單元輸送的物品上,從而進行殺菌及其它處理。通常已知,當從該電子射線照射裝置釋放的電子射線被照射在設置有輸送單元的殺菌室或發(fā)生電子射線的真空室內(nèi)的金屬制部件上時,會產(chǎn)生X射線。已出現(xiàn)了用于抑制該X射線的發(fā)生的發(fā)明(例如參照專利文獻1)、進行屏蔽以避免X射線泄漏到外部的發(fā)明(例如參照專利文獻2)。專利文獻1所記載的發(fā)明構成為,在與照射電子射線的電子射線照射單元對置的位置上配置射線收注柵,用鋁覆蓋該射線收注柵的電子射線照射側(cè)的外表面,進一步在鋁板上覆蓋PE(聚乙烯)罩。此外,在專利文獻2所記載的發(fā)明的構成中,使照射室整體做成屏蔽X射線的構造,并且設置有包圍該照射室內(nèi)的照射空間及射線收注柵的X射線屏蔽結構體。在先技術文獻專利文獻專利文獻1:日本實開平3-15421號公報專利文獻2:日本特開2010-8387號公報

技術實現(xiàn)要素:
發(fā)明所要解決的問題上述各引用文獻所記載的發(fā)明,均為將電子射線照射在物品上來進行殺菌等處理的區(qū)域中的對策,而未考慮發(fā)生電子射線的真空室側(cè)。在真空室內(nèi),當電子射線撞擊金屬時也會發(fā)生X射線。簡單說明該情況如下:在真空室內(nèi)發(fā)生的電子射線,通過在室內(nèi)的壁面上形成的開口部上所安裝的窗框的照射膜向外部(處理區(qū)域側(cè))照射。電子射線幾乎直線行進,但一部分會撞擊窗框或撞擊用于固定窗框的壁面,所以在真空室內(nèi)也發(fā)生X射線。因此,為了不將X射線泄漏到外部,由鉛部件覆蓋裝置整體。為了避免使X射線泄漏到外部,需要用厚的鉛制部件來覆蓋,相應地提高了成本。本發(fā)明是為了解決上述課題而完成的,其目的在于提供電子射線照射裝置,不僅可以抑制在通過電子射線照射進行物品處理的區(qū)域,還可以抑制發(fā)生電子射線的真空室內(nèi)的X射線的發(fā)生。解決問題的方法本發(fā)明的電子射線照射裝置的特征在于,具備:真空室,被形成有電子射線照射用的開口部的壁面包圍,內(nèi)部氣氛處于真空;電子射線發(fā)生部,配置在該真空室內(nèi);窗框,以圍繞所述真空室的開口部的方式安裝;以及照射膜,固定在該窗框上,供真空室內(nèi)發(fā)生的電子射線透過,其中,所述窗框的面向所述真空室內(nèi)的部位的表面由原子序數(shù)10以下的材料覆蓋。此外,第二發(fā)明的特征在于,在上述第一發(fā)明中,在所述照射膜的隔著被照射電子射線的被照射物的對面?zhèn)?,設置接受所照射的電子射線的射線收注柵,該射線收注柵的表面由原子序數(shù)10以下的材料覆蓋。進一步,第三發(fā)明的特征在于,在上述第一或第二發(fā)明中,所述真空室的開口部附近的內(nèi)壁表面由原子序數(shù)10以下的材料覆蓋。此外,第四發(fā)明的特征在于,在上述第一至第三發(fā)明中,所述材料為以碳或氟為主成分的材料。此外,第五發(fā)明的特征在于,在上述第一至第三發(fā)明中,所述材料為碳纖維增強塑料。此外,第六發(fā)明的特征在于,在上述第一至第三發(fā)明中,所述窗框由銅形成,并且面向所述真空室內(nèi)的部位由碳纖維增強塑料覆蓋。此外,第七發(fā)明的特征在于,在上述第一至第三發(fā)明中,所述窗框在上下并...
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