專利名稱:覆蓋層薄膜貼合裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及的是用于將覆蓋層薄膜貼合在撓性基板形成用的基底薄膜上的覆蓋層薄膜貼合裝置。
背景技術(shù):
眾所周知,一般在形成撓性基板的工序中存在有將由具有熱固性粘合層的聚酉先亞胺樹(shù)脂、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)樹(shù)脂等組成的覆蓋層薄膜,貼合在由形成有銅箔之類導(dǎo)體圖案的聚酉先亞胺樹(shù)脂、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂等組成的基底薄膜的圖案形成面上的工序。
現(xiàn)有技術(shù)下,這種覆蓋層薄膜的貼合作業(yè)是相對(duì)于設(shè)立在操作臺(tái)上的多個(gè)定位用銷,用手工將基底薄膜及覆蓋層薄膜插通定位后進(jìn)行的。
但是,覆蓋層薄膜上一般都開(kāi)有與基底薄膜的導(dǎo)體圖案對(duì)應(yīng)的多個(gè)孔,為了進(jìn)行覆蓋層薄膜的貼合作業(yè)而從覆蓋層薄膜上剝離脫模薄膜或脫模紙(以下,在本說(shuō)明書(shū)中稱[脫模薄膜])的話,則覆蓋層薄膜就會(huì)癱軟,所以極難操作。
因此,這種覆蓋層薄膜的貼合作業(yè)生產(chǎn)效率極低,希望采用覆蓋層薄膜貼合裝置,使該貼合作業(yè)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化。
圖10是用于說(shuō)明現(xiàn)有技術(shù)覆蓋層薄膜貼合裝置的示意圖?,F(xiàn)有技術(shù)的覆蓋層薄膜貼合裝置800,如圖10所示,具有基底薄膜輸送輥801A、覆蓋層薄膜輸送輥802A、脫模薄膜輸送輥803A、804A、二對(duì)輥805、805、807、807、層壓薄膜卷繞輥801B、脫模薄膜卷繞輥803B、804B及熱壓機(jī)806、806(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
而且,在現(xiàn)有技術(shù)的覆蓋層薄膜貼合裝置800中,從基底薄膜輸送輥801A送出的基底薄膜W11和從覆蓋層薄膜輸送輥802A送出的覆蓋層薄膜W12疊合成一體,再在夾持于由脫模薄膜輸送輥803A、804A送出的脫模薄膜W13、W14的狀態(tài)下,由熱壓機(jī)806、806貼合成一體,形成層壓薄膜W15,然后卷繞在層壓薄膜卷繞輥801B上。
因此,若是采用現(xiàn)有技術(shù)的覆蓋層薄膜貼合裝置800,則可以使基底薄膜W11和覆蓋層薄膜W12的貼合作業(yè)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化,于是可以提高基底薄膜W11和覆蓋層薄膜W12的貼合作業(yè)的生產(chǎn)效率。
專利文獻(xiàn)1特開(kāi)平2-226793號(hào)公報(bào)(圖1)。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題但是,在上述覆蓋層薄膜貼合裝置800中,基底薄膜W11和覆蓋層薄膜W12的貼合都是在長(zhǎng)的薄膜之間疊合成一體的狀態(tài)下進(jìn)行的。因此,隨著上述薄膜輸送的延伸,基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位誤差就會(huì)累積,難以確?;妆∧らL(zhǎng)度方向的對(duì)位精度。另外,由于上述薄膜的輸送而發(fā)生的曲折蜿蜒現(xiàn)象,會(huì)發(fā)生基底薄膜寬度方向的對(duì)位誤差,也難以確保基底薄膜寬度方向的對(duì)位精度。所以,不易提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度,于是存在難以提高撓性基板質(zhì)量的問(wèn)題。
因此,本發(fā)明的目的是為了解決上述問(wèn)題,提供一種能很容易地提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度,從而很容易地提高撓性基板質(zhì)量的覆蓋層薄膜貼合裝置。
解決課題的手段(1)一種覆蓋層薄膜貼合裝置,設(shè)有將卷筒狀的基底薄膜變成平片狀、并間歇送出的基底薄膜供給裝置,相對(duì)于由該基底薄膜供給裝置送出的平片狀基底薄膜臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜、形成覆蓋層薄膜臨時(shí)壓接于基底薄膜上的平片狀層壓薄膜的臨時(shí)壓接裝置,將由該臨時(shí)壓接裝置形成的平片狀層壓薄膜卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置;其特征在于上述臨時(shí)壓接裝置,具有能夠沿著聯(lián)結(jié)覆蓋層薄膜臨時(shí)壓接于基底薄膜上的區(qū)域(以下稱為“臨時(shí)壓接區(qū)域”)、和向上述臨時(shí)壓接區(qū)域供給覆蓋層薄膜的位置(以下稱為“覆蓋層薄膜供給位置”)的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)。
因此,若是采用本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置,則由于細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜相對(duì)于間歇送出的平片狀基底薄膜被臨時(shí)壓接,所以即使是使用長(zhǎng)的基底薄膜時(shí),基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位誤差不會(huì)累積,基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位精度也不會(huì)降低。
另外,若是采用本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置,則由于覆蓋層薄膜是由能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)供給到臨時(shí)壓接區(qū)域的,所以容易提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。于是,也能容易地提高撓性基板的質(zhì)量,從而達(dá)到本發(fā)明的目的。
另外,在相對(duì)于基底薄膜貼合覆蓋層薄膜時(shí),至少需要將覆蓋層薄膜供給到基底薄膜供給通路上的貼合區(qū)域的覆蓋層薄膜供給工序以及相對(duì)于基底薄膜貼合覆蓋層薄膜的貼合工序。但是,如果以一個(gè)步驟完成相對(duì)于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜的情況下,上述貼合工序太長(zhǎng),難以提高整體的生產(chǎn)效率。
因此,本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置是用相對(duì)于基底薄膜臨時(shí)壓接覆蓋層薄膜形成層壓薄膜,來(lái)代替相對(duì)于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜形成層壓薄膜的。這樣,可以大幅度縮短上述貼合工序,謀求整體生產(chǎn)效率的提高。這時(shí),相對(duì)于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜時(shí),可以另行準(zhǔn)備用于對(duì)臨時(shí)壓接有覆蓋層薄膜的層壓薄膜進(jìn)行壓接(正規(guī)壓接)的專用正式壓接裝置(如真空壓力機(jī)),采用該正式壓接裝置相對(duì)于基底薄膜完全貼合覆蓋層薄膜。
在此,本說(shuō)明書(shū)中所謂的“細(xì)長(zhǎng)形”,從平面看未必一定是細(xì)長(zhǎng)形狀,也指包含了正方形的略呈矩形的形狀。
(2)上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述覆蓋層薄膜供給通路,以與聯(lián)結(jié)上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置的基底薄膜供給通路垂直相交為佳。
采用這樣的構(gòu)造,可以縮小覆蓋層薄膜供給通路和基底薄膜供給通路交叉部分的面積,于是可以縮短基底薄膜供給通路的長(zhǎng)度,使裝置變得小型化。
(3)上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,作為基底薄膜是采用卷筒狀的基底薄膜,但本發(fā)明并不僅限于此。作為基底薄膜即使是采用細(xì)長(zhǎng)形的基底薄膜時(shí),也具有和上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置時(shí)同樣的效果。
即,本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置設(shè)有向臨時(shí)壓接區(qū)域供給細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜的基底薄膜供給裝置,相對(duì)于由該基底薄膜供給裝置供給的細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜、形成細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜的臨時(shí)壓接裝置,用于回收由該臨時(shí)壓接裝置形成的細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜的層壓薄膜回收裝置;其特征在于上述臨時(shí)壓接裝置,具有能夠沿著聯(lián)結(jié)臨時(shí)壓接區(qū)域和覆蓋層薄膜供給位置的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)。
因此,采用本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置的話,由于使用細(xì)長(zhǎng)形的基底薄膜,基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位誤差不會(huì)產(chǎn)生累積,所以也不會(huì)降低基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位精度。
另外,采用本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置的話,和上述(1)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置的情況一樣,由于覆蓋層薄膜是由可以調(diào)整相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)供給到臨時(shí)壓接區(qū)域的,所以容易提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度,于是也能容易地提高撓性基板的質(zhì)量,從而達(dá)到本發(fā)明的目的。
(4)在上述(1)~(3)任何一項(xiàng)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述臨時(shí)壓接工作臺(tái),以能夠在相互垂直相交的2個(gè)水平方向上移動(dòng),且能夠在以水平面內(nèi)的假想點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心的圓周方向上進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)為佳。
采用這樣的構(gòu)造,相對(duì)于基底薄膜可以使覆蓋層薄膜的位置(及姿勢(shì))精度良好地配置,所以容易提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。
這時(shí),作為相互垂直相交的2個(gè)水平方向,以選擇沿著基底薄膜供給通路的方向及沿著覆蓋層薄膜供給通路的方向?yàn)榧?。另外,作為水平面?nèi)的假想點(diǎn),以選擇臨時(shí)壓接工作臺(tái)的載置有覆蓋層薄膜的面的中心點(diǎn)為佳。
(5)在上述(4)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以在上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上,至少設(shè)有2個(gè)相互隔離配置的攝像用孔,與上述各攝像用孔對(duì)應(yīng)地設(shè)有攝像元件為佳。
采用這樣的構(gòu)造,可以使相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢(shì)由至少2個(gè)攝像元件精度良好地進(jìn)行測(cè)定。因此,相對(duì)于基底薄膜可以使覆蓋層薄膜位置(及姿勢(shì))精度良好地配置,容易提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。
這時(shí),以至少2個(gè)攝像用孔配置在臨時(shí)壓接工作臺(tái)的兩端部為佳。
(6)在上述(1)~(5)任意一項(xiàng)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述臨時(shí)壓接工作臺(tái),以通過(guò)在上述臨時(shí)壓接區(qū)域的上方移動(dòng)來(lái)進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作為佳。
采用這樣的構(gòu)造,在相對(duì)于基底薄膜使覆蓋層薄膜位置(及姿勢(shì))精度良好地配置的狀態(tài)下,通過(guò)使臨時(shí)壓接工作臺(tái)向上方移動(dòng),就能夠在維持相對(duì)于基底薄膜使覆蓋層薄膜位置(及姿勢(shì))精度良好地配置狀態(tài)下進(jìn)行臨時(shí)壓接。因此,容易提高相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置精度。
(7)在上述(6)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述臨時(shí)壓接裝置,以還具有在上述臨時(shí)壓接區(qū)域中臨時(shí)壓接工作臺(tái)進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作時(shí),承受上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)的緩沖機(jī)構(gòu)為佳。
采用這樣的構(gòu)造,可以使覆蓋層薄膜整體對(duì)于基底薄膜以均勻的力進(jìn)行臨時(shí)壓接。
(8)在上述(7)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以上述緩沖機(jī)構(gòu)上設(shè)有用于吸附基底薄膜的多個(gè)基底薄膜吸附孔為佳。
采用這樣的構(gòu)造,可以使基底薄膜吸附于多個(gè)基底薄膜吸附孔上,能夠在臨時(shí)壓接區(qū)域固定基底薄膜。
(9)在上述(8)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述臨時(shí)壓接裝置,以還具有在進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作之前相對(duì)于上述緩沖機(jī)構(gòu)將基底薄膜壓緊的壓緊機(jī)構(gòu)為佳。
采用這樣的構(gòu)造,由于壓緊機(jī)構(gòu)將基底薄膜相對(duì)于緩沖機(jī)構(gòu)壓住,所以能使基底薄膜更牢靠地吸附于多個(gè)基底薄膜吸附孔上。
另外,由于在臨時(shí)壓接動(dòng)作進(jìn)行之前進(jìn)行有壓緊機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的壓緊動(dòng)作,所以對(duì)于臨時(shí)壓接工作臺(tái)的臨時(shí)壓接動(dòng)作沒(méi)有妨礙,能平穩(wěn)地進(jìn)行壓緊動(dòng)作。所謂進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作之前,是指臨時(shí)壓接動(dòng)作結(jié)束后的臨時(shí)壓接工作臺(tái)從臨時(shí)壓接區(qū)域向覆蓋層薄膜供給位置移動(dòng),裝載新的覆蓋層薄膜后再次回到臨時(shí)壓接區(qū)域?yàn)橹沟拈g隔,由于利用該時(shí)間進(jìn)行壓緊機(jī)構(gòu)的壓緊動(dòng)作,因此進(jìn)行壓緊動(dòng)作不需花費(fèi)特別的時(shí)間,所以不會(huì)使整體的生產(chǎn)效率降低。
這時(shí),以具有如下的構(gòu)成為佳,若是上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)從上述臨時(shí)壓接區(qū)域向上述覆蓋層薄膜供給位置移動(dòng),則上述壓緊機(jī)構(gòu)從上述臨時(shí)壓接區(qū)域外向上述臨時(shí)壓接區(qū)域內(nèi)移動(dòng),若上述壓緊機(jī)構(gòu)從上述臨時(shí)壓接區(qū)域內(nèi)向上述臨時(shí)壓接區(qū)域外移動(dòng),則上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)從上述覆蓋層薄膜供給位置向上述臨時(shí)壓接區(qū)域移動(dòng)。
這樣,就能平穩(wěn)地進(jìn)行臨時(shí)壓接工作臺(tái)的臨時(shí)壓接動(dòng)作及壓緊機(jī)構(gòu)的壓緊動(dòng)作這雙方的動(dòng)作。
(10)在上述(1)~(9)任意一項(xiàng)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)具有用于加熱覆蓋層薄膜的加熱器為佳。
采用這樣的構(gòu)造,在臨時(shí)壓接之前相對(duì)于基底薄膜供給覆蓋層薄膜的過(guò)程中,由于能夠預(yù)先提高覆蓋層薄膜的溫度,所以能在更短的時(shí)間里平穩(wěn)地進(jìn)行相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的臨時(shí)壓接。
(11)在上述(1)~(10)任意一項(xiàng)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以還設(shè)有覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置為佳,該覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置具有將卷筒狀的覆蓋層薄膜變成平片狀、并間歇送出用的覆蓋層薄膜輸送裝置,將由該覆蓋層薄膜輸送裝置送出的平片狀覆蓋層薄膜截?cái)唷⒉⑿纬杉?xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜的覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置,和將由該覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置形成的細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜載置于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上的覆蓋層薄膜載置裝置。
采用這樣的構(gòu)造,因?yàn)榭梢詮木硗矤畹母采w層薄膜形成細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜,且能將該細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜供給到臨時(shí)壓接工作臺(tái),所以能夠使用卷筒狀的覆蓋層薄膜。這樣,就可以進(jìn)一步提高整體生產(chǎn)效率。
(12)在上述(11)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以上述覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置設(shè)有帶用于將平片狀覆蓋層薄膜截?cái)喑杉?xì)長(zhǎng)形的壓切刀的壓切刀金屬模、及承受該壓切刀金屬模的金屬模座;上述覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置還設(shè)有將承受上述壓切刀的受刀帶送出到上述壓切刀金屬模和金屬模座之間的受刀帶輸送裝置、以及卷繞受刀帶的受刀帶卷繞裝置為佳。
采用這樣的構(gòu)造,在將平片狀覆蓋層薄膜截?cái)喑杉?xì)長(zhǎng)形時(shí),由受刀帶輸送裝置送出的受刀帶可以時(shí)常承接壓切刀,所以能良好地截?cái)喔采w層薄膜。另外,可以防止壓切刀刀尖的損傷。
(13)在上述(1)~(12)任意一項(xiàng)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上,設(shè)有用于吸附細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜的多個(gè)覆蓋層薄膜吸附孔為佳。
采用這樣的構(gòu)造,可以將在覆蓋層薄膜供給位置供給的覆蓋層薄膜由臨時(shí)壓接工作臺(tái)平穩(wěn)地搬送到臨時(shí)壓接區(qū)域。
(14)在上述(13)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,以上述覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置還設(shè)有將吸附于上述多個(gè)覆蓋層薄膜吸附孔上的覆蓋層薄膜的脫模薄膜的端部予以?shī)A持的脫模薄膜夾持裝置,在該脫模薄膜夾持裝置夾持住上述脫模薄膜的端部的狀態(tài)下,通過(guò)上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)從上述覆蓋層薄膜供給位置向上述臨時(shí)壓接區(qū)域的移動(dòng),從上述覆蓋層薄膜上剝離脫模薄膜為佳。
采用這樣的構(gòu)造,由于可以在將覆蓋層薄膜搬送到臨時(shí)壓接區(qū)域的工序中將脫模薄膜從覆蓋層薄膜剝離,所以不必另行設(shè)置用于從覆蓋層薄膜剝離脫模薄膜的特別工序。這樣,就可以縮短相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合作業(yè)。
另外,在將覆蓋層薄膜載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)之前,能夠在帶有脫模薄膜的狀態(tài)下對(duì)覆蓋層薄膜進(jìn)行操作,所以操作極為方便。
(15)在上述(14)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置以還具有用于在截?cái)喔采w層薄膜之前,從覆蓋層薄膜剝離一部分的脫模薄膜、形成部分剝離部的脫模薄膜剝離刀為佳。
采用這樣的構(gòu)造,由于載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)上的覆蓋層薄膜通過(guò)脫模薄膜剝離刀預(yù)先形成部分剝離部,所以脫模薄膜夾持裝置能夠很容易地夾持脫模薄膜的端部。
(16)在上述(15)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,上述覆蓋層薄膜載置裝置以具有用于將由上述覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置截?cái)嗟母采w層薄膜搬送到上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上的吸附式墊枕,該吸附式墊枕在將覆蓋層薄膜載置于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上開(kāi)始,到由上述脫模薄膜夾持裝置夾持住脫模薄膜的端部為止的時(shí)間內(nèi),吸附著上述部分剝離部為佳。
采用這樣的構(gòu)造,對(duì)于載置在臨時(shí)壓接工作臺(tái)上的覆蓋層薄膜,由于處在由吸附式墊枕吸附并卷起著脫模薄膜的部分剝離部的狀態(tài),所以脫模薄膜夾持裝置能更容易地夾持脫模薄膜的端部。
(17)以在上述(1)~(16)任意一項(xiàng)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,進(jìn)而設(shè)有配設(shè)于基底薄膜供給通路內(nèi)的上述臨時(shí)壓接裝置的層壓薄膜回收裝置側(cè),用于將由上述臨時(shí)壓接裝置臨時(shí)壓接于基底薄膜上的覆蓋層薄膜相對(duì)于基底薄膜更牢固地進(jìn)行臨時(shí)壓接的輔助臨時(shí)壓接裝置為佳。
上述(17)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,在進(jìn)行相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的臨時(shí)壓接形成層壓薄膜的工序后,還要進(jìn)行下列兩工序?qū)訅罕∧す┙o到進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接的區(qū)域,同時(shí),向臨時(shí)壓接區(qū)域供給新的基底薄膜的工序;和進(jìn)行臨時(shí)壓接工作臺(tái)的移動(dòng)動(dòng)作,向基底薄膜供給通路上的臨時(shí)壓接區(qū)域供給新的覆蓋層薄膜的工序。這時(shí),由于后者的工序比前者的工序所需要的時(shí)間長(zhǎng)得多,所以通過(guò)利用上述工序之間的時(shí)間差進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接處理,可以不必特意花費(fèi)進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接工序的時(shí)間就能夠進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接。因此,可以縮短最初的臨時(shí)壓接時(shí)間,進(jìn)一步提高整體的生產(chǎn)效率。
(18)以在上述(17)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,在基底薄膜供給通路內(nèi)的上述輔助臨時(shí)壓接裝置和上述層壓薄膜回收裝置之間,至少配設(shè)有2個(gè)相互隔離的攝像元件為佳。
采用這樣的構(gòu)造,由攝像元件對(duì)層壓薄膜進(jìn)行攝影,在層壓薄膜回收裝置回收層壓薄膜之前就可以確認(rèn)其臨時(shí)壓接狀態(tài)。如果由上述攝像元件攝得的結(jié)果是相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的貼合位置偏移、或者是臨時(shí)壓接不完整時(shí),通過(guò)使裝置停止運(yùn)轉(zhuǎn),就可以防止形成這類臨時(shí)壓接不完整的層壓薄膜于未然。
(19)以在上述(17)或(18)記載的覆蓋層薄膜貼合裝置中,還具有使上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置、上述臨時(shí)壓接裝置以及上述輔助臨時(shí)壓接裝置同步動(dòng)作的控制器為佳。
采用這樣的構(gòu)造,可以配合間歇時(shí)間地進(jìn)行臨時(shí)壓接工序及輔助臨時(shí)壓接工序,能夠在高度確保相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜貼合位置精度的狀態(tài)下,進(jìn)行整體高生產(chǎn)效率的臨時(shí)壓接。
圖1是表示實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖。
圖2是簡(jiǎn)化表示實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖。
圖3是表示實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的主視圖。
圖4是用于說(shuō)明臨時(shí)壓接裝置的主要部分放大圖。
圖5是表示說(shuō)明臨時(shí)壓接裝置及覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置的側(cè)面圖。
圖6是表示覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置的后視圖。
圖7是表示覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置的側(cè)面圖。
圖8是表示說(shuō)明相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜臨時(shí)壓接方法的流程圖。
圖9是簡(jiǎn)化表示實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖。
圖10是表示現(xiàn)有的覆蓋層薄膜貼合裝置的主視圖。
最佳實(shí)施方式以下,根據(jù)圖示的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置加以說(shuō)明。
(實(shí)施方式1)首先,采用圖1~圖7對(duì)實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置加以說(shuō)明。
圖1是表示實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖,圖2是簡(jiǎn)化表示實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的俯視圖,圖3是表示實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置的主視圖,圖4是用于說(shuō)明臨時(shí)壓接裝置的主要部分放大圖,圖5是用于說(shuō)明臨時(shí)壓接裝置及覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置的側(cè)面圖,圖6是表示覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置的后視圖,圖7是表示覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置的側(cè)面圖。
另外,在以下的說(shuō)明中,相互垂直相交的3個(gè)方向分別為x軸方向(平行于圖1紙面的左右方向)、y軸方向(平行于圖1紙面且與x軸垂直相交的方向)及z軸方向(垂直于圖1紙面的方向)。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1,如圖1~圖3所示,設(shè)有用于搭載·固定各種裝置(如后文所述)的裝置主體100,將卷筒狀基底薄膜Wb變?yōu)槠狡瑺铋g歇送出的基底薄膜供給裝置200,相對(duì)于由基底薄膜供給裝置200送出的平片狀基底薄膜Wb臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc、形成覆蓋層薄膜Wc臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上的平片狀層壓薄膜Ws的臨時(shí)壓接裝置400,將由臨時(shí)壓接裝置400形成的平片狀層壓薄膜Ws卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置300,介于基底薄膜供給裝置200和層壓薄膜回收裝置300之間的一對(duì)拉伸裝置250、350,將由臨時(shí)壓接裝置400臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上的覆蓋層薄膜Wc相對(duì)于基底薄膜Wb進(jìn)行進(jìn)一步牢固臨時(shí)壓接的輔助臨時(shí)壓接裝置500,和設(shè)置于裝置主體100的后方、將細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc供給到臨時(shí)壓接裝置400的覆蓋層薄膜截?cái)唷す┙o裝置600。
并且,層壓薄膜Ws具有在基底薄膜Wb一方的圖案形成面?zhèn)扰R時(shí)壓接有細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc的構(gòu)造。
裝置主體100由平視為略呈矩形的底盤(pán)構(gòu)成。在裝置主體100的右側(cè)部,如圖3所示,配設(shè)有控制器箱110,該箱中內(nèi)藏有使基底薄膜供給裝置200及層壓薄膜回收裝置300、臨時(shí)壓接裝置400以及輔助臨時(shí)壓接裝置500同步動(dòng)作的控制器。
如圖2所示,裝置主體100上形成有聯(lián)結(jié)基底薄膜供給裝置200和層壓薄膜回收裝置300的基底薄膜供給通路L1、聯(lián)結(jié)覆蓋層薄膜供給位置P1和臨時(shí)壓接區(qū)域P2的覆蓋層薄膜供給通路L2、和聯(lián)結(jié)后述的覆蓋層薄膜輸送裝置610和覆蓋層薄膜供給位置P1的覆蓋層薄膜搬送通路L3。
基底薄膜供給裝置200,如圖3所示,設(shè)有輸送輥210及導(dǎo)向輥220。
輸送輥210是旋轉(zhuǎn)自由地支承于輥支持臺(tái)150的上方端部,而且,通過(guò)由轉(zhuǎn)矩電動(dòng)機(jī)212驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)使卷筒狀的基底薄膜Wb呈平片狀送出的構(gòu)造。
導(dǎo)向輥220是旋轉(zhuǎn)自由地支承于裝置主體100上,將平片狀的基底薄膜Wb引導(dǎo)向?qū)訅罕∧せ厥昭b置300側(cè)的構(gòu)造。
層壓薄膜回收裝置300,如圖3所示,具有卷繞輥310及導(dǎo)向輥320。
卷繞輥310是旋轉(zhuǎn)自由地支承于輥支持臺(tái)152的上方端部,而且,通過(guò)由轉(zhuǎn)矩電動(dòng)機(jī)312驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)使平片狀的層壓薄膜Ws卷繞成卷筒狀的構(gòu)造。
導(dǎo)向輥320是旋轉(zhuǎn)自由地支承于裝置主體100上,將平片狀的層壓薄膜Ws引導(dǎo)向卷繞輥310側(cè)的構(gòu)造。
基底薄膜供給裝置200側(cè)的拉伸裝置250,如圖3所示,具有升降輥252,并設(shè)置于基底薄膜供給裝置200的下方。升降輥252的輥軸254旋轉(zhuǎn)·升降自由地軸支承于升降導(dǎo)軌256上。而且,其構(gòu)造是由汽缸(未圖示)驅(qū)動(dòng)的上升使基底薄膜Wb松弛,由自重的下降使基底薄膜Wb張緊。
層壓薄膜回收裝置300側(cè)的拉伸裝置350,如圖3所示,具有升降輥352,并設(shè)置于層壓薄膜回收裝置300的下方。升降輥352的輥軸354旋轉(zhuǎn)·升降自由地軸支承于升降導(dǎo)軌356上。而且,其構(gòu)造是由汽缸(未圖示)驅(qū)動(dòng)的上升使層壓薄膜Ws松弛,由自重的下降使層壓薄膜Ws張緊。
臨時(shí)壓接裝置400,如圖1~圖5所示,具有能夠沿著覆蓋層薄膜供給通路L2供給覆蓋層薄膜Wc、而且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410,在臨時(shí)壓接區(qū)域P2的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作時(shí)承接臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的緩沖機(jī)構(gòu)480,在進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作前相對(duì)于緩沖機(jī)構(gòu)480壓緊基底薄膜Wb的壓緊機(jī)構(gòu)490。
臨時(shí)壓接工作臺(tái)410,如圖4所示,設(shè)有第1移動(dòng)裝置420、第2移動(dòng)裝置430、第3移動(dòng)裝置440、第4移動(dòng)裝置450及載置覆蓋層薄膜Wc的覆蓋層薄膜載置部460。
第1移動(dòng)裝置420,如圖4及圖5所示,具有伺服電動(dòng)機(jī)422、軸支承于伺服電動(dòng)機(jī)422的螺旋軸424、第1工作臺(tái)426及沿著y軸方向延伸的導(dǎo)軌428,并設(shè)置于裝置主體100上。第1移動(dòng)裝置420的構(gòu)造是通過(guò)由伺服電動(dòng)機(jī)422驅(qū)動(dòng)的螺旋軸424的旋轉(zhuǎn),使第1工作臺(tái)426在導(dǎo)軌428上沿著y軸方向移動(dòng)。
第2移動(dòng)裝置430,具有伺服電動(dòng)機(jī)432、軸支承于伺服電動(dòng)機(jī)432的螺旋軸434、第2工作臺(tái)436及沿著x軸方向延伸的導(dǎo)軌438,并設(shè)置于第1工作臺(tái)426上。第2移動(dòng)裝置430的構(gòu)造是通過(guò)由伺服電動(dòng)機(jī)432驅(qū)動(dòng)的螺旋軸434的旋轉(zhuǎn),使第2工作臺(tái)436在導(dǎo)軌438上沿著x軸方向移動(dòng)。
第3移動(dòng)裝置440,具有伺服電動(dòng)機(jī)442、軸支承于伺服電動(dòng)機(jī)442的螺旋軸444、第3工作臺(tái)446及給予第3工作臺(tái)446旋轉(zhuǎn)力的移動(dòng)元件447,并設(shè)置于第2工作臺(tái)436上。第3工作臺(tái)446樞支承于第2工作臺(tái)436上的樞軸448,通過(guò)工作臺(tái)座449搖動(dòng)自由地配設(shè)。第3移動(dòng)裝置440的構(gòu)造是通過(guò)由伺服電動(dòng)機(jī)442驅(qū)動(dòng)的螺旋軸444的旋轉(zhuǎn),使其在以樞軸448為旋轉(zhuǎn)中心的圓周方向(z軸周圍)上轉(zhuǎn)動(dòng)。
第4移動(dòng)裝置450,具有伺服電動(dòng)機(jī)452、軸支承于伺服電動(dòng)機(jī)452的螺旋軸454、第4工作臺(tái)及沿著x軸方向延伸的導(dǎo)軌458,并設(shè)置于第3工作臺(tái)446上。第4移動(dòng)裝置450的構(gòu)造是通過(guò)由伺服電動(dòng)機(jī)452驅(qū)動(dòng)的螺旋軸454的旋轉(zhuǎn),使第4工作臺(tái)456在導(dǎo)軌458上沿著x軸方向移動(dòng)。
覆蓋層薄膜載置部460,如圖4所示,通過(guò)從左側(cè)部向右側(cè)部具有向上坡度的傾斜部462及輥?zhàn)?64,設(shè)置在第4工作臺(tái)456上。另外,第4工作臺(tái)456及覆蓋層薄膜載置部460上固定有彈簧466。因此,當(dāng)?shù)?工作臺(tái)456朝圖4的左方向移動(dòng)時(shí),覆蓋層薄膜載置部460上升;當(dāng)?shù)?工作臺(tái)456朝圖4的右方向移動(dòng)時(shí),則覆蓋層薄膜載置部460下降。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,臨時(shí)壓接工作臺(tái)410可以在相互垂直相交的2個(gè)水平方向上(x軸方向及y軸方向)移動(dòng),而且可以在以水平面內(nèi)的假想點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心的圓周方向(z軸周圍)轉(zhuǎn)動(dòng)。
由此,能夠相對(duì)于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進(jìn)行位置(及姿勢(shì))精度良好地配置,所以能很容易地提高相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,作為相互垂直相交的2個(gè)水平方向(x軸方向及y軸方向),是沿著基底薄膜供給通路L1的方向及沿著覆蓋層薄膜供給通路L2的方向(參照?qǐng)D2)。另外,作為水平面內(nèi)的假想點(diǎn)是臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的覆蓋層薄膜載置部460的中心點(diǎn)。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如圖2及圖4所示,在臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上設(shè)有相互隔離配置的2個(gè)攝像用孔470a,與各攝像用孔470a分別對(duì)應(yīng),設(shè)有攝像元件470。
因此,通過(guò)2個(gè)攝像元件470可以高精度地測(cè)定相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢(shì),所以能夠相對(duì)于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進(jìn)行位置(及姿勢(shì))精度良好的配置,可以較容易地提高相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。
另外,2個(gè)攝像用孔470a配置在臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的兩端部(參照?qǐng)D2)。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的構(gòu)造是通過(guò)在臨時(shí)壓接區(qū)域P2上方的移動(dòng)進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作的。
因此,在相對(duì)于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進(jìn)行位置(及姿勢(shì))精度良好配置的狀態(tài)下,只要臨時(shí)壓接工作臺(tái)410按原狀在上方移動(dòng),就可以在保持相對(duì)于基底薄膜Wb使覆蓋層薄膜Wc進(jìn)行位置(及姿勢(shì))精度良好配置的狀態(tài)下進(jìn)行臨時(shí)壓接。因此能很容易地提高相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如圖4及圖5所示,臨時(shí)壓接裝置400還具有在臨時(shí)壓接區(qū)域P2中臨時(shí)壓接工作臺(tái)410進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作時(shí)承接臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的緩沖機(jī)構(gòu)480。
因此,可以使覆蓋層薄膜Wc整體相對(duì)于基底薄膜Wb以均勻的力進(jìn)行臨時(shí)壓接。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,在緩沖機(jī)構(gòu)480上設(shè)有用于吸附基底薄膜Wb的多個(gè)基底薄膜吸附孔(未圖示)。
這樣,可以使基底薄膜Wb吸附在多個(gè)基底薄膜吸附孔上,能夠在臨時(shí)壓接區(qū)域P2上固定基底薄膜Wb。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如圖1及圖5所示,臨時(shí)壓接裝置400還具有在進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作之前相對(duì)于緩沖機(jī)構(gòu)480壓緊基底薄膜Wb的壓緊機(jī)構(gòu)490。
這樣,由于壓緊機(jī)構(gòu)490相對(duì)于緩沖機(jī)構(gòu)480壓緊基底薄膜Wb,因此可以使基底薄膜Wb更牢靠地吸附于多個(gè)基底薄膜吸附孔上。
另外,由于在臨時(shí)壓接動(dòng)作進(jìn)行之前,由壓緊機(jī)構(gòu)490進(jìn)行的壓緊動(dòng)作,所以對(duì)于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的臨時(shí)壓接動(dòng)作沒(méi)有妨礙,能順利平穩(wěn)地進(jìn)行壓緊動(dòng)作。所謂進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作之前,是指臨時(shí)壓接動(dòng)作結(jié)束后的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410從臨時(shí)壓接區(qū)域P2向覆蓋層薄膜供給位置P1移動(dòng),裝載了新的覆蓋層薄膜Wc后再次回到臨時(shí)壓接區(qū)域P2為止的時(shí)間間隔,由于利用該時(shí)間進(jìn)行壓緊機(jī)構(gòu)490的壓緊動(dòng)作,因此進(jìn)行壓緊動(dòng)作不需特意留用時(shí)間,所以不會(huì)使整體的生產(chǎn)效率降低。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,其構(gòu)造是當(dāng)臨時(shí)壓接工作臺(tái)410從臨時(shí)壓接區(qū)域P2向覆蓋層薄膜供給位置P1移動(dòng)的話,則壓緊機(jī)構(gòu)490從臨時(shí)壓接區(qū)域外向臨時(shí)壓接區(qū)域內(nèi)移動(dòng),當(dāng)壓緊機(jī)構(gòu)490從臨時(shí)壓接區(qū)域內(nèi)向臨時(shí)壓接區(qū)域外移動(dòng)的話,則臨時(shí)壓接工作臺(tái)410從覆蓋層薄膜供給位置P1向臨時(shí)壓接區(qū)域P2移動(dòng)。
這樣,就能平穩(wěn)地進(jìn)行臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的臨時(shí)壓接動(dòng)作以及壓緊機(jī)構(gòu)490的壓緊動(dòng)作的雙方的動(dòng)作。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,臨時(shí)壓接工作臺(tái)410具有用于對(duì)覆蓋層薄膜Wc進(jìn)行加熱的加熱器(未圖示)。
因此,臨時(shí)壓接之前,在相對(duì)于基底薄膜Wb供給覆蓋層薄膜Wc的過(guò)程中,可以預(yù)先提高覆蓋層薄膜Wc的溫度,所以能夠在更短的時(shí)間內(nèi)平穩(wěn)地進(jìn)行相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時(shí)壓接。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,在臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上設(shè)有用于吸附細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc的多個(gè)覆蓋層薄膜吸附孔(未圖示)。
因此,能夠?qū)⒃诟采w層薄膜供給位置P1供給的覆蓋層薄膜Wc,由臨時(shí)壓接工作臺(tái)410平穩(wěn)地搬送到臨時(shí)壓接區(qū)域P2。
如圖1~圖3所示,在基底薄膜供給通路L1的臨時(shí)壓接裝置400的上游側(cè)(基底薄膜供給裝置200側(cè))及下游側(cè)(層壓薄膜回收裝置300側(cè))上配置有固定箝位器120、130,在后述的輔助臨時(shí)壓接裝置500和層壓薄膜回收裝置300之間配置有移動(dòng)箝位器140。
如圖1~圖3所示,輔助臨時(shí)壓接裝置500是配置于基底薄膜供給通路L1內(nèi)的臨時(shí)壓接裝置400的層壓薄膜回收裝置300側(cè),將由臨時(shí)壓接裝置400臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上的覆蓋層薄膜Wc,相對(duì)于基底薄膜Wb更牢固地進(jìn)行臨時(shí)壓接的構(gòu)造。
輔助臨時(shí)壓接裝置500的輔助臨時(shí)壓按時(shí)間,由控制器110設(shè)定所希望的時(shí)間。
如圖1及圖2所示,覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置600具有用于將卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0變成平片狀后間歇送出的覆蓋層薄膜輸送裝置610,將由覆蓋層薄膜輸送裝置610送出的平片狀覆蓋層薄膜Wc0截?cái)?、形成?xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜Wc的覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630,將由覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630形成的細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的覆蓋層薄膜載置裝置650。
由此,因?yàn)榭梢詮木硗矤畹母采w層薄膜Wc0形成細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜Wc,并將該細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜Wc供給到臨時(shí)壓接工作臺(tái)410,所以能夠采用卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0,進(jìn)一步提高了整體的生產(chǎn)效率。
如圖6及圖7所示,覆蓋層薄膜輸送裝置610具有輸送輥612、驅(qū)動(dòng)輥616及導(dǎo)向輥620。
輸送輥612是旋轉(zhuǎn)自由地支承于輥?zhàn)又ё?60的上方端部,而且,由轉(zhuǎn)矩電動(dòng)機(jī)614驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)將卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0呈平片狀送出的構(gòu)造。
驅(qū)動(dòng)輥616是旋轉(zhuǎn)自由地支承于輥?zhàn)又ё?62上,而且,由轉(zhuǎn)矩電動(dòng)機(jī)618驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)將平片狀的覆蓋層薄膜Wc0輸送到導(dǎo)向輥620側(cè)的構(gòu)造。
導(dǎo)向輥620是旋轉(zhuǎn)自由地支承于裝置主體100上,并將平片狀的覆蓋層薄膜Wc0引導(dǎo)向覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630側(cè)的構(gòu)造。
在覆蓋層薄膜輸送裝置610的下方,配置有用于松馳·張緊覆蓋層薄膜Wc0的升降輥622。
在導(dǎo)向輥620的覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630側(cè)處,配置有從覆蓋層薄膜輸送裝置610牽引平片狀覆蓋層薄膜Wc0的引出輥624和移動(dòng)箝位器626。
如圖6所示,覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630設(shè)有擁有用于將平片狀覆蓋層薄膜Wc0截?cái)喑杉?xì)長(zhǎng)形的壓切刀的壓切刀金屬模632、及承受該壓切刀金屬模632的金屬模座634。另外,覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置600還具有將承受上述壓切刀的受刀帶Wh送出到壓切刀金屬模632和金屬模座634之間的受刀帶輸送裝置640、以及卷繞受刀帶Wh的受刀帶卷繞裝置642。
因此,在將平片狀覆蓋層薄膜Wc0截?cái)喑杉?xì)長(zhǎng)形時(shí),可以由受刀帶輸送裝置640送出的受刀帶Wh時(shí)常接受壓切刀,所以能良好地截?cái)喔采w層薄膜。另外,可以防止壓切刀刀刃的損傷。
如圖2所示,覆蓋層薄膜載置裝置650具有將由覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630截?cái)嗟募?xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc交付到覆蓋層薄膜交付位置P3的移動(dòng)箝位器652、以及將載置于覆蓋層薄膜交付位置P3的覆蓋層薄膜Wc搬送到覆蓋層薄膜供給位置P1的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的吸附式墊枕654。該吸附式墊枕654在x軸方向上可以移動(dòng),在覆蓋層薄膜供給位置P1及覆蓋層薄膜交付位置P3處可以升降。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如圖1、圖2及圖5所示,覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置600還具有用于夾持由覆蓋層薄膜載置裝置650載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的覆蓋層薄膜Wc中的脫模薄膜的端部的脫模薄膜夾持裝置660。而且,在脫模薄膜夾持裝置660夾持住脫模薄膜端部的狀態(tài)下,通過(guò)臨時(shí)壓接工作臺(tái)410從覆蓋層薄膜供給位置P1向臨時(shí)壓接區(qū)域P2的移動(dòng),能夠從覆蓋層薄膜Wc剝離脫模薄膜。
因此,在將覆蓋層薄膜Wc搬送到臨時(shí)壓接區(qū)域P2的工序中,就能從覆蓋層薄膜剝離脫模薄膜,所以不必另外設(shè)置從覆蓋層薄膜Wc剝離脫模薄膜的特別工序。這樣能夠縮減相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合作業(yè)。
另外,在覆蓋層薄膜Wc載置至臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上之前,可以在覆蓋層薄膜Wc帶有脫模薄膜的狀態(tài)下進(jìn)行操作,因此操作極為方便。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如圖7所示,覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置600還具有在截?cái)喔采w層薄膜Wc0之前、從覆蓋層薄膜Wc0上部分剝離脫模薄膜后形成部分剝離部的脫模薄膜剝離刀670。
因此,載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的覆蓋層薄膜Wc,通過(guò)脫模薄膜剝離刀670預(yù)先形成部分剝離部,所以就能使脫模薄膜夾持裝置660容易地夾持脫模薄膜的端部。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,上述吸附式墊枕654是從將覆蓋層薄膜Wc載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上開(kāi)始、到由脫模薄膜夾持裝置660夾持住脫模薄膜端部為止的時(shí)間內(nèi),吸附著部分剝離部的構(gòu)造。
因?yàn)檩d置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的覆蓋層薄膜Wc,處于由吸附式墊枕654吸附并卷起脫模薄膜的部分剝離部的狀態(tài),所以脫模薄膜夾持裝置660可以更容易地夾持脫模薄膜的端部。
如圖5所示,在覆蓋層薄膜供給通路L2的覆蓋層薄膜供給位置P1和臨時(shí)壓接區(qū)域P2的中間位置上,配置有2個(gè)照明用的發(fā)光元件170。
如上所述,實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1具有將卷筒狀基底薄膜Wb變?yōu)槠狡瑺铋g歇送出的基底薄膜供給裝置200,相對(duì)于由基底薄膜供給裝置200送出的平片狀基底薄膜Wb臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc、形成覆蓋層薄膜Wc臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上的平片狀層壓薄膜Ws的臨時(shí)壓接裝置400,將由臨時(shí)壓接裝置400形成的平片狀的層壓薄膜Ws卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置300。另外,臨時(shí)壓接裝置400具有能沿著覆蓋層薄膜供給通路L2供給覆蓋層薄膜Wc、且能調(diào)整相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410。
因此,若采用實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的話,因?yàn)橄鄬?duì)于間歇送出的平片狀基底薄膜Wb,細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜Wc被臨時(shí)壓接,所以即使采用長(zhǎng)的基底薄膜,也不會(huì)累積基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位誤差,不會(huì)降低基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位精度。
另外,若采用實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的話,因?yàn)楦采w層薄膜Wc由可以調(diào)整相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410被供給到臨時(shí)壓接區(qū)域P2,所以能方便地提高相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。于是,也容易地提高撓性基板的質(zhì)量。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如圖1及圖3所示,在基底薄膜供給通路L1內(nèi)的輔助臨時(shí)壓接裝置500和層壓薄膜回收裝置300之間,互相隔離地配置有2個(gè)攝像元件180。
因此,通過(guò)攝像元件180對(duì)層壓薄膜Ws進(jìn)行攝影,就可以在層壓薄膜回收裝置300回收層壓薄膜Ws之前確認(rèn)其臨時(shí)壓接狀態(tài)。假如攝像元件180的攝影結(jié)果是相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc貼合位置有偏移或者是臨時(shí)壓接不完整的情況,則可以使裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)停止,這樣就能防止這類臨時(shí)壓接不完整的層壓薄膜的形成于未然。
實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,如上所述,還設(shè)有用于使基底薄膜供給裝置200、層壓薄膜回收裝置300、臨時(shí)壓接裝置400以及輔助臨時(shí)壓接裝置500同步動(dòng)作的控制器110。
因此,因?yàn)榭梢杂泄?jié)奏地進(jìn)行臨時(shí)壓接工序及輔助臨時(shí)壓接工序,所以能夠在高度確保相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc貼合位置精度的狀態(tài)下,進(jìn)行整體高生產(chǎn)效率的臨時(shí)壓接。
下面,參照?qǐng)D2及圖8,對(duì)采用實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1時(shí),相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時(shí)壓接方法加以說(shuō)明。圖8是用于說(shuō)明相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜臨時(shí)壓接方法的流程圖。
采用實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1時(shí),相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時(shí)壓接方法具有如下工序向臨時(shí)壓接裝置400供給基底薄膜Wb的[基底薄膜供給工序]、將細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc供給到臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的[覆蓋層薄膜供給工序]、相對(duì)于基底薄膜Wb臨時(shí)壓接覆蓋層薄膜Wc的[臨時(shí)壓接·輔助臨時(shí)壓接工序]、回收臨時(shí)壓接有覆蓋層薄膜Wc的層壓薄膜Ws的[層壓薄膜回收工序]。下面,依次對(duì)上述各工序加以說(shuō)明。
另外,在實(shí)施覆蓋層薄膜貼合時(shí),如圖2所示,移動(dòng)箝位器140配置于輔助臨時(shí)壓接裝置500的附近,覆蓋層薄膜載置裝置650的移動(dòng)箝位器652配置于覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630的近傍,覆蓋層薄膜載置裝置650的吸附式墊枕654配置于覆蓋層薄膜交付位置P3處。另外,臨時(shí)壓接工作臺(tái)410配置于覆蓋層薄膜供給位置P1處。
1.基底薄膜供給工序首先,通過(guò)驅(qū)動(dòng)基底薄膜供給裝置200、移動(dòng)箝位器140及層壓薄膜回收裝置300,使基底薄膜Wb沿基底薄膜供給通路L1進(jìn)行間歇輸送(圖8的步驟Q1)。
當(dāng)基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜貼合位置到達(dá)臨時(shí)壓接區(qū)域P2時(shí),暫時(shí)停止基底薄膜Wb的輸送動(dòng)作,由固定箝位器120、130夾持基底薄膜Wb。這時(shí),通過(guò)壓緊機(jī)構(gòu)490相對(duì)于緩沖機(jī)構(gòu)480壓緊基底薄膜Wb,臨時(shí)壓接區(qū)域P2內(nèi)的基底薄膜Wb由設(shè)在緩沖機(jī)構(gòu)480上的多個(gè)基底薄膜吸附孔真空吸附·固定(圖8的步驟Q2)。
2.覆蓋層薄膜供給工序首先,驅(qū)動(dòng)覆蓋層薄膜輸送裝置610,將卷筒狀的覆蓋層薄膜Wc0變成平片狀,沿著覆蓋層薄膜輸送通路L3間歇送出(圖8的步驟R1)。這時(shí),覆蓋層薄膜Wc0由脫模薄膜剝離刀670部分剝離覆蓋層薄膜Wc0的脫模薄膜,形成部分剝離部。
從覆蓋層薄膜輸送裝置610送出的平片狀覆蓋層薄膜Wc0由移動(dòng)箝位器626供給到覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630上的壓切刀金屬模632和金屬模座634之間。而且,在由移動(dòng)箝位器652夾持平片狀覆蓋層薄膜Wc0的覆蓋層薄膜交付位置P3側(cè)端緣的狀態(tài)下,由覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630截?cái)?圖8的步驟R2)。這時(shí),在平片狀覆蓋層薄膜Wc0和金屬模座634之間一直送出有受刀帶Wh的狀態(tài)下,截?cái)喔采w層薄膜Wc0。
由覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置630截?cái)喑杉?xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜Wc通過(guò)移動(dòng)箝位器652配置于覆蓋層薄膜交付位置P3處。配置在覆蓋層薄膜交付位置P3處的覆蓋層薄膜Wc由吸附式墊枕654吸附著,從覆蓋層薄膜交付位置P3向覆蓋層薄膜供給位置P1的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上搬送·載置(圖8的步驟R3)。
對(duì)于載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的覆蓋層薄膜Wc而言,覆蓋層薄膜Wc的下面由設(shè)在臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的多個(gè)覆蓋層薄膜吸附孔吸附著。另外,在覆蓋層薄膜Wc的上面——即脫模薄膜面,解除吸附著部分剝離部以外部分的吸附式墊枕654的吸附。在此狀態(tài)下若臨時(shí)壓接工作臺(tái)410下降,則對(duì)于載置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的覆蓋層薄膜Wc而言,處于脫模薄膜的部分剝離部由吸附式墊枕654吸附并卷起的狀態(tài)。而且,由脫模薄膜夾持裝置660夾持著該卷起的部分剝離部,同時(shí)通過(guò)臨時(shí)壓接工作臺(tái)410向臨時(shí)壓接區(qū)域P2移動(dòng),脫模薄膜就能很容易地從覆蓋層薄膜Wc剝離(圖8的步驟R4)。
而且,該被剝離了的脫模薄膜回收在配置于覆蓋層薄膜供給位置P1近傍的脫模薄膜回收箱內(nèi)(未圖示)。
3.臨時(shí)壓接·輔助臨時(shí)壓接工序首先,使在覆蓋層薄膜供給位置P1供給了覆蓋層薄膜Wc的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410,移動(dòng)到覆蓋層薄膜供給通路L2的配置了發(fā)光元件170的位置。在該位置處由配置于臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的2個(gè)攝像元件470對(duì)覆蓋層薄膜Wc進(jìn)行攝影,并根據(jù)該攝影結(jié)果,測(cè)定臨時(shí)壓接工作臺(tái)410上的覆蓋層薄膜Wc的位置(圖8的步驟S1)。
然后,使臨時(shí)壓接工作臺(tái)410移動(dòng)到臨時(shí)壓接區(qū)域P2處。這時(shí),壓緊機(jī)構(gòu)490配置于臨時(shí)壓接區(qū)域外。在臨時(shí)壓接區(qū)域P2處,由2個(gè)攝像元件470對(duì)基底薄膜Wb進(jìn)行攝影,并根據(jù)該攝影結(jié)果,測(cè)定以臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的位置為基準(zhǔn)的基底薄膜Wb的位置(圖8的步驟S2)。而且,從上述覆蓋層薄膜Wc及基底薄膜Wb的測(cè)定值計(jì)算出相對(duì)偏移量,再根據(jù)該計(jì)算結(jié)果,驅(qū)動(dòng)臨時(shí)壓接工作臺(tái)410,進(jìn)行水平方向(x軸方向及y軸方向)的移動(dòng)調(diào)整以及/或者圓周方向(z軸周圍)的轉(zhuǎn)動(dòng)調(diào)整,進(jìn)行相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的對(duì)位(圖8的步驟S3)。
相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的對(duì)位結(jié)束后,驅(qū)動(dòng)臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的第4移動(dòng)裝置450,使臨時(shí)壓接工作臺(tái)410移向上方,使覆蓋層薄膜Wc臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上(圖8的步驟S4)。這樣,就形成了覆蓋層薄膜Wc臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb的層壓薄膜Ws。臨時(shí)壓接動(dòng)作結(jié)束后,固定箝位器120、130的夾持被解除。
當(dāng)該臨時(shí)壓接動(dòng)作結(jié)束后,臨時(shí)壓接工作臺(tái)410為了接受來(lái)自覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置600的新覆蓋層薄膜Wc,向覆蓋層薄膜供給位置P1移動(dòng)。
由臨時(shí)壓接裝置400形成的平片狀層壓薄膜Ws,通過(guò)對(duì)基底薄膜供給裝置200、移動(dòng)箝位器140及層壓薄膜回收裝置300的驅(qū)動(dòng),被送往輔助臨時(shí)壓接裝置500。然后,通過(guò)由輔助臨時(shí)壓接裝置500進(jìn)行的輔助臨時(shí)壓接,形成覆蓋層薄膜Wc相對(duì)于基底薄膜Wb更牢固地臨時(shí)壓接了的層壓薄膜Ws(圖8的步驟S5)。
4.層壓薄膜回收工序進(jìn)行了輔助臨時(shí)壓接的層壓薄膜Ws,由移動(dòng)箝位器140送向?qū)訅罕∧せ厥昭b置300。這時(shí),由配置于移動(dòng)箝位器140寬度方向兩端部的攝像元件180對(duì)層壓薄膜Ws的臨時(shí)壓接狀態(tài)進(jìn)行確認(rèn)作業(yè)(圖8的步驟SQ1)。而且,通過(guò)驅(qū)動(dòng)基底薄膜供給裝置200、移動(dòng)箝位器140及層壓薄膜回收裝置300,將平片狀的層壓薄膜Ws卷繞在卷繞輥310上(圖8的步驟SQ2)。這樣,平片狀的層壓薄膜Ws被卷繞成卷筒狀,以卷筒狀層壓薄膜Ws的形式予以回收。
通過(guò)以上的工序,就可以形成覆蓋層薄膜Wc臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上的層壓薄膜Ws。
另外,在相對(duì)于基底薄膜Wb貼合覆蓋層薄膜Wc時(shí),至少需要下列兩工序?qū)⒏采w層薄膜Wc供給到基底薄膜供給通路上的貼合區(qū)域的覆蓋層薄膜供給工序、和相對(duì)于基底薄膜Wb貼合覆蓋層薄膜Wc的貼合工序。但是,如果以一個(gè)步驟(工序)完成相對(duì)于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc的情況下,該貼合工序會(huì)很長(zhǎng),難以提高整體的生產(chǎn)效率。
因此,在實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,是以相對(duì)于基底薄膜Wb臨時(shí)壓接覆蓋層薄膜Wc形成層壓薄膜Ws,來(lái)代替相對(duì)于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc形成層壓薄膜的。因此,可以大副度縮短上述貼合工序時(shí)間,謀求整體生產(chǎn)效率的提高。
在實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1中,為了相對(duì)于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc,可以另行準(zhǔn)備對(duì)臨時(shí)壓接了覆蓋層薄膜Wc的層壓薄膜Ws進(jìn)行壓接(正式壓接)的真空壓力機(jī),采用該真空壓力機(jī)來(lái)完成相對(duì)于基底薄膜Wb完全貼合覆蓋層薄膜Wc。
上述相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的臨時(shí)壓接方法中,在進(jìn)行了相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的臨時(shí)壓接,形成層壓薄膜Ws的工序后,還要進(jìn)行下列兩工序?qū)訅罕∧s供給到進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接的區(qū)域、同時(shí)將新的基底薄膜Wb供給到臨時(shí)壓接區(qū)域P2的工序;和進(jìn)行臨時(shí)壓接工作臺(tái)410的移動(dòng)動(dòng)作,將新的覆蓋層薄膜Wc供給到基底薄膜供給通路L1上的臨時(shí)壓接區(qū)域P2的工序。這時(shí),由于后者的工序比前者的工序所需要的時(shí)間要長(zhǎng)許多,因此通過(guò)利用上述工序之間的時(shí)間差進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接處理,而不必特意花費(fèi)進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接工序的時(shí)間就能夠進(jìn)行輔助臨時(shí)壓接。若采用實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的話,由于具備上述構(gòu)造的輔助臨時(shí)壓接裝置500,所以能縮短最初的臨時(shí)壓接時(shí)間,進(jìn)一步提高整體的生產(chǎn)效率。
(實(shí)施方式2)實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置,采用圖9加以說(shuō)明。圖9是簡(jiǎn)化表示實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置的平面圖。另外,在圖9中對(duì)于和圖2中相同的部件注上相同的符號(hào),并省略其詳細(xì)說(shuō)明。
實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2基本上具有和實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1相同的構(gòu)造。但是,其不同點(diǎn)在于基底薄膜不是卷筒狀,而是采用細(xì)長(zhǎng)形的基底薄膜Wb。
即,實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2設(shè)有向臨時(shí)壓接區(qū)域P2供給細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜Wb的基底薄膜供給裝置1200,相對(duì)于由基底薄膜供給裝置1200供給的細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜Wb臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜Wc、形成細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜Ws的臨時(shí)壓接裝置400,回收由臨時(shí)壓接裝置400形成的細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜Ws的層壓薄膜回收裝置1300。其中,臨時(shí)壓接裝置400具有能夠沿著聯(lián)結(jié)臨時(shí)壓接區(qū)域P2和覆蓋層薄膜供給位置P1的覆蓋層薄膜供給通路L2供給覆蓋層薄膜Wc、而且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410。
因此,若采用實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2的話,由于采用細(xì)長(zhǎng)形的基底薄膜Wb,所以在基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位誤差不可能產(chǎn)生累積,因此基底薄膜長(zhǎng)度方向的對(duì)位精度也不會(huì)降低。
另外,若采用實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2的話,和實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的情況相同,由于覆蓋層薄膜Wc是由可以調(diào)整相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)410供給到臨時(shí)壓接區(qū)域P2的,所以能方便地提高相對(duì)于基底薄膜Wb的覆蓋層薄膜Wc的貼合位置精度。于是,也會(huì)很容易地提高撓性基板質(zhì)量。
因此,實(shí)施方式2的覆蓋層薄膜貼合裝置2,在采用細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜Wb、而不是卷筒狀基底薄膜作為基底薄膜這一點(diǎn)上,和實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1的情況不同,但是,其它方面具有和實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1相同的構(gòu)造,所以具有實(shí)施方式1的覆蓋層薄膜貼合裝置1所有的效果。
另外,作為沿著基底薄膜供給通路L1搬送細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜Wb及細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜Ws的搬送手段,可以采用吸附式墊枕或移動(dòng)工作臺(tái)等公知的搬送手段。
權(quán)利要求
1.一種覆蓋層薄膜貼合裝置,設(shè)有將卷筒狀的基底薄膜變成平片狀、并間歇送出的基底薄膜供給裝置,相對(duì)于由該基底薄膜供給裝置送出的平片狀基底薄膜臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形的覆蓋層薄膜、形成覆蓋層薄膜臨時(shí)壓接于基底薄膜上的平片狀層壓薄膜的臨時(shí)壓接裝置,將由該臨時(shí)壓接裝置形成的平片狀層壓薄膜卷繞成卷筒狀的層壓薄膜回收裝置;其中,上述臨時(shí)壓接裝置,具有能夠沿著聯(lián)結(jié)覆蓋層薄膜臨時(shí)壓接于基底薄膜上的區(qū)域(以下稱為“臨時(shí)壓接區(qū)域”)、和向上述臨時(shí)壓接區(qū)域供給覆蓋層薄膜的位置(以下稱為“覆蓋層薄膜供給位置”)的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)。
2.如權(quán)利要求1所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述覆蓋層薄膜供給通路,與聯(lián)結(jié)上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置的基底薄膜供給通路垂直相交。
3.一種覆蓋層薄膜貼合裝置,設(shè)有向臨時(shí)壓接區(qū)域供給細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜的基底薄膜供給裝置,相對(duì)于由該基底薄膜供給裝置供給的細(xì)長(zhǎng)形基底薄膜臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜、形成細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜的臨時(shí)壓接裝置,用于回收由該臨時(shí)壓接裝置形成的細(xì)長(zhǎng)形層壓薄膜的層壓薄膜回收裝置;其特征在于上述臨時(shí)壓接裝置,具有能夠沿著聯(lián)結(jié)臨時(shí)壓接區(qū)域和覆蓋層薄膜供給位置的覆蓋層薄膜供給通路供給覆蓋層薄膜、且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜的覆蓋層薄膜的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)。
4.如權(quán)利要求1~3中的任何一項(xiàng)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái),能夠在相互垂直相交的2個(gè)水平方向上移動(dòng),且能夠在以水平面內(nèi)的假想點(diǎn)為旋轉(zhuǎn)中心的圓周方向上進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求4所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于在上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上,至少設(shè)有2個(gè)相互隔離配置的攝像用孔,與上述各攝像用孔對(duì)應(yīng)地設(shè)有攝像元件。
6.如權(quán)利要求1~5中的任意一項(xiàng)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái),通過(guò)在上述臨時(shí)壓接區(qū)域的上方移動(dòng)來(lái)進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作。
7.如權(quán)利要求6所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述臨時(shí)壓接裝置,還具有在上述臨時(shí)壓接區(qū)域中臨時(shí)壓接工作臺(tái)進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作時(shí),承受上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)的緩沖機(jī)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求7所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述緩沖機(jī)構(gòu)上設(shè)有用于吸附基底薄膜的多個(gè)基底薄膜吸附孔。
9.如權(quán)利要求8所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述臨時(shí)壓接裝置,還具有在進(jìn)行臨時(shí)壓接動(dòng)作之前相對(duì)于上述緩沖機(jī)構(gòu)將基底薄膜壓緊的壓緊機(jī)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求1~9中的任意一項(xiàng)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)具有用于加熱覆蓋層薄膜的加熱器。
11.如權(quán)利要求1~10中的任意一項(xiàng)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于還設(shè)有覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置,該覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置具有將卷筒狀的覆蓋層薄膜變成平片狀、并間歇送出用的覆蓋層薄膜輸送裝置,將由該覆蓋層薄膜輸送裝置送出的平片狀覆蓋層薄膜截?cái)?、并形成?xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜的覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置,和將由該覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置形成的細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜載置于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上的覆蓋層薄膜載置裝置。
12.如權(quán)利要求11所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置設(shè)有帶用于將平片狀覆蓋層薄膜截?cái)喑杉?xì)長(zhǎng)形的壓切刀的壓切刀金屬模、及承受該壓切刀金屬模的金屬模座;上述覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置還設(shè)有將承受上述壓切刀的受刀帶送出到上述壓切刀金屬模和金屬模座之間的受刀帶輸送裝置、以及卷繞受刀帶的受刀帶卷繞裝置。
13.如權(quán)利要求1~12中的任意一項(xiàng)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于在上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上,設(shè)有用于吸附細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜的多個(gè)覆蓋層薄膜吸附孔。
14.如權(quán)利要求13所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置還設(shè)有將吸附于上述多個(gè)覆蓋層薄膜吸附孔上的覆蓋層薄膜的脫模薄膜的端部予以?shī)A持的脫模薄膜夾持裝置,在該脫模薄膜夾持裝置夾持住上述脫模薄膜的端部的狀態(tài)下,通過(guò)上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)從上述覆蓋層薄膜供給位置向上述臨時(shí)壓接區(qū)域的移動(dòng),從上述覆蓋層薄膜上剝離脫模薄膜。
15.如權(quán)利要求14所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述覆蓋層薄膜截?cái)唷ぽd置裝置還具有用于在截?cái)喔采w層薄膜之前,從覆蓋層薄膜剝離一部分的脫模薄膜、形成部分剝離部的脫模薄膜剝離刀。
16.如權(quán)利要求15所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于上述覆蓋層薄膜載置裝置具有用于將由上述覆蓋層薄膜截?cái)嘌b置截?cái)嗟母采w層薄膜搬送到上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上的吸附式墊枕,該吸附式墊枕在將覆蓋層薄膜載置于上述臨時(shí)壓接工作臺(tái)上開(kāi)始,到由上述脫模薄膜夾持裝置夾持住脫模薄膜的端部為止的時(shí)間內(nèi),吸附著上述部分剝離部。
17.如權(quán)利要求1~16中的任意一項(xiàng)所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于它還設(shè)有配設(shè)于基底薄膜供給通路內(nèi)的上述臨時(shí)壓接裝置的層壓薄膜回收裝置側(cè),用于將由上述臨時(shí)壓接裝置臨時(shí)壓接于基底薄膜上的覆蓋層薄膜相對(duì)于基底薄膜更牢固地進(jìn)行臨時(shí)壓接的輔助臨時(shí)壓接裝置。
18.如權(quán)利要求17所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于在基底薄膜供給通路內(nèi)的上述輔助臨時(shí)壓接裝置和上述層壓薄膜回收裝置之間,至少配設(shè)有2個(gè)相互隔離的攝像元件。
19.如權(quán)利要求17或18所述的覆蓋層薄膜貼合裝置,其特征在于它還具有使上述基底薄膜供給裝置和上述層壓薄膜回收裝置、上述臨時(shí)壓接裝置以及上述輔助臨時(shí)壓接裝置同步動(dòng)作的控制器。
全文摘要
本發(fā)明的覆蓋層薄膜貼合裝置,是用于將細(xì)長(zhǎng)形覆蓋薄膜臨時(shí)壓接于平片狀基底薄膜的覆蓋層薄膜貼合裝置,設(shè)有基底薄膜供給裝置(200),相對(duì)于由基底薄膜供給裝置(200)送出的平片狀基底薄膜(Wb)臨時(shí)壓接細(xì)長(zhǎng)形覆蓋層薄膜(Wc)、并形成覆蓋層薄膜(Wc)臨時(shí)壓接于基底薄膜Wb上的平片狀層壓薄膜Ws的臨時(shí)壓接裝置(400),和層壓薄膜回收裝置(300);其特征在于臨時(shí)壓接裝置(400),具有能夠沿著覆蓋層薄膜供給通路(L2)供給覆蓋層薄膜(Wc)、且能夠調(diào)整相對(duì)于基底薄膜(Wb)的覆蓋層薄膜(Wc)的位置及姿勢(shì)的臨時(shí)壓接工作臺(tái)(410)。能夠容易地提高相對(duì)于基底薄膜(Wb)的覆蓋層薄膜(Wc)貼合位置的精度,從而能夠容易地提高撓性基板的質(zhì)量。
文檔編號(hào)B65H29/46GK1910100SQ20058000158
公開(kāi)日2007年2月7日 申請(qǐng)日期2005年1月25日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月13日
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