拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，包括拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)及拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)用于提供拋?zhàn)邮鴦?dòng)力源，所述拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)用于控制所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)的作業(yè)參數(shù)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)包括電源子系統(tǒng)、離子子系統(tǒng)、激光子系統(tǒng)、激離疊加加速子系統(tǒng)、磁力約束子系統(tǒng)、及超微硒輸出子系統(tǒng)。本發(fā)明提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，首先將氙氣通過強(qiáng)電作用形成帶電離子，再由高能激光載上，經(jīng)過加速后首先產(chǎn)生初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ俳?jīng)超微硒網(wǎng)強(qiáng)化輸出，形成拋?zhàn)邮?，能夠立即產(chǎn)生強(qiáng)大的反向推力，推動(dòng)火箭高速飛行，推力強(qiáng)勁，瞬間動(dòng)力推進(jìn)力較大，能夠滿足火箭飛行所需的強(qiáng)勁動(dòng)力。
【專利說明】
拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明設(shè)及航空航天技術(shù)領(lǐng)域，特別是設(shè)及一種拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前人類對(duì)宇宙空間探測(cè)的需要越來越強(qiáng)烈，開展宇航深空探測(cè)需要火箭作為傳 輸工具，由于深空探測(cè)技術(shù)的不斷發(fā)展及對(duì)空間目標(biāo)任務(wù)的要求不斷提高，空間飛行任務(wù) 的難度也在加大，因此對(duì)火箭推進(jìn)系統(tǒng)的要求也越來越高。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)的火箭推進(jìn)系統(tǒng)，存在瞬間動(dòng)力推進(jìn)力較小的問題，不能很好的滿足火 箭飛行所需的強(qiáng)勁動(dòng)力。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004] 鑒于上述狀況，有必要提供一種拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，解決現(xiàn)有技術(shù)的火箭推進(jìn) 系統(tǒng)瞬間動(dòng)力推進(jìn)力較小的問題。
[0005] -種拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，包括拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)及拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系 統(tǒng)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)用于提供拋?zhàn)邮鴦?dòng)力源，所述拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)用 于控制所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)的作業(yè)參數(shù)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)包括電源子系 統(tǒng)、離子子系統(tǒng)、激光子系統(tǒng)、激離疊加加速子系統(tǒng)、磁力約束子系統(tǒng)、及超微砸輸出子系 統(tǒng)，所述電源子系統(tǒng)用于提供電源，所述離子子系統(tǒng)用于產(chǎn)生帶電離子，所述激光子系統(tǒng)用 于產(chǎn)生高能激光，所述高能激光為所述帶電離子的載體，所述激離疊加加速子系統(tǒng)用于加 速W高能激光為載體的帶電離子，形成初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ?，所述磁力約束子系統(tǒng)用于控制 所述拋?zhàn)硬ㄊ姆较颍龀⒃逸敵鲎酉到y(tǒng)用于強(qiáng)化所述拋?zhàn)硬ㄊ哪芰俊?br>[0006] 本發(fā)明提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，首先將氣氣通過強(qiáng)電作用形成帶電離子，再 由高能激光載上，經(jīng)過加速后首先產(chǎn)生初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ?，再?jīng)超微砸網(wǎng)強(qiáng)化輸出，形成拋 子束流，能夠立即產(chǎn)生強(qiáng)大的反向推力，推動(dòng)火箭高速飛行，推力強(qiáng)勁，瞬間動(dòng)力推進(jìn)力較 大，能夠滿足火箭飛行所需的強(qiáng)勁動(dòng)力。
[0007] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述激光子系統(tǒng)與所述激離疊加加速子系統(tǒng)之 間設(shè)有反射膜，所述反射膜用于阻止非W高能激光為載體的帶電離子通過。
[0008] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述電源子系統(tǒng)為微型核發(fā)電裝置或太陽能發(fā) 電裝置。
[0009] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述離子子系統(tǒng)包括氣氣儲(chǔ)存器和離子發(fā)生器， 所述氣氣儲(chǔ)存器儲(chǔ)存的氣氣經(jīng)過所述離子發(fā)生器形成所述帶電離子。
[0010] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述離子發(fā)生器至少包括一對(duì)對(duì)稱設(shè)置的電極。
[0011] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述激光子系統(tǒng)為神化碳氧雙協(xié)激光器。
[0012] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述超微砸輸出子系統(tǒng)采用超微砸網(wǎng)。
[0013] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，進(jìn)一步包括拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系 統(tǒng)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)用于模擬所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)工作所 需的真空環(huán)境。
[0014] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)包括 激光發(fā)生裝置、離子聚集室、回旋加力場(chǎng)、真空室，所述激光發(fā)生裝置的上方設(shè)有高壓電源 控制裝置，所述離子聚集室的上方設(shè)有質(zhì)子發(fā)射源和電子正引導(dǎo)紫外源，所述質(zhì)子發(fā)射源 和所述電子正引導(dǎo)紫外源中屯、線的上方設(shè)有電子槍，所述回旋加力場(chǎng)的一側(cè)設(shè)有稀有氣體 儲(chǔ)存裝置及設(shè)于所述稀有氣體儲(chǔ)存裝置上方的稀有氣體加入器，所述回旋加力場(chǎng)和所述真 空室之間設(shè)有離子束、激光束合成室，所述真空室的下方設(shè)有樣品祀室及石英觀察室。
[0015] 上述拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其中，所述激光發(fā)生裝置的底部設(shè)有穩(wěn)定調(diào)節(jié)機(jī)座。
【附圖說明】
[0016] 圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)的組成示意圖；
[0017] 圖2為圖1中拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018] 圖3為本發(fā)明第二實(shí)施例提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)的組成示意圖。
[0019] 圖4為圖3中拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020] 主要元件符號(hào)說明
[0021] 拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)100,100a; 拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10,10a;
[0022] 拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)20,20a;電源子系統(tǒng)101;
[0023] 離子子系統(tǒng)102; 氣氣儲(chǔ)存器1021;
[0024] 離子發(fā)生器1022; 電極10221;
[0025] 激光子系統(tǒng)103; 激離疊加加速子系統(tǒng)104;
[0026] 磁力約束子系統(tǒng)105; 超微砸輸出子系統(tǒng)106;
[0027] 反射膜 107;
[0028] 拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)30a;
[00巧]激光發(fā)生裝置301a; 離子聚集室302a;
[0030] 回旋加力場(chǎng)303a; 真空室304a;
[0031] 高壓電源控制裝置305a; 質(zhì)子發(fā)射源306a;
[0032] 電子正引導(dǎo)紫外源307a; 電子槍308a;
[0033] 稀有氣體儲(chǔ)存裝置309a; 稀有氣體加入器310a;
[0034] 離子束、激光束合成室311a; 樣品祀室312a;
[00；3日]石英觀察室313a; 穩(wěn)定調(diào)節(jié)機(jī)座314a;
[0036] 如下【具體實(shí)施方式】將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說明本發(fā)明。
【具體實(shí)施方式】
[0037] 為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更全面的描述。附圖中 給出了本發(fā)明的若干實(shí)施例。但是，本發(fā)明可許多不同的形式來實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所 描述的實(shí)施例。相反地，提供運(yùn)些實(shí)施例的目的是使對(duì)本發(fā)明的公開內(nèi)容更加透徹全面。
[0038] 需要說明的是，當(dāng)元件被稱為"固設(shè)于"另一個(gè)元件，它可W直接在另一個(gè)元件上 或者也可W存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是"連接"另一個(gè)元件，它可W是直接連接 到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。本文所使用的術(shù)語"垂直的"、"水平的"、"左"、 "右"w及類似的表述只是為了說明的目的。
[0039] 除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域的 技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具 體的實(shí)施例的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語"及/或"包括一個(gè)或多個(gè)相 關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。
[0040] 請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明第一實(shí)施例提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)100,其包括拋?zhàn)邮?箭發(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10及拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)20,所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10用于提供拋 子束動(dòng)力源，所述拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)20用于控制所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10的作 業(yè)參數(shù)。
[0041] 請(qǐng)參閱圖2,所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10包括電源子系統(tǒng)101、離子子系統(tǒng)102、 激光子系統(tǒng)103、激離疊加加速子系統(tǒng)104、磁力約束子系統(tǒng)105、及超微砸輸出子系統(tǒng)106。
[0042] 所述電源子系統(tǒng)101用于提供電源，所述電源子系統(tǒng)101為微型核發(fā)電裝置或太陽 能發(fā)電裝置，具體在圖示的實(shí)施例中，所述電源子系統(tǒng)101為太陽能發(fā)電裝置
[0043] 所述離子子系統(tǒng)102用于產(chǎn)生帶電離子，所述離子子系統(tǒng)102包括氣氣儲(chǔ)存器1021 和離子發(fā)生器1022,所述氣氣儲(chǔ)存器1021儲(chǔ)存的氣氣經(jīng)過所述離子發(fā)生器1022形成所述帶 電離子。所述離子發(fā)生器1022至少包括一對(duì)對(duì)稱設(shè)置的電極10221。
[0044] 所述激光子系統(tǒng)103用于產(chǎn)生高能激光，所述高能激光為所述帶電離子的載體，具 體在圖示的實(shí)施例中，所述激光子系統(tǒng)103為神化碳氧雙協(xié)激光器。
[0045] 所述激離疊加加速子系統(tǒng)104用于加速所述W高能激光為載體的帶電離子，形成 初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ?，所述磁力約束子系統(tǒng)105用于控制所述拋?zhàn)硬ㄊ姆较颉?br>[0046] 所述超微砸輸出子系統(tǒng)106用于強(qiáng)化所述拋?zhàn)硬ㄊ哪芰俊＞唧w在圖示的實(shí)施例 中，所述超微砸輸出子系統(tǒng)106采用超微砸網(wǎng)。
[0047] 進(jìn)一步地，所述激光子系統(tǒng)103與所述激離疊加加速子系統(tǒng)104之間設(shè)有反射膜 107,所述反射膜107用于阻止非W高能激光為載體的帶電離子通過。
[004引本發(fā)明的工作原理如下：
[0049] 氣氣儲(chǔ)存器1021儲(chǔ)存的氣氣經(jīng)過離子發(fā)生器1022的強(qiáng)電作用形成帶電離子，由此 形成離子流，該離子流由激光子系統(tǒng)103產(chǎn)生的高能激光（即光粒子)載上，一部分成為W高 能激光為載體的帶電離子，另一部分成為非W高能激光為載體的帶電離子，其中，非W高能 激光為載體的帶電離子被反射膜107截住，W高能激光為載體的帶電離子通過激離疊加加 速子系統(tǒng)104加速，立即產(chǎn)生初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ搾佔(zhàn)硬ㄊ?jīng)過超微砸輸出子系統(tǒng)106強(qiáng) 化輸出，使高能拋?zhàn)硬ㄊM(jìn)入宇宙超真空中，形成拋?zhàn)邮?，進(jìn)而立即產(chǎn)生強(qiáng)大的反向推 力，推動(dòng)火箭高速飛行，瞬間動(dòng)力推進(jìn)力較大，且推力強(qiáng)勁，能夠滿足火箭飛行所需的強(qiáng)勁 動(dòng)力。
[0050] 請(qǐng)參閱圖3,本發(fā)明第二實(shí)施例提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)100a，其在第一實(shí)施例 的基礎(chǔ)上增加了拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)30a，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真 空模擬系統(tǒng)30a用于模擬所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10工作所需的真空環(huán)境，從而能夠在 地面上對(duì)拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)10進(jìn)行研究，避免火箭推進(jìn)系統(tǒng)盲目進(jìn)入太空而產(chǎn)生損 失。
[0051] 請(qǐng)參閱圖4,所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)30a包括激光發(fā)生裝置 301a、離子聚集室302a、回旋加力場(chǎng)303a、真空室304a，所述激光發(fā)生裝置301a的上方設(shè)有 高壓電源控制裝置305a，所述離子聚集室302a的上方設(shè)有質(zhì)子發(fā)射源306a和電子正引導(dǎo)紫 外源307曰，所述質(zhì)子發(fā)射源306a和所述電子正引導(dǎo)紫外源307a中屯、線的上方設(shè)有電子槍 308曰，所述回旋加力場(chǎng)303a的一側(cè)設(shè)有稀有氣體儲(chǔ)存裝置309a及設(shè)于所述稀有氣體儲(chǔ)存裝 置309a上方的稀有氣體加入器310a，所述回旋加力場(chǎng)303a和所述真空室304a之間設(shè)有離子 束、激光束合成室311a，所述真空室304a的下方設(shè)有樣品祀室312a及石英觀察室313a，進(jìn)一 步地，所述激光發(fā)生裝置301a的底部設(shè)有穩(wěn)定調(diào)節(jié)機(jī)座314a。所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面 真空模擬系統(tǒng)30a的參數(shù)由拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力控制系統(tǒng)20a控制。
[0052]該拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)30a能夠精確的模擬拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系 統(tǒng)20a在真空的工作環(huán)境，提高拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)100a的可靠性，拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng) 20a在拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)30a中作業(yè)時(shí)，采用MATLAB模擬控制分量的性能 指標(biāo)如下表所示：
[0化3]
[0054] 本發(fā)明提出的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，首先將氣氣通過強(qiáng)電作用形成帶電離子，再 由高能激光載上，經(jīng)過加速后首先產(chǎn)生初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ?，再?jīng)超微砸網(wǎng)強(qiáng)化輸出，形成拋 子束流，能夠立即產(chǎn)生強(qiáng)大的反向推力，推動(dòng)火箭高速飛行，推力強(qiáng)勁，瞬間動(dòng)力推進(jìn)力較 大，能夠滿足火箭飛行所需的強(qiáng)勁動(dòng)力。
[0055] W上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并 不能因此而理解為對(duì)本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員 來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可W做出若干變形和改進(jìn)，運(yùn)些都屬于本發(fā)明的保 護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)W所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，包括拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)及拋?zhàn)邮鸺?動(dòng)力控制系統(tǒng)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)用于提供拋?zhàn)邮鴦?dòng)力源，所述拋?zhàn)邮鸺齽?dòng)力 控制系統(tǒng)用于控制所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)的作業(yè)參數(shù)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)包 括電源子系統(tǒng)、離子子系統(tǒng)、激光子系統(tǒng)、激離疊加加速子系統(tǒng)、磁力約束子系統(tǒng)、及超微硒 輸出子系統(tǒng)，所述電源子系統(tǒng)用于提供電源，所述離子子系統(tǒng)用于產(chǎn)生帶電離子，所述激光 子系統(tǒng)用于產(chǎn)生高能激光，所述高能激光為所述帶電離子的載體，所述激離疊加加速子系 統(tǒng)用于加速以高能激光為載體的帶電離子，形成初發(fā)態(tài)的拋?zhàn)硬ㄊ?，所述磁力約束子系統(tǒng) 用于控制所述拋?zhàn)硬ㄊ姆较?，所述超微硒輸出子系統(tǒng)用于強(qiáng)化所述拋?zhàn)硬ㄊ哪芰俊?. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述激光子系統(tǒng)與所述激 離疊加加速子系統(tǒng)之間設(shè)有反射膜，所述反射膜用于阻止非以高能激光為載體的帶電離子 通過。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述電源子系統(tǒng)為微型核 發(fā)電裝置或太陽能發(fā)電裝置。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述離子子系統(tǒng)包括氙氣 儲(chǔ)存器和離子發(fā)生器，所述氙氣儲(chǔ)存器儲(chǔ)存的氙氣經(jīng)過所述離子發(fā)生器形成所述帶電離 子。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述離子發(fā)生器至少包括 一對(duì)對(duì)稱設(shè)置的電極。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述激光子系統(tǒng)為砷化碳 氧雙協(xié)激光器。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述超微硒輸出子系統(tǒng)采 用超微砸網(wǎng)。8. 根據(jù)權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括 拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地面真空模擬系統(tǒng)用于模擬 所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)工作所需的真空環(huán)境。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述拋?zhàn)邮鸺l(fā)動(dòng)機(jī)地 面真空模擬系統(tǒng)包括激光發(fā)生裝置、離子聚集室、回旋加力場(chǎng)、真空室，所述激光發(fā)生裝置 的上方設(shè)有高壓電源控制裝置，所述離子聚集室的上方設(shè)有質(zhì)子發(fā)射源和電子正引導(dǎo)紫外 源，所述質(zhì)子發(fā)射源和所述電子正引導(dǎo)紫外源中心線的上方設(shè)有電子槍，所述回旋加力場(chǎng) 的一側(cè)設(shè)有稀有氣體儲(chǔ)存裝置及設(shè)于所述稀有氣體儲(chǔ)存裝置上方的稀有氣體加入器，所述 回旋加力場(chǎng)和所述真空室之間設(shè)有離子束、激光束合成室，所述真空室的下方設(shè)有樣品靶 室及石英觀察室。10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的拋?zhàn)邮鸺七M(jìn)系統(tǒng)，其特征在于，所述激光發(fā)生裝置的底 部設(shè)有穩(wěn)定調(diào)節(jié)機(jī)座。
【文檔編號(hào)】B64G1/40GK105966641SQ201610380658
【公開日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2016年5月31日
【發(fā)明人】郭宗帥, 邱小林, 郭鵬飛, 謝猛
【申請(qǐng)人】南昌理工學(xué)院