真空噴涂限位架的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種真空噴涂限位架，包括本體，所述的本體呈圓環(huán)狀，所述本體包括限位圈和連接桿，所述的連接桿包括內(nèi)圈連接桿和外圈連接桿，相鄰的兩個(gè)限位圈之間通過一根內(nèi)圈連接桿和一根外圈連接桿連接，所述的內(nèi)圈連接桿和外圈連接桿之間設(shè)有固定桿，所述的固定桿中部設(shè)有支撐底座固定孔。本實(shí)用新型用于真空噴涂設(shè)備底座上，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單牢固，可對(duì)噴涂設(shè)備的結(jié)構(gòu)進(jìn)行約束，使得結(jié)構(gòu)布置更為合理，實(shí)現(xiàn)底座驅(qū)動(dòng)固定柱和工件固定架分離，工作時(shí)無干擾，真空噴涂設(shè)備運(yùn)行流暢。
【專利說明】真空噴涂限位架
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種噴涂設(shè)備領(lǐng)域，具體地說是一種真空噴涂限位架。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的真空噴涂設(shè)備的限位架結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理，使得真空噴涂設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)分布較為雜亂，工作時(shí)工件固定架和底座驅(qū)動(dòng)固定柱相互之間會(huì)發(fā)生干擾，真空噴涂設(shè)備運(yùn)行不流暢，影響生產(chǎn)效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種真空噴涂限位架。
[0004]本實(shí)用新型要解決現(xiàn)有的真空噴涂設(shè)備的限位架結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理，工作時(shí)工件固定架和底座驅(qū)動(dòng)固定柱相互之間會(huì)發(fā)生干擾，設(shè)備運(yùn)行不流暢，影響生產(chǎn)效率的問題。
[0005]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種真空噴涂限位架，包括本體，所述的本體呈圓環(huán)狀，所述本體包括限位圈和連接桿，所述的連接桿包括內(nèi)圈連接桿和外圈連接桿，相鄰的兩個(gè)限位圈之間通過一根內(nèi)圈連接桿和一根外圈連接桿連接，所述的內(nèi)圈連接桿和外圈連接桿之間設(shè)有固定桿，所述的固定桿中部設(shè)有支撐底座固定孔。
[0006]本實(shí)用新型的有益效果為:本實(shí)用新型用于真空噴涂設(shè)備底座上，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單牢固，可對(duì)噴涂設(shè)備的結(jié)構(gòu)進(jìn)行約束，使得結(jié)構(gòu)布置更為合理，實(shí)現(xiàn)底座驅(qū)動(dòng)固定柱和工件固定架分離，工作時(shí)無干擾，真空噴涂設(shè)備運(yùn)行流暢。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0008]圖2是本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0010]如圖所示，它包括本體，所述的本體呈圓環(huán)狀，所述本體包括限位圈I和連接桿，所述的連接桿包括內(nèi)圈連接桿4和外圈連接桿2，相鄰的兩個(gè)限位圈I之間通過一根內(nèi)圈連接桿4和一根外圈連接桿2連接，所述的內(nèi)圈連接桿4和外圈連接桿2之間設(shè)有固定桿5，所述的固定桿5中部設(shè)有支撐底座固定孔3。
【權(quán)利要求】
1.一種真空噴涂限位架，包括本體，其特征在于所述的本體呈圓環(huán)狀，所述本體包括限位圈和連接桿，所述的連接桿包括內(nèi)圈連接桿和外圈連接桿，相鄰的兩個(gè)限位圈之間通過一根內(nèi)圈連接桿和一根外圈連接桿連接，所述的內(nèi)圈連接桿和外圈連接桿之間設(shè)有固定桿，所述的固定桿中部設(shè)有支撐底座固定孔。
【文檔編號(hào)】B05B13/02GK203711284SQ201420054331
【公開日】2014年7月16日 申請(qǐng)日期:2014年1月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年1月28日
【發(fā)明者】沈忠林 申請(qǐng)人:嘉興超納金真空鍍膜科技有限公司