利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法。具體步驟是：將5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅的二氯甲烷溶液作為微接觸印刷的印刷劑，將PDMS印章的圖案轉(zhuǎn)移至聚甲基丙烯酸甲酯基底，再吸附還原銅在基底上得到精美的金屬圖案。通過將5，10，15，20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液作為微接觸印刷墨水在電子行業(yè)常用的聚甲基丙烯酸甲酯基底表面制備金屬圖案，原料易得、成本低、穩(wěn)定，在工業(yè)應(yīng)用上具有很大的潛力，為微接觸印刷行業(yè)提供了新思路。
【專利說明】利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方 法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于現(xiàn)代電子【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物作 為綠色環(huán)保墨水在微接觸印刷中的應(yīng)用。

【背景技術(shù)】
[0002] 表面微構(gòu)建技術(shù)正逐漸體現(xiàn)出在重要應(yīng)用價(jià)值，特別是微接觸印刷技術(shù)，其能夠 在小尺寸上微圖案化，在多個(gè)領(lǐng)域特別是現(xiàn)代電子【技術(shù)領(lǐng)域】具有重要意義。目前可供選擇 的微接觸印刷墨水較少，也局限了表面可進(jìn)行微接觸印刷的材料，大量的材料無法用微接 觸印刷的方法制備表面圖案。因而開發(fā)新的、穩(wěn)定的的墨水具有很大的意義。
[0003] 為進(jìn)一步豐富微接觸印刷墨水和基底的選擇，并且提升微接觸印刷質(zhì)量，有必要 進(jìn)一步開發(fā)金屬卟啉、酞菁配合物在微接觸印刷中的應(yīng)用。平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合 物性能穩(wěn)定，成膜質(zhì)量高，可以作為一種穩(wěn)定的墨水應(yīng)用于多種材料表面的微接觸印刷。目 前平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物作為微接觸印刷墨水的應(yīng)用未見報(bào)道。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的是提供平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物作為一種新的墨水在聚甲 基丙烯酸甲酯基底上進(jìn)行微接觸印刷的應(yīng)用。本發(fā)明提供的技術(shù)方案為：該平面共軛酞菁 卟啉二聯(lián)體配合物為5,10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅，具有以下結(jié)構(gòu)式：
[0005]

【權(quán)利要求】
1. 利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法，其特征在于： 該平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物為5,10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁 鋅，具有以下結(jié)構(gòu)式：
將5,10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅的二氯甲烷溶液作為微接觸印刷 的印刷劑，將PDMS印章的圖案轉(zhuǎn)移至聚甲基丙烯酸甲酯基底，再吸附還原銅在基底上得到 精美的金屬圖案； 具體步驟如下： 步驟1、基底材料為聚甲基丙烯酸甲酯，將基底材料用乙醇超聲清洗1小時(shí)，取出在 80°C條件下真空干燥，再用6tlCo伽瑪射線對其進(jìn)行照射150-180h，將照射后的基底與丙烯 酸的水溶液混合，在80°C條件下反應(yīng)1小時(shí)； 步驟2、將5,10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅用二氯甲烷溶解，得到5， 10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液； 步驟3、將PDMS印章浸泡于5,10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷 溶液中1-2分鐘，取出后于N2氣流中干燥30-60s，將涂有5,10,15, 20-對氯苯基卟啉鋅并 六丁氧基酞菁鋅二氯甲烷溶液的I3DMS印章蓋于羧基化基底上，輕壓10-20s，將PDMS印章圖 案轉(zhuǎn)移至基底表面，得到印有圖案的基底； 步驟4、將印有圖案的基底浸泡于0. 5g/L硫酸銅中1-5分鐘，取出后放于二甲胺硼烷溶 液中浸泡10_30min。取出后即可在基底上得到精美的金屬銅圖案。
2. 如權(quán)利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法， 其特征在于：所述6tlCo伽瑪射線的照射強(qiáng)度為100-150KGy。
3. 如權(quán)利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法， 其特征在于：所述照射后的基底與丙烯酸的重量比為100 : 1。
4. 如權(quán)利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法， 其特征在于：所述硫酸銅濃度為0. 5g/L。
5. 如權(quán)利要求1所述的利用平面共軛酞菁卟啉二聯(lián)體配合物進(jìn)行微接觸印刷的方法， 其特征在于：所述二甲胺硼烷濃度為29g/L。
【文檔編號】C09D11/02GK104387836SQ201410619422
【公開日】2015年3月4日 申請日期:2014年11月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月5日
【發(fā)明者】蘇煒, 李培源, 楊芳 申請人:廣西師范學(xué)院