專利名稱：一種水龍頭表面處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種衛(wèi)浴產(chǎn)品基材表面處理方法，特別是一種水龍頭表面處理方法。
背景技術(shù)：
目前，用于衛(wèi)浴產(chǎn)品基材表面處理的BN工藝(基材+電鍍半光鎳+電鍍?nèi)怄? 拉絲+電鍍鉻+PVD)，其流程圖請參見圖1，由于工藝技術(shù)所存在的缺陷，利用該工藝處理后產(chǎn)品PVD的膜層厚度大概在O. I O. 5um，不能填平鍍鎳層后表面的拉絲紋路，使用過程中污垢油潰易于殘留在拉絲紋路內(nèi)，導(dǎo)致產(chǎn)品變色，變臟，易印上手指印，且不易清潔。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能節(jié)約工藝流程，且處理后產(chǎn)品不變色、更耐產(chǎn)、使用過程不留指紋的一種水龍頭表面處理方法。為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題，本發(fā)明的方法包括以下順序的步驟:A、拋磨 對待處理的基材表面進(jìn)行拋磨處理；B、電鍍經(jīng)上述拋磨后的基材置于電解液中，在溫度為(50 60°C )，電流密度為(2 5A/dm2)，電壓為(4 7V)的條件下進(jìn)行(10 26min) 電鍍以形成鍍層；C、拉絲用菜瓜輪在經(jīng)上述步驟處理后形成的鍍層上擦刮出細(xì)微的絲痕；D、噴涂在經(jīng)上述步驟處理后的基材表面上噴涂透明涂料以形成保護(hù)層，在測量角度為20。時，保護(hù)層亮度控制在40 70單位。進(jìn)一步地，上述電鍍步驟中，當(dāng)基材為銅材時，先采用下列電鍍工藝電鍍半光鎳以形成半光鎳層采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L，鍍液溫度50 60。。，電流密度1 2. 5A/dm2 ;然后在半光鎳層上電鍍上一層全光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有 NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉 O. I O. 2g/L、糖精0. 6 lg/L、I，4- 丁炔二醇0. 3 I. 5g/L、PH :3. 8 4. 4，鍍液溫度 50 60°C，電流密度'2 5A/dm2 ;最后進(jìn)行電鍍后處理。進(jìn)一步地，上述電鍍步驟包括，當(dāng)基材為鋅合金基材時，A、首先將基材進(jìn)行電鍍前的除臘處理；B、經(jīng)除臘處理后，在基材表面電鍍上一層銅層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有CuS04 150 250g/L、H2S04 :40 110g/，鍍液溫度20 50。。，電流密度:1 3A/ dm2 ;C、再在銅層上電鍍半光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 :300 350g/ UNiCL2. 6H20 34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L，鍍液溫度 50 60°C，電流密度1 2. 5A/dm2 ;D、然后在半光鎳層上電鍍上全光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有:NiS04. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/ L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L、糖精0. 6 lg/L、I，4- 丁炔二醇0. 3 I. 5g/L、PH 3. 8 4. 4，鍍液溫度50 60°C，電流密度'2 5A/dm2 ;E、最后進(jìn)行電鍍后處理。進(jìn)一步地，上述電鍍步驟包括，當(dāng)基材為ABS塑料基材時，A、首先將基材進(jìn)行電鍍前的除臘處理、在經(jīng)除臘后的基材上電鍍上一層鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有NiSO4. 7H20 :20g/L、NH4CL :30g/L、NaH2PO2. H2O :30g/L、檸檬酸鈉10g/L、PH 值9 10，鍍液溫度25 40°C ) ;C、然后在鎳層上電鍍上銅層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有CuS04 150 250g/L、H2S04 :40 110g/，鍍液溫度20 50°C，電流密度1 3A/dm2 ;D、再在銅層上電鍍半光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L，鍍液溫度50 60。。，電流密度1 2. 5A/dm2 ;E、并在半光鎳層上電鍍上全光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有 NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉
O.I O. 2g/L、糖精0.6 18/1、1，4-丁炔二醇:0· 3 I. 5g/L、PH :3· 8 4. 4 ;鍍液溫度 50 60°C ;電流密度2 5A/dm2 ;F、最后進(jìn)行電鍍后處理。
理。
進(jìn)一步地，所述電鍍后處理步驟包括水洗和烘干處理。
進(jìn)一步地，所述拋磨處理包括先磨砂、再拋光處理。
進(jìn)一步地，所述透明涂料為丙烯酸聚氨酯。
進(jìn)一步地，在上述噴涂步驟前，先將基材依次進(jìn)行除油、鈍化、水洗、吹干、烘烤處
進(jìn)一步地，所述基材經(jīng)上述噴涂處理后再進(jìn)行烘烤固化處理。
進(jìn)一步地，所述保護(hù)層厚度為20 100 μ m。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是
與傳統(tǒng)的BN工藝比較，本發(fā)明省略了拉絲之后的電鍍鉻步驟，既縮短工序，節(jié)約成本，又能避免六價鉻對環(huán)境的污染；拉絲后采用透明涂料代替PVD，可將拉絲后所產(chǎn)生的紋路充分覆蓋，改善了成型后產(chǎn)品表面的微觀結(jié)構(gòu)。特別是，因采用本發(fā)明的電鍍工藝電鍍后形成的鎳層有很好的防腐蝕作用，且所采用的透明涂料為丙烯酸聚氨酯，具有優(yōu)良的耐候性、耐光性和IH以上的鉛筆硬度。因此，經(jīng)本發(fā)明的發(fā)明處理后的產(chǎn)品更耐臟，不變色、 不會殘留手指紋，給用戶留下良好的印象。




圖I是傳統(tǒng)BN工藝的工藝流程圖2是本發(fā)明的工藝流程圖3是為本發(fā)明實施例I中電鍍工序(ABS基材)的工藝流程圖； 圖4為實施例I中產(chǎn)品表層層狀結(jié)構(gòu)不意圖5為本發(fā)明實施例2中電鍍工序(鋅基材)的工藝流程圖6為本發(fā)明實施例3中電鍍工序(銅基材)的工藝流程圖。
具體實施例方式本發(fā)明的表面處理方法可適用于銅、鋅、不銹鋼、鋁、ABS、PC等基材所制成的水龍頭，在下面的實施例中，將分別對ABS塑料基材的水龍頭、鋅基材水龍頭及銅基材水龍頭的表面處理方法作詳細(xì)的解釋和說明。實施例I本實施例所涉及水龍頭是由ABS塑料制成，其基材表面處理工序如下首先，注塑出來的毛坯，通過拋磨的工序使基材的表面光潔、平整，處理時，先用磨砂紙對毛坯進(jìn)行磨砂處理、再進(jìn)行拋光處理。而后，請參考圖3，對經(jīng)拋磨處理后的基材通過除蠟、除油、粗化處理后、依次采用化學(xué)鍍上一層鎳、再用電鍍一層銅、然后在銅層上電鍍一層半光鎳、最后采用電鍍方法鍍上一層全光鎳。經(jīng)上述處理后，將具有四層鍍層的基材進(jìn)行水洗、然后烘干待用。電鍍鎳層時采用的電鍍工藝中，鍍液中含有=NiSO4. 7H20 :20g/L、NH4CL :30g/L、 NaH2PO2. H2O :30g/L、檸檬酸鈉10g/L ;鍍液PH值為9 10，鍍液溫度25 40。。。電鍍銅層時采用的電鍍工藝中，鍍液含有CuS04 150 250g/L、H2S04 :40 IlOg/ ;且鍍液溫度為20 50°C，電鍍時電流密度為1 3A/dm2。電鍍半光鎳層時采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 :300 350g/L、 NiCL2. 6H20 34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L ；電鍍時鍍液溫度為50 60°C，電流密度1 2. 5A/dm2。在半光鎳層上再電鍍?nèi)怄噷訒r，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/ L、糖精0. 6 lg/L、I，4- 丁炔二醇0. 3 I. 5g/L ;鍍液的PH值為3. 8 4. 4 ;鍍液溫度 50 60°C ;電流密度2 5A/dm2。然后，進(jìn)入拉絲工序，用菜瓜輪在經(jīng)上述步驟處理后形成的鍍層上擦刮出細(xì)微的絲痕。最后，是噴涂工序，將經(jīng)拉絲后的基材依次進(jìn)行除油、鈍化、水洗、吹干、烘烤、除塵處理，再用如巴斯夫C23-35的丙烯酸聚氨酯噴涂基材，使其表面形成厚度為20 IOOum的保護(hù)層，噴涂后進(jìn)行烘干處理，以使保護(hù)層固化，固化后保護(hù)層在測量角度為20°時，亮度為40 70坎德拉/平方米。經(jīng)上述工藝處理后，ABS塑料基材的表層結(jié)構(gòu)，從外到內(nèi)依次是保護(hù)層1，全光鎳層2，半光鎳層3，銅層4，化學(xué)鎳層5，ABS基材，請參見圖4。經(jīng)處理后的基材能通過行業(yè)眾多嚴(yán)格的測試，測試項目包括I.落沙實驗從美國進(jìn)口的專用的金剛沙12L通過Im高、指定口徑的垂直管落到呈45°角放置的產(chǎn)品表面，產(chǎn)品表面的噴涂層沒有磨破即為通過(參照ASTM-968和 ASMEA. 112. 18. 1/CSAB125. I).2.附著力測試用刻刀在產(chǎn)品上劃11條(距離為1mm，長度為20mm)的格柵，用特定的附著力測試膠帶粘附，在90+/-30S內(nèi)完成(參照ASTM D-3359 :實驗方法B-柵格切割實驗)。3.水退實驗浸入溫度為38°C +/-2的水中24+/-0. 5h后，取出，在相對濕度為 50% +/-5%的環(huán)境下，將產(chǎn)品自然放置24+/-0. 5h (參照ASTM D-870)。4.抗化學(xué)性實驗在溫度為23+/-2°C、相對濕度為50% +/_5%的環(huán)境中，滴兩滴特定的化學(xué)試劑在產(chǎn)品上保持16小時(參照ASTM D-01308 7. 3部分)。5.腐蝕實驗8小時銅加速(參照ASTM B368)。外觀/顏色/亮度目視/對比樣板(參照行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)DS_500)。實施例2本實施例所涉及水龍頭是由鋅合金制成，其基材電鍍前處理及后處理方法與實施例I相同，處理后產(chǎn)品的表面性能與實施例I 一致，但其電鍍方法如下
請參考圖5，首先，對經(jīng)拋磨處理后的基材通過除蠟、除油處理后；而后，依次先電鍍上一層銅、然后在銅層上電鍍一層半光鎳、最后電鍍上一層全光鎳。在基材表面電鍍銅層所采用的電鍍工藝中，鍍液含有CuS04 150 250g/L、H2S04 :40 IlOg/ ;電鍍時鍍液溫度20 50。。，電流密度1 3A/dm2。在銅層上電鍍半光鎳層所采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 :300 350g/ L、NiCL2. 6H20 34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L ;電鍍時鍍液溫度50 60°C，電流密度1 2. 5A/dm2。在半光鎳層上電鍍上全光鎳層所采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/ L、糖精0. 6 lg/L、l，4-丁炔二醇0. 3 I. 5g/L ;鍍液的PH值為3. 8 4. 4 ;電鍍時鍍液溫度50 60°C，電流密度2 5A/dm2。經(jīng)上述處理后，將具有三層鍍層的基材進(jìn)行水洗、然后烘干待用。實施例3本實施例所涉及水龍頭是由銅制成，其基材電鍍前處理及后處理方法與實施例I 相同，處理后產(chǎn)品的表面性能與實施例I 一致，但其電鍍方法如下請參考圖6，首先，對經(jīng)拋磨處理后的基材通過除蠟、除油處理后；而后，依次先電鍍上一層半光鎳、然后在半光鎳層上再電鍍上一層全光鎳便可。在基材表面上電鍍半光鎳層時所采用的電鍍工藝中，鍍液含有NiS04. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/ L ;電鍍時鍍液溫度50 60°C ;電流密度1 2. 5A/dm2。在半光鎳層上電鍍?nèi)怄噷訒r所采用的電鍍工藝中，鍍液含有NiS04. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/ L、糖精0. 6 lg/L、l，4-丁炔二醇0. 3 I. 5g/L ;鍍液的PH值為3. 8 4. 4 ;電鍍時鍍液溫度50 60°C，電流密度2 5A/dm2。經(jīng)上述處理后，將具有三層鍍層的基材進(jìn)行水洗、然后烘干待用。
權(quán)利要求
1.一種水龍頭表面處理方法，其特征在于包括以下順序的步驟A、拋磨對待處理的基材表面進(jìn)行拋磨處理；B、電鍍經(jīng)上述拋磨后的基材置于電解液中，在溫度為(50 60°C)，電流密度為(2 5A/dm2)，電壓為(4 7V)的條件下進(jìn)行(10 26min)電鍍以形成鍍層；C、拉絲用菜瓜輪在經(jīng)上述步驟處理后形成的鍍層上擦刮出細(xì)微的絲痕；D、噴涂在經(jīng)上述步驟處理后的基材表面上噴涂透明涂料以形成保護(hù)層，在測量角度為20°時，保護(hù)層亮度控制在40 70單位。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述電鍍步驟中，當(dāng)基材為銅材時，先采用下列電鍍工藝電鍍半光鎳以形成半光鎳層采用的電鍍工藝中，鍍液含有 NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉O.I O. 2g/L，鍍液溫度50 60°C，電流密度1 2. 5A/dm2 ；然后在半光鎳層上電鍍上一層全光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4. 7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/ L、糖精0. 6 lg/L、l，4- 丁炔二醇0. 3 I. 5g/L、PH :3. 8 4. 4，鍍液溫度50 60。。， 電流密度'2 5A/dm2 ；最后進(jìn)行電鍍后處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述電鍍步驟包括，當(dāng)基材為鋅合金基材時，A、首先將基材進(jìn)行電鍍前的除臘處理；B、經(jīng)除臘處理后，在基材表面電鍍上一層銅層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有CuS04 150 250g/L、H2S04 :40 110g/，鍍液溫度20 50°C，電流密度1 3A/dm2 ；C、再在銅層上電鍍半光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4.7H20 300 350g/ UNiCL2. 6H20 34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L，鍍液溫度 50 60°C，電流密度:1 2. 5A/dm2 ；D、然后在半光鎳層上電鍍上全光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4.7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/ L、糖精0. 6 lg/L、l，4- 丁炔二醇0. 3 I. 5g/L、PH :3. 8 4. 4，鍍液溫度50 60。。， 電流密度'2 5A/dm2 ；E、最后進(jìn)行電鍍后處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述電鍍步驟包括，當(dāng)基材為ABS塑料基材時，A、首先將基材進(jìn)行電鍍前的除臘處理；B、在經(jīng)除臘后的基材上電鍍上一層鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4.7H20 20g/L、NH4CL :30g/L、NaH2PO2. H2O :30g/L、檸檬酸鈉:10g/L、PH 值9 10，鍍液溫度25 40 0C ；C、然后在鎳層上電鍍上銅層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有CuS04150 250g/L、 H2S04 :40 110g/，鍍液溫度20 50°C，電流密度1 3A/dm2 ；D、再在銅層上電鍍半光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4.7H20 300 350g/UNiCL2. 6H20 :34 45g/L、H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L，鍍液溫度 50 60°C，電流密度:1 2. 5A/dm2 ；E、并在半光鎳層上電鍍上全光鎳層，采用的電鍍工藝中，鍍液含有=NiSO4.7H20 300 350g/L、NiCL2. 6H20 :34 45g/L,H3BO3 :35 45g/L、十二烷基磺酸鈉0. I O. 2g/L、糖精.O.6 lg/L、l，4- 丁炔二醇0. 3 I. 5g/L、PH :3. 8 4. 4 ;鍍液溫度50 60°C ;電流密度2 5A/dm2 ；F、最后進(jìn)行電鍍后處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求2、3或4所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述電鍍后處理步驟包括水洗和烘干處理。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述拋磨處理包括先磨砂、再拋光處理。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述透明涂料為丙烯酸聚氨酯。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于在上述噴涂步驟前，先將基材依次進(jìn)行除油、鈍化、水洗、吹干、烘烤處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述基材經(jīng)上述噴涂處理后再進(jìn)行烘烤固化處理。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水龍頭表面處理方法，其特征在于所述保護(hù)層厚度為 20 100 μ mD
全文摘要
本發(fā)明公開了一種水龍頭表面處理方法，該方法包括以下步驟A、拋磨對待處理的基材表面進(jìn)行拋磨處理，使基材表面更平整、光滑；B、電鍍經(jīng)上述拋磨后的基材置于電鍍液中進(jìn)行電鍍以形成鍍層；C、拉絲用菜瓜輪在經(jīng)上述步驟處理后形成的鍍層上擦刮出細(xì)微的絲痕；D、噴涂在經(jīng)上述步驟處理后的基材表面上噴涂透明涂料以形成測量角度為20°，亮度為40～70的保護(hù)層。與傳統(tǒng)的BN工藝比較，本發(fā)明省略了拉絲之后的電鍍鉻步驟，既縮短工序，節(jié)約成本，又能避免六價鉻對環(huán)境的污染；經(jīng)本發(fā)明的發(fā)明處理后的產(chǎn)品更耐臟，不變色、不會殘留手指紋，給用戶留下良好的印象。
文檔編號B05D3/02GK102605398SQ20121010989
公開日2012年7月25日 申請日期2012年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月13日
發(fā)明者王發(fā)東 申請人:廣州摩恩水暖器材有限公司