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抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法

文檔序號:3814680閱讀:317來源:國知局
專利名稱:抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法。

背景技術(shù)
鹽霧試驗的目的是為了考核產(chǎn)品或金屬材料的耐鹽霧腐蝕質(zhì)量,而鹽霧試驗結(jié)果判定正是對產(chǎn)品質(zhì)量的宣判,它的判定結(jié)果是否正確合理,是正確衡量產(chǎn)品或金屬抗鹽霧腐蝕質(zhì)量的關(guān)鍵。普通的塑膠及金屬基材的防電子輻射鍍膜存在如下缺點1、抗氧化能差,鹽霧試驗(5%NaCl,35℃鹽水噴霧試驗機放置72hr)后鍍層氧化明顯。2、附著力差,鹽霧試驗及高低溫后(-40℃2hr~85℃2hr熱沖擊試驗機條件下放置24hr)附著力差。3、鹽霧試驗及高低溫后(-40℃2hr~85℃2hr熱沖擊試驗機條件下放置24hr)鍍層電阻值波動比較大。因此,普通的塑膠及金屬基材的防電子輻射鍍膜不能滿足消費電子結(jié)構(gòu)部件對防電子輻射鍍膜產(chǎn)品環(huán)境耐候性品質(zhì)需求。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供一種抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,該方法鍍膜后鍍膜層抗氧化性能、環(huán)境耐候性能、附著力性能良好,電阻性測試穩(wěn)定性良好。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案 抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,它包括以下步驟 步驟一底漆噴涂 將編號為WP100∶WP10H∶WP20H的油漆按10∶1∶1配制,配制好的油漆的油漆粘度為9.0±1秒,調(diào)和粘度為9.5±0.5秒,將配合好的油漆注入噴槍內(nèi),底漆噴涂在溫度15℃-30℃、濕度15%-80%的環(huán)境下進行,噴槍氣壓為(3.0±0.5)kgf/cm2,噴槍距產(chǎn)品表面14cm-16cm的高度,以45°-75°的角度,將油漆噴涂到產(chǎn)品鍍膜的面上,膜厚為(8±1)um,將兩面鍍膜完成的產(chǎn)品用肉眼確認有無未涂均勻部分,噴涂均勻的產(chǎn)品放入臺車中,再將放入臺車的產(chǎn)品推入烤箱烘烤,烤箱溫度為(80±5)℃,烘烤時間為60min。
步驟二真空鍍膜 鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將烘烤干燥好的產(chǎn)品放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),真空鍍膜在溫度20℃-35℃、濕度(65±20)%的環(huán)境下進行,真空鍍膜前鍍膜機鍍膜真空室的真空度為6.0×10-5torr,進行鍍膜,真空鍍膜的膜厚為(1±0.5)um。真空鍍膜一共包括五個工藝第一次濺射(Ni)鍍膜;第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜;第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜;第二次濺射(Ni)鍍膜;第三次濺射(Ni)鍍膜。
第一次濺射(Ni)鍍膜的工藝條件為氬氣流量為200ml,鍍膜功率為7KW,真空度為3.0×10-3torr條件下,濺射鍍膜70s。Ni具有很強的耐腐蝕性,第一次濺射(Ni)鍍膜起到為鍍膜層鍍上一層底膜,起到承上啟下的作用,既能與底漆緊密結(jié)合,又能與上層Cu鍍膜結(jié)成致密的鍍膜層,提高鍍膜層附著性能和耐腐蝕性能。
第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜的工藝條件為采用銅(Cu)作為鍍膜材料,將材料制成重量為54g,長度為5cm的銅絲,將銅絲放在鉬舟內(nèi),鍍膜前延時60s,在450A電流下預熱40s,650A電流下蒸發(fā)鍍膜200s,鍍膜真空度為6.0×10-5torr。Cu具有良好的導電性能,第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜能夠增強鍍膜層的導電性能。
第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜的工藝條件為采用銀(Ag)作為鍍膜材料,將材料制成重量為34g,長度為5cm的銀絲,將銀絲放在鉬舟內(nèi),鍍膜前延時60s,在450A電流下預熱40S,650A電流下蒸發(fā)鍍膜200S,鍍膜真空度為6.0×10-5torr。Ag具有良好的導電性能和抗腐蝕、抗氧化性能,第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜能夠增強鍍膜層的導電性能、抗腐蝕、抗氧化性能。
第二次濺射(Ni)鍍膜的工藝條件為鍍膜前延時120s,氬氣流量為200ml,鍍膜功率為17KW、真空度為3.0×10-3torr,濺射鍍膜240s。第二次濺射(Ni)鍍膜能夠保護第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜層、第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜層這兩層的導電性能,使鍍膜層電阻性測試穩(wěn)定性良好。
第三次濺射(Ni)鍍膜工藝條件為鍍膜前延時120s,氬氣流量為200ml,鍍膜功率為17KW、真空度為3.0×10-3torr,濺射鍍膜240s。第三次濺射(Ni)鍍膜起到對下層鍍膜層的保護及加厚作用,增強耐腐蝕、抗氧化性能。
本發(fā)明的有益效果本發(fā)明所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,包括如下步驟(1)底漆噴涂將按照配合基準配合好的油漆注入噴槍內(nèi),將油漆噴涂到產(chǎn)品鍍膜的面上,將兩面鍍膜完成的產(chǎn)品放入烤箱烘烤;(2)真空鍍膜鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將干燥完的產(chǎn)品放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),進行鍍膜;真空鍍膜一共包括五個工藝第一次濺射(Ni)鍍膜;第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜;第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜;第二次濺射(Ni)鍍膜;第三次濺射(Ni)鍍膜。塑膠及金屬基材采用本方法的鍍膜層抗氧化性能、環(huán)境耐候性能、附著力性能良好,電阻性測試穩(wěn)定性良好。

具體實施例方式 下面以手機外殼的真空鍍膜為具體實施例,對本發(fā)明作進一步的說明 實施例1 將編號為WP100∶WP10H∶WP20H的油漆按10∶1∶1配制,配制好的油漆的油漆粘度為9.0±1秒,調(diào)和粘度為9.5±0.5秒,將配合好的油漆注入噴槍內(nèi),底漆噴涂在溫度15℃、濕度15%的環(huán)境下進行,噴槍氣壓為2.5kgf/cm2,噴槍距手機外殼表面14cm的高度,以45°的角度,將油漆噴涂到手機外殼鍍膜的面上,膜厚為7um,將兩面鍍膜完成的手機外殼用肉眼確認有無未涂均勻部分,噴涂均勻的手機外殼放入臺車中,再將放入臺車的手機外殼推入烤箱烘烤,烤箱溫度為75℃,烘烤時間為60min。
真空鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將干燥完的手機外殼放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),真空鍍膜在溫度20℃、濕度45%的環(huán)境下進行,真空鍍膜前鍍膜機鍍膜真空室的真空度為6.0×10-5torr,進行鍍膜,真空鍍膜的膜厚為0.5um。真空鍍膜一共包括五個工藝第一次濺射(Ni)鍍膜;第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜;第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜;第二次濺射(Ni)鍍膜;第三次濺射(Ni)鍍膜。
第一次濺射(Ni)鍍膜的工藝條件為氬氣流量為200ml,鍍膜功率為7KW,真空度為3.0×10-3torr條件下,濺射鍍膜70s。Ni具有很強的耐腐蝕性,第一次濺射(Ni)鍍膜起到為鍍膜層鍍上一層底膜,起到承上啟下的作用,既能與底漆緊密結(jié)合,又能與上層Cu鍍膜結(jié)成致密的鍍膜層,提高鍍膜層附著性能和耐腐蝕性能。
第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜的工藝條件為采用銅(Cu)作為鍍膜材料,將材料制成重量為54g,長度為5cm的銅絲,將銅絲放在鉬舟內(nèi),鍍膜前延時60s,在450A電流下預熱40s,650A電流下蒸發(fā)鍍膜200s,鍍膜真空度為6.0×10-5torr。Cu具有良好的導電性能,第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜能夠增強鍍膜層的導電性能。
第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜的工藝條件為采用銀(Ag)作為鍍膜材料,將材料制成重量為34g,長度為5cm的銀絲,將銀絲放在鉬舟內(nèi),鍍膜前延時60s,在450A電流下預熱40S,650A電流下蒸發(fā)鍍膜200S,鍍膜真空度為6.0×10-5torr。Ag具有良好的導電性能和抗腐蝕、抗氧化性能,第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜能夠增強鍍膜層的導電性能、抗腐蝕、抗氧化性能。
第二次濺射(Ni)鍍膜的工藝條件為鍍膜前延時120s,氬氣流量為200ml,鍍膜功率為17KW、真空度為3.0×10-3torr,濺射鍍膜240s。第二次濺射(Ni)鍍膜能夠保護第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜層、第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜層這兩層的導電性能,使鍍膜層電阻性測試穩(wěn)定性良好。
第三次濺射(Ni)鍍膜工藝條件為鍍膜前延時120s,氬氣流量為200ml,鍍膜功率為17KW、真空度為3.0×10-3torr,濺射鍍膜240s。第三次濺射(Ni)鍍膜起到對下層鍍膜層的保護及加厚作用,增強耐腐蝕、抗氧化性能。
實施例2 將編號為WP100∶WP10H∶WP20H的油漆按10∶1∶1配制,配制好的油漆的油漆粘度為9.0±1秒,調(diào)和粘度為9.5±0.5秒,將配合好的油漆注入噴槍內(nèi),底漆噴涂在溫度25℃、濕度50%的環(huán)境下進行,噴槍氣壓為3.0kgf/cm2,噴槍距手機外殼表面15m的高度,以60°的角度,將油漆噴涂到手機外殼鍍膜的面上,膜厚為8um,將兩面鍍膜完成的手機外殼用肉眼確認有無未涂均勻部分,噴涂均勻的手機外殼放入臺車中,再將放入臺車的手機外殼推入烤箱烘烤,烤箱溫度為80℃,烘烤時間為60min。
真空鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將干燥完的手機外殼放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),真空鍍膜在溫度30℃、濕度65%的環(huán)境下進行,真空鍍膜前鍍膜機鍍膜真空室的真空度為6.0×10-5torr,進行鍍膜,真空鍍膜的膜厚為1.0um。
其它步驟與實施例1相同。
實施例3 將編號為WP100∶WP10H∶WP20H的油漆按10∶1∶1配制,配制好的油漆的油漆粘度為9.0±1秒,調(diào)和粘度為9.5±0.5秒,將配合好的油漆注入噴槍內(nèi),底漆噴涂在溫度30℃、濕度80%的環(huán)境下進行,噴槍氣壓為3.5kgf/cm2,噴槍距手機外殼表面15m的高度,以75°的角度,將油漆噴涂到手機外殼鍍膜的面上,膜厚為9um,將兩面鍍膜完成的手機外殼用肉眼確認有無未涂均勻部分,噴涂均勻的手機外殼放入臺車中,再將放入臺車的手機外殼推入烤箱烘烤,烤箱溫度為85℃,烘烤時間為60min。
真空鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將干燥完的手機外殼放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),真空鍍膜在溫度35℃、濕度85%的環(huán)境下進行,真空鍍膜前鍍膜機鍍膜真空室的真空度為6.0×10-5torr,進行鍍膜,真空鍍膜的膜厚為1.5um。
其它步驟與實施例1相同。
以上所述僅是本發(fā)明的較佳實施例,故凡依本發(fā)明專利申請范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾,均包括于本發(fā)明專利申請范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于它包括以下步驟
步驟一底漆噴涂將按照配合基準配合好的油漆注入噴槍內(nèi),將油漆噴涂到產(chǎn)品鍍膜的面上,將兩面鍍膜完成的產(chǎn)品放入烤箱烘烤;
步驟二真空鍍膜鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將烘烤干燥好的產(chǎn)品放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),進行鍍膜;真空鍍膜一共包括五個工藝第一次濺射(Ni)鍍膜;第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜;第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜;第二次濺射(Ni)鍍膜;第三次濺射(Ni)鍍膜。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟一的噴槍氣壓為(3.0±0.5)kgf/cm2,噴槍距產(chǎn)品表面14cm-6cm的高度,以45°-75°的角度噴涂,底漆噴涂的膜厚為(8±1)um。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟一的底漆噴涂在溫度15℃-30℃、濕度15%-80%的環(huán)境下進行,烤箱溫度為(80±5)℃,烘烤時間為60min。
4、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的真空鍍膜在溫度20℃-35℃、濕度(65±20)%的環(huán)境下進行,真空鍍膜前鍍膜機鍍膜真空室的真空度為6.0×10-5torr。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的第一次濺射(Ni)鍍膜的工藝條件為氬氣流量為200ml,鍍膜功率為7KW,真空度為3.0×10-3torr條件下,濺射鍍膜70s。
6、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜的工藝條件為采用銅(Cu)作為鍍膜材料,將材料制成重量為54g,長度為5cm的銅絲,將銅絲放在鉬舟內(nèi),鍍膜前延時60s,在450A電流下預熱40s,650A電流下蒸發(fā)鍍膜200s,鍍膜真空度為6.0×10-5torr。
7、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜的工藝條件為采用銀(Ag)作為鍍膜材料,將材料制成重量為34g,長度為5cm的銀絲,將銀絲放在鉬舟內(nèi),鍍膜前延時60s,在450A電流下預熱40S,650A電流下蒸發(fā)鍍膜200S,鍍膜真空度為6.0×10-5torr。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的第二次濺射(Ni)鍍膜的工藝條件為鍍膜前延時120s,氬氣流量為200ml,鍍膜功率為17KW、真空度為3.0×10-3torr,濺射鍍膜240s。
9、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的第三次濺射(Ni)鍍膜工藝條件為鍍膜前延時120s,氬氣流量為200ml,鍍膜功率為17KW、真空度為3.0×10-3torr,濺射鍍膜240s。
10、根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其特征在于所述的步驟二的真空鍍膜的膜厚為((1±0.5))um。
全文摘要
本發(fā)明屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及抗氧化防電子輻射真空鍍膜方法,其包括如下步驟一、底漆噴涂將按照配合基準配合好的油漆注入噴槍內(nèi),將油漆噴涂到產(chǎn)品鍍膜的面上,將兩面鍍膜完成的產(chǎn)品放入烤箱烘烤;二、真空鍍膜鍍膜前,在真空鍍膜機內(nèi)加膜料,將烘烤干燥好的產(chǎn)品放入轉(zhuǎn)盤滾筒的夾具上,并移動到真空鍍膜機內(nèi),進行鍍膜;真空鍍膜一共包括五個工藝第一次濺射(Ni)鍍膜;第一次蒸發(fā)(Cu)鍍膜;第二次蒸發(fā)(Ag)鍍膜;第二次濺射(Ni)鍍膜;第三次濺射(Ni)鍍膜;塑膠及金屬基材采用本方法的鍍膜層抗氧化性能、環(huán)境耐候性能、附著力性能良好,電阻性測試穩(wěn)定性良好。
文檔編號B05D1/02GK101565814SQ20091003825
公開日2009年10月28日 申請日期2009年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日
發(fā)明者胤 歐, 張學章, 樸文元 申請人:東莞勁勝精密組件股份有限公司
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