專利名稱：涂布設備與噴嘴的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是有關于一種制程設備，且特別是有關于 一種涂布設備與噴嘴。
技術背景在半導體制程中，經常使用各種液體進行不同的制程。舉例而言，在光刻膠(photoresist)涂布制程(coating process)中，就使用光刻膠噴涂于晶圓 (wafer)上，以進4刊敖影制程。由于光刻膠內的雜質會影響到制程的良品率，因此當光刻膠從光刻膠瓶 內抽取出來之后，還要通過過濾器，以過濾雜質或成為膠狀的光刻膠。然而，經過過濾器之后，在管路中流動的光刻膠仍有可能因為久置而產 生膠狀或其他雜質，即使清洗管路，也無法確保管路內的光刻膠不會產生膠 狀，且清洗管路將花費額外的時間與成本。發(fā)明內容本發(fā)明的目的在于提供一種涂布設備，以提供雜質含量較低的涂布液。 本發(fā)明的另一目的在于提供一種噴嘴，以過濾涂布液中的雜質。 為達成上述目的，本發(fā)明提出一種涂布設備，其包括一儲存裝置、 一泵與一噴嘴，其中儲存裝置用以儲存一涂布液。泵具有一輸入端及一輸出端，其中輸入端耦接至儲存裝置，用以抽取涂布液。噴嘴耦接至泵的輸出端，其中噴嘴包括一噴嘴本體與一第一過濾器，且第一過濾器配置于噴嘴本體內。 為達成上述目的，本發(fā)明提出一種噴嘴，其包括一噴嘴本體與一過濾器，其中噴嘴本體具有一內擋部，且過濾器配置于噴嘴本體內。過濾器包括一具有微孔性結構的過濾媒介，用以過濾一涂布液的雜質?；谏鲜?，本發(fā)明在噴嘴內配置過濾器，以濾除涂布液中的雜質，因此采用本發(fā)明的涂布設備所進行的半導體制程將具有較高的制程良品率。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合附圖，作詳細說明如下。


圖1是依照本發(fā)明的一實施例的一種涂布設備的示意圖。圖2是圖1中的噴嘴的剖面圖。主要元件符號說明100:涂布設備110:儲存裝置120:泵120a:輸入端120b:輸出端130:噴嘴132:噴嘴本體132a:內擋部132b:外螺紋134:第一過濾器140:管路150:第二過濾器具體實施方式
圖1是依照本發(fā)明的一實施例的一種涂布設備的示意圖，而圖2是圖1 中的噴嘴的剖面圖。請參考圖1與圖2，本實施例的涂布設備100包括一儲 存裝置110、 一泵120與一噴嘴130,其中儲存裝置IIO用以儲存一涂布液。 涂布液可以是光刻膠液、顯影液或其他化學藥劑。當涂布液為光刻膠液時， 儲存裝置IIO可以是光刻膠瓶。泵120具有一輸入端120a及一輸出端120b， 其中輸入端120a耦接至儲存裝置110,且輸入端120a用以抽取涂布液。此 外，噴嘴130耦接至泵120的輸出端120b,而噴嘴130包括一噴嘴本體132 與一第一過濾器134,且第一過濾器134配置于噴嘴本體130內。在本實施 例中，涂布設備100也可以包括一管路140，且管路140分別耦接至泵120 的輸出端120b與噴嘴130。因此，泵120的輸出端120b所輸出的涂布液便 可經由管路140而輸入至噴嘴130。另外，涂布設備IOO也可以包括一第二 過濾器150,其位于管路140與泵120之間，以過濾從泵120所輸出的涂布
液中的雜質。請參考圖1與圖2，更詳細而言，噴嘴本體132具有一外螺紋132b，以 便于與管路140組裝。換句話說，噴嘴130與管路140經由外螺紋132b組 裝。除此，噴嘴本體132也可以套接或其他方式組裝至管路140。此外，噴 嘴本體132具有一內擋部132a，以固定第一過濾器134，且內擋部132a與 第一過濾器134之間具有至少二接觸點。在本實施例中，內擋部132a可以 是一環(huán)狀凸緣，因此第一過濾器134便可塞入噴嘴本體132而與內擋部132a 接觸。同樣地，第一過濾器134也可以采用其他方式組裝至噴嘴本體132。 第一過濾器134包括一具有微孔性結構的過濾媒介或其他濾材，以過濾涂布 液中的雜質，而第二過濾器150與第一過濾器134的結構可以是相同。由于噴嘴130具有第一過濾器134，以過濾涂布液中的雜質，因此采用 此涂布設備IOO所進行的半導體制程將具有較高的制程良品率。此外，當涂 布液為光刻膠液時，在久置的狀況下，在第二過濾器150與噴嘴130之間的 管路140內的光刻膠液便可能發(fā)生變質而成為膠狀，而第一過濾器134便可 將此膠狀的光刻膠液濾除，以提高制程良品率。另者，其他的制程設備無須 變更管路設計，只需搭配本實施例的噴嘴130便可去除雜質，以提高制程良 品率。再者，只需抽換第一過濾器134即可恢復正常的過濾功能，因此此涂 布設備100所需的維修時間較少，且維修成本也較低。雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何 所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內，當可作 些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視權利要求書所界定者為準。
權利要求
1. 一種涂布設備，包括一儲存裝置，用以儲存一涂布液；一泵，具有一輸入端及一輸出端，其中該輸入端耦接至該儲存裝置，用以抽取該涂布液；以及一噴嘴，耦接至該泵的該輸出端，其中該噴嘴包括一噴嘴本體與一第一過濾器，該第一過濾器配置于該噴嘴本體內。
2. 根據(jù)權利要求1所述的涂布設備，其中該涂布液為一光刻膠液。
3. 根據(jù)權利要求1所述的涂布設備，其中該噴嘴本體具有一內擋部，以 固定該第一過濾器。
4. 根據(jù)權利要求3所述的涂布設備，其中該內擋部與該第一過濾器之間 具有至少二接觸點。
5. 根據(jù)權利要求3所述的涂布設備，其中該內擋部為一環(huán)狀凸緣。
6. 根據(jù)權利要求1所述的涂布設備，還包括一管路，分別耦接至該泵的 該輸出端與該噴嘴。
7. 根據(jù)權利要求6所述的涂布設備，其中該噴嘴本體具有一外螺紋，且 該噴嘴與該管路經由該外螺紋組裝。
8. 根據(jù)權利要求6所述的涂布設備，還包括一第二過濾器，位于該管路 與該泵之間。
9. 根據(jù)權利要求1所述的涂布設備，其中該第一過濾器包括一具有微孔 性結構的過濾媒介。
10. —種噴嘴，包括 一噴嘴本體，具有一內擋部；以及一過濾器，配置于該噴嘴本體內，該過濾器包括一具有微孔性結構的過 濾々某介，用以過濾一涂布液的雜質。
11. 根據(jù)權利要求IO所述的噴嘴，其中該涂布液為一光刻膠液。
12. 根據(jù)權利要求IO所述的噴嘴，其中該噴嘴本體借由該內擋部，以固 定該過濾器。
13. 根據(jù)權利要求IO所述的噴嘴，其中該內擋部與該過濾器之間具有至 少二接觸點。
14. 根據(jù)權利要求IO所述的噴嘴，其中該內擋部為一環(huán)狀凸緣。
15. 根據(jù)權利要求IO所述的噴嘴，其中該噴嘴本體具有一外螺紋。
全文摘要
一種涂布設備，其包括一儲存裝置、一泵與一噴嘴，其中儲存裝置用以儲存一涂布液。泵具有一輸入端及一輸出端，其中輸入端耦接至儲存裝置，用以抽取涂布液。噴嘴耦接至泵的輸出端，其中噴嘴包括一噴嘴本體與一過濾器，且過濾器配置于噴嘴本體內。因此，此種涂布設備能夠提高制程良品率。
文檔編號B05C5/00GK101396684SQ200710161770
公開日2009年4月1日 申請日期2007年9月26日 優(yōu)先權日2007年9月26日
發(fā)明者王藝華 申請人:立景光電股份有限公司