一種幕簾式涂布裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及涂布裝置的技術(shù)改進，尤其是一種幕簾式涂布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著社會需求的多樣化和涂布技術(shù)的不斷發(fā)展，對各種涂布設備的要求不斷提 高。不同產(chǎn)品有不同的涂布設備，其中涂布方法有代表性的有：氣刀涂布、輥式涂布、計量棒 涂布和幕簾式涂布等。但隨著高速涂產(chǎn)品如熱敏記錄材料、磁記錄材料、噴墨記錄材料、鹵 化銀照片光敏材料、不干膠材料以及高速紙的機內(nèi)涂布等的生產(chǎn)，經(jīng)常采用幕簾式涂布方 式。
[0003] 幕簾式涂布包括下述步驟；涂布溶液置于布料器內(nèi)，通過狹縫排出，形成均勻的薄 膜液體保留在簾邊導向裝置內(nèi)，以便涂布在幕簾式移動的涂布材料表面，從而在涂布材料 表面形成涂膜。當涂布溶液施加到位于簾邊導向裝置與涂布材料表面之間形成的空隙時， 導致幕簾涂布寬度等于或小于涂布材料，該涂布溶液在寬度方向上被拉向涂膜的中心，導 致了所謂的"向內(nèi)彎曲"現(xiàn)象，其中涂布溶液的過量沉積出現(xiàn)在涂布邊緣，同時形成涂布幕 簾不穩(wěn)定，導致涂布幕簾在兩側(cè)形成破簾，在涂布材料上形成漏除。
[0004] 這種過量沉積在干燥器中進行干燥處理時，經(jīng)過干燥器后紙幅傳輸滾筒上或當紙 幅被導出時反面邊緣產(chǎn)生污點，甚至該過量沉積在干燥器上被完全干燥時，涂布機上提供 的涂布紙導出單元導出涂布紙，其中過量沉積的位置在滾筒里的同一位置上，這就在滾筒 上引起不想要的加厚或凸起部分，過量沉積還會引起紙幅斷裂。經(jīng)過壓光機時，造成壓光軟 輥破損，卷取紙也會由于邊緣凸起而破裂。
[0005] 為了避免涂層邊緣處產(chǎn)生過量沉積，日本專利申請公開（JP-A)號2000-513公開 了通過沿著動表面相反邊緣流入輔助溶液使滑動表面反面處涂布溶液的流速接近涂布中 心的流速的方法，但是該種方法需要大量的輔助溶液，因為它是沿著導向裝置邊緣流入，輔 助溶液有可能與沿邊緣導向裝置流入涂布溶液混合，或沿著邊緣導向裝置向輔助溶液流速 變得不均勻，因此在涂層邊緣處不能保證穩(wěn)定的沉積量，產(chǎn)生次品。此外，這些方法需要復 雜的處理機構(gòu)，同時在生產(chǎn)中因各種原因造成涂布幕簾破裂，從而引起斷簾，故障率高，涂 布質(zhì)量無法穩(wěn)定；在轉(zhuǎn)換規(guī)格時需要停機處理，過程復雜，紙幅留邊不穩(wěn)定。
[0006] 日本專利申請公開（JP-A)號2000-254567公開了通過抽吸去除幕簾邊導向裝置 下邊緣處過時沉積的方法。該方法的缺點是：只有當吸嘴接觸過時沉積時或與過量沉積緊 鄰放置時才能除去過時沉積。因此，需要使用吸嘴與紙幅之間的距離相當小，但這使得附著 在移動紙幅表面上的灰塵粘到該吸嘴上引起紙幅斷裂；設備故障率高，涂布質(zhì)量不穩(wěn)定，在 轉(zhuǎn)換規(guī)格時必須停機處理，而且過程復雜，紙幅留邊不穩(wěn)定。
[0007] 日本專利申請公開（JP-A)號2004-16877公開了下述涂布方法：通過使幕簾寬度 大于紙幅寬度且從幕簾與紙幅表面碰撞處上游將紙幅的兩側(cè)折疊，同時在紙幅兩側(cè)產(chǎn)生未 涂布部分。盡管該方法的確在涂布邊緣不產(chǎn)生過量沉積，然而該幕簾需要的寬度比紙幅大， 而且超過紙幅寬度的那部分涂布溶液沒有施加到紙幅上。該方法的缺點是：碰撞處上游處 將紙幅的兩側(cè)折疊，引起紙幅斷裂，設備故障率高，涂布質(zhì)量無法穩(wěn)定，在轉(zhuǎn)換規(guī)格時必須 停機處理，過程復雜，紙幅留邊不穩(wěn)定。針對現(xiàn)有涂布裝置產(chǎn)生過量沉積，引起紙幅斷裂，設 備故障率高，涂布質(zhì)量不穩(wěn)定，轉(zhuǎn)換規(guī)格需要停機處理，過程復雜，紙幅留邊不穩(wěn)定等問題， 如何改進現(xiàn)有的涂布裝置，均勻地將涂布溶液涂布到涂布材料上，提高幕簾穩(wěn)定性和涂布 質(zhì)量，是本發(fā)明的重要課題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明的目的就是要解決現(xiàn)有涂布裝置產(chǎn)生過量沉積，紙幅斷裂，設備故障率高， 涂布質(zhì)量不穩(wěn)定，轉(zhuǎn)換規(guī)格需要停機處理，過程復雜，紙幅留邊不穩(wěn)定等問題，提供一種幕 簾式涂布裝置。
[0009] 本發(fā)明的具體方案是：針對現(xiàn)有的涂布裝置進行改進，具有幕簾式涂布頭，導流板 和回收料盤，其特征是：幕簾式涂布頭兩側(cè)裝有導流板，導流板頂部固定在幕簾式涂頭兩 偵L導流板的底部伸至回收料盤上方，涂布材料位于幕簾式涂布頭的正下方，回收料盤位于 涂布材料的正下方。
[0010] 本發(fā)明中所述導流板的下端低于涂布材料5-l〇Cm。
[0011] 本發(fā)明中所述導流板與垂直面的夾角為15-30°。
[0012] 本發(fā)明中所述導流板的寬度為10-15cm。
[0013] 本發(fā)明中所述回收料盤的寬度比幕簾式涂布頭的寬度寬10_15cm。
[0014] 本發(fā)明中所述幕簾式涂布頭的寬度比涂布材料的寬度寬20_30cm。
[0015] 本發(fā)明與現(xiàn)有的涂布裝置相比具有以下優(yōu)點： 1.能夠均勻地將涂布溶液涂布到涂布材料上，幕簾能夠長時間穩(wěn)定的連續(xù)運行，與此 同時避免紙幅輕微跑偏紙幅留邊不穩(wěn)定的現(xiàn)象，設備簡單故障率低，產(chǎn)品質(zhì)量高。
[0016] 2.成本低，減少了轉(zhuǎn)換規(guī)格時的停機處理，生產(chǎn)效率得到了顯著的提高。
【附圖說明】
[0017] 圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖中：1 一導流板，2-唇簾式涂布頭，3-回收料盤，4一涂布材料。
【具體實施方式】
[0018] 參見圖1，本發(fā)明具有幕簾式涂布頭2,導流板1和回收料盤3,其特征是：幕簾式 涂布頭2兩側(cè)裝有導流板1，導流板1頂部固定在幕簾式涂頭2兩側(cè)，導流板1的底部伸至 回收料盤3上方，涂布材料4位于幕簾式涂布頭2的正下方，回收料盤3位于涂布材料4的 正下方。
[0019] 本實施例中所述導流板1的下端低于涂布材料45-10cm。
[0020] 本實施例中所述導流板1與垂直面的夾角為15-30°。
[0021] 本實施例中所述導流板1的寬度為10-15cm。
[0022] 本實施例中所述回收料盤3的寬度比幕簾式涂布頭2的寬度寬10_15cm。
[0023] 本實施例中所述幕簾式涂布頭2的寬度比涂布材料4的寬度寬20_30cm。
[0024] 本實施例中的涂布條件為： 涂布底材：定量50g/m2熱敏原紙 涂料：30%熱敏涂料 涂料粘度：250mPa · s 涂布速度：500m/min 涂布量；3~4g/m2 涂布寬度：1720mm 導邊板角度；15~30° 簾高：150 mm 導流板高：250 mm 通過測定不同紙幅位置的料涂量來測定其涂布的厚度，以檢測涂布的均勻情況，同時 在涂布過程中觀察幕簾兩側(cè)的穩(wěn)定性，是否有擺動，在檢測定量時，同檢察測紙是否有積 料。相關(guān)情況如下所示：

從生產(chǎn)實踐的情況來看，通過整幅上料，比較好的解決了兩側(cè)涂布幕簾不穩(wěn)定，以及幕 簾兩側(cè)上料過量，以及紙邊積料的問題。
【主權(quán)項】
1. 一種幕簾式涂布裝置，具有幕簾式涂布頭，導流板和回收料盤，其特征是：幕簾式涂 布頭兩側(cè)裝有導流板，導流板頂部固定在幕簾式涂頭兩側(cè)，導流板的底部伸至回收料盤上 方，涂布材料位于幕簾式涂布頭的正下方，回收料盤位于涂布材料的正下方。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種幕簾式涂布裝置，其特征是：所述導流板的下端低于涂 布材料5_10cm。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種幕簾式涂布裝置，其特征是：所述導流板與垂直面的夾 角為 15-30°。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種幕簾式涂布裝置，其特征是：所述導流板的寬度為 10_15cm〇5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種幕簾式涂布裝置，其特征是：所述回收料盤的寬度比幕 簾式涂布頭的寬度寬l〇-15cm。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種幕簾式涂布裝置，其特征是：所述幕簾式涂布頭的寬度 比涂布材料的寬度寬20-30cm。
【專利摘要】本發(fā)明涉及涂布裝置的技術(shù)改進，是一種幕簾式涂布裝置，具有幕簾式涂布頭，導流板和回收料盤，其特征是：幕簾式涂布頭兩側(cè)裝有導流板，導流板頂部固定在幕簾式涂頭兩側(cè)，導流板的底部伸至回收料盤上方，涂布材料位于幕簾式涂布頭的正下方，回收料盤位于涂布材料的正下方；本發(fā)明能夠均勻地將涂料涂布到涂布材料上，幕簾穩(wěn)定性高，設備簡單故障少，避免了頻繁停機調(diào)節(jié)兩側(cè)定邊裝置，產(chǎn)品質(zhì)量高，適用于涂布裝置的改進。
【IPC分類】D21H23/48
【公開號】CN105714607
【申請?zhí)枴緾N201410721731
【發(fā)明人】毛家海, 黃興璠, 祝云祥, 李日炎
【申請人】湖北弘博高科有限公司