一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明設(shè)及一種甘草次酸3位哲基和30位駿基結(jié)構(gòu)修飾方法。
【背景技術(shù)】
[000引甘草次酸（Gly巧rrhetinic acid)分子式；〔3化604,分子量；470. 68384, CAS N0.471-53-4，MDLN0.MFCD00003706，EWECSN0.207-444-6，RTECSN0.W0180000，BRN NO. 2229654。beta-甘草亭酸；（3B，20B)-3-哲基-11-氧代-齊壞果-12-締-29-酸； (3 0，20 0 ) -3-哲基-11-氧代-齊壞果-12-締-29-酸；3 0 -哲基-11-氧-12-齊壞果 締-30-酸；甘草亭酸；18BETA-甘草次酸；甘巧酸。結(jié)構(gòu)式如下：
[0003]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，以甘草次酸為原料，該方法包含 以下步驟： (1) 乙酰甘草次酸甲酯的合成 (2) 乙酰甘草次酸乙酯的合成 (3) 硬酯酰甘草次酸甲酯的合成 (4) 18 0 -甘草次酸甲酯-二氯磷酰氮芥的合成。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征 在于，步驟⑴中酯化反應(yīng)催化劑為：濃硫酸、HMCM-49分子篩、MgO、Zr(S04)2 ? 4H20、 Ce(SO4)2 ? 4H20、AlCl3、BF3、ZnCl2、I2、氨基磺酸、Zn粉、離子液體[MORBSA] [H2SO4]、[TMBSA] [H2SO4]或DMP中之一；?；瘎椋阂阴Ｂ?、乙酸酐和冰醋酸中之一；縛酸齊IJ為：三乙胺、吡 啶、嗎啉或二甲基甲酰胺中之一；所用溶劑為：吡啶、醚類溶劑、二氯甲烷或乙酸乙酯溶中 之一。
3. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征在 于，步驟（1)中反應(yīng)液變成白色衆(zhòng)狀，減壓濃縮至比重1. 15-1. 20,加入氫氧化鈉或氫氧化 鉀或氫氧化鋇中和至中性，減壓蒸餾至干，殘?jiān)寐确?、乙酸乙酯或丙酮中之一溶解，過濾， 除去生成的無機(jī)鹽，有機(jī)相依次用5%的碳酸氫鈉溶液、飽和鹽水、蒸餾水洗滌，有機(jī)相干燥 濃縮，殘?jiān)眉状既芙?，重結(jié)晶，得白色固體，抽濾，水洗，50-60°C下真空干燥。
4. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征在 于，步驟（2)中酯化反應(yīng)催化劑為：1_甲基-2-吡咯烷酮硫酸氫鹽（[Hnmp]HS04)、1_甲基咪 唑硫酸氫鹽（[Hmim]HSO4)、[C3SO3Hmim]-H2S04、1-(3-磺酸基）-丙基-3-甲基咪唑硫酸氫鹽 ([C3SO3Hmirn]HSO4)或1-(3-磺酸基）-丙基-2-吡咯烷酮硫酸氫鹽（[C3S03Hnhp]HSO4)中 之一。?；瘎椋阂阴Ｂ取⒁宜狒虮姿嶂兄?；縛酸劑為：三乙胺、吡啶、嗎啉或二甲基 甲酰胺中之一；所用溶劑為：吡啶、醚類溶劑、二氯甲烷或乙酸乙酯溶中之一。
5. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征在 于，步驟（2)中反應(yīng)液加熱回流5-7h，減壓濃縮，回收溶劑，將將濃縮物加入到碎冰-稀鹽酸 中，析出白色沉淀，抽濾、洗滌、干燥。
6. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征在 于，步驟（3)中酯化反應(yīng)催化劑為：[emim]BF4離子液體催化、雙-(3-甲基-1-咪唑）亞 丁基雙對(duì)甲苯磺酸鹽（Im-PTSA)、雙-(3-甲基-1-咪唑）亞丁基雙硫酸氫鹽（Im-HSO4)、 雙-(1-吡啶）亞丁基雙對(duì)甲苯磺酸鹽（Py-PTSA)、雙-(1-吡啶）亞丁基雙硫酸氫鹽 (Py-HSO4)或2-吡咯烷酮硫酸氫鹽（[Hnhp]HS04)中之一；縛酸劑為：三乙胺、吡啶、嗎啉 或二甲基甲酰胺中之一；所用溶劑為：吡啶做溶劑、醚類溶劑、二氯甲烷或乙酸乙酯溶中之 一；?；瘎椋河仓狒蛴蝉ニ狨Ｂ?；反應(yīng)溫度為80-KKTC，反應(yīng)時(shí)間10_16h。反應(yīng)過程 中通入氮?dú)?，加?-10% (W/W)抗氧化劑亞硫酸鈉。
7. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征在 于，步驟（3)中反應(yīng)液加熱至70-80°C，攪拌反應(yīng)3-5h，減壓濃縮，加等量水?dāng)噭?，靜置分離， 棄去水層，再用水洗數(shù)至無吡啶味，沉淀干燥后得粗產(chǎn)品，用甲醇溶解，加入3-5%活性炭回 流脫色30min，濃縮得白色沉淀。
8. 如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征 在于，步驟⑷中酯化反應(yīng)催化劑為：濃硫酸、HMCM-49分子篩、MgO、Zr(S04)2 ? 4H20和Ce(SO4)2 ? 4H20、AlCl3、BF3、ZnCl2、I2、氨基磺酸、Zn粉、離子液體[MORBSA] [H2SO4]、[TMBSA] [H2S04]或DMAP中之一；縛酸劑為：三乙胺、吡啶、嗎啉或二甲基甲酰胺中之一；所用溶劑 為：啦啶、醚類溶劑、二氯甲烷或乙酸乙酯溶中之一；酰化劑為：磷酰e-二氯乙胺。
9.如權(quán)利要求1所述的一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，其特征在 于，步驟（5)中加溫回流4-5h，用TLC檢測(cè)反應(yīng)進(jìn)程，除去固體催化劑，濾液減壓濃縮，用正 丁醇萃取，用5%鹽酸洗滌，蒸餾水洗3次，再用無水硫酸鎂干燥，減壓濃縮得到白色固體， 所得的濾液用5%鹽酸洗滌、水洗、減壓濃縮至干，用無水Na2SO4干燥，減壓蒸除正丁醇，粗 品用甲醇、乙醇或丙酮熱溶，加入3-5%活性炭回流脫色，趁熱抽濾，冷卻析出結(jié)晶，得精品。
【專利摘要】一種甘草次酸3位羥基和30位羧基結(jié)構(gòu)修飾方法，該方法包含以下步驟：1)乙酰甘草次酸甲酯的合成；2)乙酰甘草次酸乙酯的合成；3)硬酯酰甘草次酸甲酯的合成；4)18β-甘草次酸甲酯-二氯磷酰氮芥的合成。以甘草次酸為原料，一步法合成乙酰甘草次酸甲酯、乙酰甘草次酸乙酯、硬酯酰甘草次酸甲酯、18β-甘草次酸甲酯-二氯磷酰氮芥。傳統(tǒng)的方法是先合成甘草次酸甲酯或乙酯，將其作為原料再在3-位引入需要的官能團(tuán)，至少需要兩步合成，本發(fā)明采用一鍋煮法，一步合成了目標(biāo)產(chǎn)物。
【IPC分類】C07J63-00
【公開號(hào)】CN104725459
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510120814
【發(fā)明人】李玉山
【申請(qǐng)人】李玉山
【公開日】2015年6月24日
【申請(qǐng)日】2015年3月16日