本技術(shù)涉及離型膜，尤其是涉及一種高平整度離型膜。

背景技術(shù)：

1、mlcc離型膜是一種在mlcc(層積式陶瓷電容器)生產(chǎn)過(guò)程中必須使用的損耗品，生產(chǎn)mlcc的過(guò)程中需要將陶瓷漿料涂布在mlcc離型膜上，產(chǎn)品在經(jīng)過(guò)烘干分切后需要進(jìn)行多層堆疊，mlcc離型膜在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中起到托底和表面保護(hù)的作用。

2、mlcc內(nèi)部需進(jìn)行上百次的堆疊，進(jìn)而達(dá)到mlcc體積小，電容大的要求，因此，mlcc離型膜對(duì)基膜表面的平整度提出了極高的要求，基膜表面的高低極差要求控制在500nm以內(nèi)。

3、mlcc用等級(jí)基材的表面粗糙度低，不利于離型涂層的附著和流平，切收卷后易出現(xiàn)吸附的情況，放卷使用時(shí)離型層出現(xiàn)破壞的情況發(fā)生，導(dǎo)致離型膜的離型力不穩(wěn)定；mlcc用高等級(jí)基材價(jià)格昂貴，來(lái)源主要靠進(jìn)口。

4、因此，有必要對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的離型膜進(jìn)行改進(jìn)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種高平整度離型膜，通過(guò)環(huán)氧樹(shù)脂涂層設(shè)置于基材層和離型層之間，提高基材層1的表面光滑性和平整性，并通過(guò)層與層之間的化學(xué)鍵合，進(jìn)而提高超薄離型層與基材層的附著力，以及提高離型膜短期或長(zhǎng)期的耐熱性能，使離型膜在較高溫度下仍能保持良好的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。

2、為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)效果，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：一種高平整度離型膜，包括，

3、基材層，具有沿膜厚方向相對(duì)的第一表面和第二表面；

4、離型層，設(shè)置于所述第一表面；

5、所述基材層和離型層之間設(shè)置有至少一層環(huán)氧樹(shù)脂涂層。

6、優(yōu)選的技術(shù)方案為，所述環(huán)氧樹(shù)脂涂層和/或離型層為抗靜電層。

7、優(yōu)選的技術(shù)方案為，所述環(huán)氧樹(shù)脂涂層包括兩層環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層，兩層所述環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層之一靠近所述離型層為抗靜電層。

8、優(yōu)選的技術(shù)方案為，靠近所述基材層的環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層厚度大于等于另一所述環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層的層厚。

9、優(yōu)選的技術(shù)方案為，所述基材層的第二表面設(shè)置有聚氨酯涂層。

10、優(yōu)選的技術(shù)方案為，所述聚氨酯涂層為抗靜電層。

11、優(yōu)選的技術(shù)方案為，所述離型層的層厚為0.1～0.3μm，所述環(huán)氧樹(shù)脂涂層的層厚為0.4～0.8μm，所述聚氨酯涂層的層厚為1～5μm。

12、優(yōu)選的技術(shù)方案為，所述基材層為耐高溫pet基材層。

13、本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于：

14、該高平整度離型膜結(jié)構(gòu)合理，通過(guò)環(huán)氧樹(shù)脂涂層設(shè)置于基材層和離型層之間，提高基材層1的表面光滑性和平整性，并通過(guò)層與層之間的化學(xué)鍵合，進(jìn)而提高超薄離型層與基材層的附著力，以及提高離型膜短期或長(zhǎng)期的耐熱性能，使離型膜在較高溫度下仍能保持良好的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。

技術(shù)特征：

1.一種高平整度離型膜，包括，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高平整度離型膜，其特征在于，所述環(huán)氧樹(shù)脂涂層和/或離型層為抗靜電層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高平整度離型膜，其特征在于，所述環(huán)氧樹(shù)脂涂層包括兩層環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層，兩層所述環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層之一靠近所述離型層為抗靜電層。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的高平整度離型膜，其特征在于，靠近所述基材層的環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層厚度大于等于另一所述環(huán)氧樹(shù)脂單元涂層的層厚。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高平整度離型膜，其特征在于，所述基材層的第二表面設(shè)置有聚氨酯涂層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高平整度離型膜，其特征在于，所述聚氨酯涂層為抗靜電層。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的高平整度離型膜，其特征在于，所述離型層的層厚為0.1～0.3μm，所述環(huán)氧樹(shù)脂涂層的層厚為0.4～0.8μm，所述聚氨酯涂層的層厚為1～5μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高平整度離型膜，其特征在于，所述基材層為耐高溫pet基材層。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種高平整度離型膜，包括，基材層，具有沿厚度方向相對(duì)的第一表面和第二表面；離型層，設(shè)置于第一表面；基材層和離型層之間設(shè)置有至少一層環(huán)氧樹(shù)脂涂層。該高平整度離型膜結(jié)構(gòu)合理，通過(guò)環(huán)氧樹(shù)脂涂層設(shè)置于基材層和離型層之間，提高基材層1的表面光滑性和平整性，并通過(guò)層與層之間的化學(xué)鍵合，進(jìn)而提高超薄離型層與基材層的附著力，以及提高離型膜短期或長(zhǎng)期的耐熱性能，使離型膜在較高溫度下仍能保持良好的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。

技術(shù)研發(fā)人員：周永南,吳佳銘
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江蘇慧智新材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240416
技術(shù)公布日：2025/1/9