專(zhuān)利名稱(chēng)：塑膠件表面清潔方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及塑膠件表面處理技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)涉及一種塑膠件表面 清潔方法。
背景技術(shù)：
塑膠手機(jī)外殼質(zhì)感好，耐磨性好，成本較低，因此大量用于手機(jī)產(chǎn)品上。 塑膠手機(jī)外殼在鍍膜前、后均要進(jìn)行清潔，以便提高產(chǎn)品質(zhì)量。
目前，傳統(tǒng)的清潔方法為，采用超聲波清洗設(shè)備進(jìn)行清洗，這種超聲波 清洗設(shè)備的工作原理是，由超聲波發(fā)生器發(fā)出的高頻振蕩信號(hào)，通過(guò)換能器 轉(zhuǎn)換成高頻機(jī)械振蕩而傳播到介質(zhì)一清洗溶劑中，超聲波在清洗液中疏密相 間地向前輻射，使液體流動(dòng)而產(chǎn)生數(shù)以萬(wàn)計(jì)的直徑為50-500曄的微小氣泡， 這些氣泡在超聲波縱向傳播的負(fù)壓區(qū)形成、生長(zhǎng)，而在正壓區(qū)迅速閉合，在 這個(gè)過(guò)程中，氣泡閉合可形成幾百度的高溫和超過(guò)1000個(gè)氣壓的瞬間高壓， 連續(xù)不斷地產(chǎn)生瞬間高壓，就象一連串小"爆炸"不斷地沖擊物件表面，使物件 的表面及縫隙中的污垢迅速剝落，從而達(dá)到物件表面清洗凈化的目的。采用 這種方法的缺點(diǎn)是，超聲波清洗設(shè)備成本高，占地廣，容易殘留水份影響產(chǎn) 品品質(zhì)。
還有一種傳統(tǒng)的清潔方法，即手工擦試，利用手工對(duì)塑膠手機(jī)外殼進(jìn)行 擦拭清潔。采用這種方法的缺點(diǎn)是，需要投入大量的人力，而且效率低，清 潔效果不好，產(chǎn)品品質(zhì)不穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種塑膠件表面清潔方法, 該方法可降低設(shè)備成本、提高生產(chǎn)效率、保證產(chǎn)品品質(zhì)、提高表面潔凈度。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的塑膠件表面清潔 方法，它包括以下步驟
第一步，將塑膠件組裝到工件架上，裝入真空鍍爐設(shè)備內(nèi)；
第二步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)抽真空；
第三步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣；
第四步，打開(kāi)負(fù)電源，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣，使真空鍍爐設(shè)備上的 離子發(fā)射源產(chǎn)生氬離子，氬離子在真空環(huán)境下高能量轟擊塑膠件表面。 所述第二步中，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)抽真空后的真空度為2.0Xl(^Pa。 所述第三步中，氬氣注入量為50 300ml。 所述第四步中，氬離子轟擊塑膠件表面的時(shí)間為3 5min。 所述第四步中，氬氣注入量為50 200ml/min。
所述第四步中，離子發(fā)射源的工作電壓為250UaX 10Ua，工作電流為0.3A 土0.1A。
本發(fā)明的有益效果本發(fā)明只需在真空鍍爐設(shè)備基礎(chǔ)上增加一套離子發(fā)
射源設(shè)備，利用氬氣在離子發(fā)射源的激蕩下，產(chǎn)生氬離子，氬離子對(duì)塑膠件 表面進(jìn)行表面物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)，使塑膠件表面發(fā)生活化作用，從而達(dá)到 去除表面污漬的目的，因此，該塑膠件表面清潔方法具有降低設(shè)備成本、提 高生產(chǎn)效率、保證產(chǎn)品品質(zhì)、提高表面潔凈度的優(yōu)點(diǎn)。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例，塑膠件表面清潔方法，它包括以下步驟
第一步，將塑膠件組裝到工件架上，裝入真空鍍爐設(shè)備內(nèi)，對(duì)真空鍍爐設(shè)備進(jìn)行密封操作；
第二步，使用抽真空裝置對(duì)真空鍍爐設(shè)備內(nèi)進(jìn)行抽真空，使真空度為2.0 X10々Pa;
第三步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣，使氬氣注入量為50 300ml;
第四步，打開(kāi)負(fù)電源，負(fù)電源啟動(dòng)真空鍍爐設(shè)備上的離子發(fā)射源，離子 發(fā)射源產(chǎn)生氬離子，離子發(fā)射源的工作電壓為250UaX 10Ua，工作電流為0.3A 士0.1A，氬離子在真空環(huán)境下高能量轟擊塑膠件表面，氬離子轟擊塑膠件表 面的時(shí)間為3 5min;轟擊的同時(shí)，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣，氬氣注入量為 50 200ml/min，以保證真空鍍爐設(shè)備內(nèi)氬氣的濃度滿(mǎn)足要求。
氬氣在離子發(fā)射源的激蕩下，產(chǎn)生氬離子，氬離子對(duì)塑膠件表面進(jìn)行表 面物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)，使塑膠件表面發(fā)生活化作用，從而達(dá)到去除表面污 漬的目的，因此，該塑膠件表面清潔方法具有降低設(shè)備成本、提高生產(chǎn)效率、 保證產(chǎn)品品質(zhì)、提高表面潔凈度的優(yōu)點(diǎn)。
以上所述僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例，故凡依本發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)范圍所述的 構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1、塑膠件表面清潔方法，其特征在于，它包括以下步驟第一步，將塑膠件組裝到工件架上，裝入真空鍍爐設(shè)備內(nèi)；第二步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)抽真空；第三步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣；第四步，打開(kāi)負(fù)電源，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣，使真空鍍爐設(shè)備上的離子發(fā)射源產(chǎn)生氬離子，氬離子在真空環(huán)境下高能量轟擊塑膠件表面。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的塑膠件表面清潔方法，其特征在于所述第二 步中，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)抽真空后的真空度為2.0Xl(^Pa。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的塑膠件表面清潔方法，其特征在于所述第三 步中，氬氣注入量為50 300ml。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的塑膠件表面清潔方法，其特征在于所述第四 步中，氬離子轟擊塑膠件表面的時(shí)間為3 5min。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的塑膠件表面清潔方法，其特征在于所述第四 步中，氬氣注入量為50 200ml/min。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的塑膠件表面清潔方法，其特征在于所述第四 步中，離子發(fā)射源的工作電壓為250UaX10Ua，工作電流為0.3A士0.1A。
全文摘要
本發(fā)明涉及塑膠件表面處理技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)涉及一種用于清潔塑膠手機(jī)外殼的塑膠件表面清潔方法，它包括以下步驟，第一步，將塑膠件組裝到工件架上，裝入真空鍍爐設(shè)備內(nèi)；第二步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)抽真空；第三步，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣；第四步，打開(kāi)負(fù)電源，真空鍍爐設(shè)備內(nèi)注入氬氣，使真空鍍爐設(shè)備上的離子發(fā)射源產(chǎn)生氬離子，氬離子在真空環(huán)境下高能量轟擊塑膠件表面；該塑膠件表面清潔方法具有降低設(shè)備成本、提高生產(chǎn)效率、保證產(chǎn)品品質(zhì)、提高表面潔凈度的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C08J7/00GK101423619SQ20081002859
公開(kāi)日2009年5月6日 申請(qǐng)日期2008年6月6日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月6日
發(fā)明者建 王 申請(qǐng)人:東莞勁勝精密組件股份有限公司