一次燒成的低溫釉及具有該釉料瓷器的制作工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及陶瓷技術(shù)領(lǐng)域，具體的涉及一種可一次燒成的低溫釉及具有該低溫釉陶瓷的制作工藝。該種一次燒成的低溫釉料，所述釉料由中性氧化物、酸性氧化物和助溶劑組成，其中中性氧化物為SiO2、酸性氧化物為Al2O3與B2O3、助熔劑包括多種成分，其中中性氧化物與助熔劑的比為1:3?5，酸性氧化物與助熔劑的比為1:2?4。上述可一次燒成且燒成溫度為1100℃?1150℃的低溫釉，該低溫釉雖然燒成溫度低，但釉面光澤、釉色清透、透光率高，達到1250℃以上中溫釉燒成的效果；該種低溫釉瓷器制作可節(jié)省20?30％的燃料，降低能耗和生產(chǎn)成本、無鉛鉻溶出，節(jié)能環(huán)保、使用安全。
【專利說明】
一次燒成的低溫釉及具有該釉料瓷器的制作工藝
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及陶瓷技術(shù)領(lǐng)域，具體的涉及一種可一次燒成的低溫釉及具有該低溫釉陶瓷的制作工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]能耗是陶瓷生產(chǎn)的主要成本之一，降低能耗最有效的辦法是降低陶瓷的燒成溫度。此外，低溫?zé)蛇€能延長窯爐壽命，提高產(chǎn)品的經(jīng)濟效益，增加窯爐產(chǎn)量，因此實現(xiàn)低溫?zé)墒敲恳粋€陶瓷生產(chǎn)企業(yè)所追求的。
[0003]隨著科技水平的高速發(fā)展，近幾年來實現(xiàn)陶瓷低溫?zé)傻难芯恳灿泻芏?，取得了很大的成果，如授?quán)公告號為:授權(quán)公告號CN102863259B公開的低溫釉陶瓷制造方法，該種低溫釉使用時，需要先將坯體經(jīng)1020-1050 °C溫度進行素?zé)?，在依次通過900-1000 °C的燒成和200-300 °C烘烤才能制成，雖燒釉溫度低，但施工工藝復(fù)雜，需要經(jīng)過多次燒成，耗節(jié)約有限；又如授權(quán)公告號為CN103910537B公開的一種超低溫釉的釉料配制方法，公開了一種燒結(jié)溫度為550°C-80(TC的超低溫釉料，該種釉料中引入大量的氧化鋅，雖可降低釉料的熔融溫度，但對顏色的發(fā)色產(chǎn)生不利的影響，所燒制出的瓷器釉面缺陷多、易起泡，呈色單調(diào)、呆板，與1250°C以上燒成的中溫釉的釉面效果相差很大，所燒制出的產(chǎn)品檔次低，效果不理雄
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[0004]因此，如果能提供一種燒成溫度低、加工工藝簡單、釉面效果好的低溫釉料，具有積極的經(jīng)濟和社會效益。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明提供一種一次燒成的低溫釉及具有該釉料瓷器的制作工藝。
[0006]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
[0007]—次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述釉料由中性氧化物、酸性氧化物和助溶劑組成，其中中性氧化物為Si02、酸性氧化物為Al2O3與Β2θ3、助熔劑包括K20、Na20、Li20、Cu0、MgO、BaO、ZnO，其中中性氧化物與助熔劑的比為1:3_5，酸性氧化物與助熔劑的比為1:2_4。
[0008]優(yōu)化的，助熔劑化學(xué)組分為:Κ2θ15-20% ^Na2O 15-20% ^Li2O 5-10% XuO 20-25% ^MgO 15-20% ^BaO 5-10% ^ZnO 5-10%。
[0009]優(yōu)化的，Al2O3與B2O3的比為1:2-3ο
[0010]優(yōu)化的，Al2O3與 B2O3 的比為 1:2.5。
[0011 ]優(yōu)化的，中性氧化物與助熔劑的比為1:3.9、中性氧化物與酸性氧化的比為1:2.6。
[0012]優(yōu)化的，助熔劑化學(xué)組分為:Κ2θ21% ^Na2O 18%^Li20 8% XuO 22%、MgO 18%、BaO 6%、Zn0 7%。
[0013]—次燒成低溫釉瓷器的制備工藝，其特征在于，使用上述的一次燒成低溫釉，其具體步驟如下:
[0014]步驟I，制備一次燒成低溫釉；
[0015]步驟2，在陶瓷坯體上施燒成一次燒成低溫釉；
[0016]步驟4，待一次低溫釉干燥后，將陶瓷坯體放入窯爐中燒制；
[0017]步驟5，窯爐升溫，還原氣氛為下，燒成溫度為1100-1150°C。
[0018]由上述對本發(fā)明的描述可知，本發(fā)明提供了一種可一次燒成且燒成溫度為1100°C-1150°C的低溫釉，該低溫釉雖然燒成溫度低，但釉面光澤、釉色清透、透光率高，達到1250°C以上中溫釉燒成的效果;該種低溫釉瓷器制作可節(jié)省20-30%的燃料，降低能耗和生產(chǎn)成本、無鉛鉻溶出，節(jié)能環(huán)保、使用安全。
【具體實施方式】
[0019]以下通過【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步的描述。
[0020]—次燒成的低溫釉料，述釉料由中性氧化物、酸性氧化物和助溶劑組成，其中中性氧化物為Si02、酸性氧化物為Al2O3與B203、助熔劑包括K20、Na20、Li20、Cu0、Mg0、Ba0、Zn0，其中中性氧化物與助熔劑的比為I: 3-5，酸性氧化物與助熔劑的比為1:2-4；
[0021 ] 酸性氧化物為Al2O3與B2O3的比為1:2-3
[0022]助熔劑化學(xué)組分為:K2O15-20% ^Na2O 15-20% ^Li2O 5-10% XuO 20-25% ^MgO15-20% ^BaO 5-10% ^ZnO 5-10%。
[0023]具體實施例一:
[0024]—次燒成的低溫釉料，述釉料由中性氧化物、酸性氧化物和助溶劑組成，其中中性氧化物為Si02、酸性氧化物為Al2O3與B203、助熔劑包括K20、Na20、Li20、Cu0、Mg0、Ba0、Zn0，其中中性氧化物與助熔劑的比為1: 3.9，酸性氧化物與助熔劑的比為1: 2.6、且Al2O3與B2O3的比為 1:2.5，助熔劑化學(xué)組分為:K2O 21% ^Na2O 18%、Li20 8% XuO 22%、MgO 18% ^BaO6%、Zn0 7% ο
[0025]—次燒成低溫釉瓷器的制備工藝，其特征在于，使用上述的一次燒成低溫釉，其具體步驟如下:
[0026]步驟I，制備一次燒成低溫釉；
[0027]步驟2，在陶瓷坯體上施燒成一次燒成低溫釉；
[0028]步驟4，待一次低溫釉干燥后，將陶瓷坯體放入窯爐中燒制；
[0029]步驟5，窯爐升溫，還原氣氛為下，燒成溫度為1100-1150°C。
[0030]由上述對本發(fā)明的描述可知，本發(fā)明提供了一種可一次燒成且燒成溫度為1100°C-1150°C的低溫釉，該低溫釉雖然燒成溫度低，但釉面光澤、釉色清透、透光率高，達到1250°C以上中溫釉燒成的效果;該種低溫釉瓷器制作可節(jié)省20-30%的燃料，降低能耗和生產(chǎn)成本、無鉛鉻溶出，節(jié)能環(huán)保、使用安全。
[0031]上述僅為本發(fā)明的若干【具體實施方式】，但本發(fā)明的設(shè)計構(gòu)思并不局限于此，凡利用此構(gòu)思對本發(fā)明進行非實質(zhì)性的改動，均應(yīng)屬于侵犯本發(fā)明保護范圍的行為。
【主權(quán)項】
1.一次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述釉料由中性氧化物、酸性氧化物和助溶劑組成，其中中性氧化物為S12、酸性氧化物為Al2O3與B2O3、助熔劑包括K2O ,Na2O^Li2O、CuO,MgO、BaO、ZnO，其中中性氧化物與助熔劑的比為1:3-5，酸性氧化物與助熔劑的比為1:2-4。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述助熔劑化學(xué)組分為:K2O 15-20% ^Na2O 15-20% ^Li2O 5-10% ^CuO 20-25% ^MgO 15-20% ^BaO 5-10% ^ZnO 5-10%。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述Al2O3與B2O3的比為1:2-3。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述Al2O3與B2O3的比為1:2.5ο5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的一次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述中性氧化物與助熔劑的比為1:3.9、中性氧化物與酸性氧化的比為1:2.6。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一次燒成的低溫釉料，其特征在于，所述助熔劑化學(xué)組分為:K2O 21% ^Na2O 18% ^Li2O 8%、Cu0 22%、MgO 18% ^BaO 6%、Zn0 7%。7.—次燒成低溫釉瓷器的制備工藝，其特征在于，使用上述權(quán)利要求1-6中任意一項所述的一次燒成低溫釉，其具體步驟如下: 步驟I，制備一次燒成低溫釉； 步驟2，在陶瓷坯體上施燒成一次燒成低溫釉； 步驟4，待一次低溫釉干燥后，將陶瓷坯體放入窯爐中燒制； 步驟5，窯爐升溫，還原氣氛為下，燒成溫度為1100-1150 °C。
【文檔編號】C04B41/86GK105924009SQ201610261652
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年4月25日
【發(fā)明人】曾倆豐
【申請人】福建省德化匯遠(yuǎn)陶瓷有限公司