一種高溫?cái)U(kuò)散裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，包括爐體，爐體的一端為爐口，另一端為封閉結(jié)構(gòu)，在爐口處設(shè)有爐蓋，在爐體的內(nèi)部設(shè)有石英舟，在石英舟上均勻放置有硅片，在爐體的上端設(shè)有第一工藝進(jìn)氣口、第二工藝進(jìn)氣口和第三工藝進(jìn)氣口，在爐體的下端設(shè)有尾氣排放口，還包括氣體穩(wěn)流裝置，氣體穩(wěn)流裝置設(shè)置在爐口、爐中或爐尾位置，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠提高爐體內(nèi)氣體流動(dòng)的穩(wěn)定性，確保了硅片擴(kuò)散的均勻性，從而確保硅片方塊電阻的均勻性。
【專利說明】
一種高溫?cái)U(kuò)散裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及光伏擴(kuò)散技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種高溫?cái)U(kuò)散裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 擴(kuò)散制作P-N結(jié)是晶體硅太陽電池的核心，也是太陽能電池質(zhì)量好壞的關(guān)鍵之 一。對(duì)于擴(kuò)散工序，最大問題在于如何保障擴(kuò)散的均勻性。擴(kuò)散均勻的電池，其后續(xù)工藝參 數(shù)可控性高，可以保證硅太陽能電池電性能參數(shù)的穩(wěn)定性。目前，晶體硅工業(yè)化生產(chǎn)中擴(kuò)散 制作P-N結(jié)所采用的擴(kuò)散爐主要有管式和板式兩種。管式擴(kuò)散爐因其封閉性好、容量大， 得到廣泛的應(yīng)用。管式擴(kuò)散爐可以極大地降低工藝粘污風(fēng)險(xiǎn)，為高效太陽能電池產(chǎn)業(yè)應(yīng)用 提供硬件保障，現(xiàn)有的高溫?cái)U(kuò)散爐，通入的氣體均勻性差，且通入爐體后，分布不均勻，導(dǎo)致 硅片擴(kuò)散不均勻，從而導(dǎo)致方塊電阻不均勻。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的在于提供一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0004] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，包括爐體，所述 爐體的一端為爐口，另一端爐尾為封閉結(jié)構(gòu)，在所述爐口處設(shè)有爐蓋，在所述爐體的內(nèi)部設(shè) 有石英舟，在所述石英舟上均勻放置有硅片，在所述爐體的上端設(shè)有第一工藝進(jìn)氣口、第二 工藝進(jìn)氣口和第三工藝進(jìn)氣口，在所述爐體的下端設(shè)有尾氣排放口，還包括氣體穩(wěn)流裝置， 所述氣體穩(wěn)流裝置設(shè)置在爐口、爐中或爐尾位置。
[0005] 優(yōu)選的，所述氣體穩(wěn)流裝置包括穩(wěn)流體、進(jìn)氣口、蜂窩片、氣體調(diào)整器、出氣口和過 濾片，所述穩(wěn)流體的一端設(shè)有進(jìn)氣口，所述穩(wěn)流體的另一端設(shè)有出氣口，所述穩(wěn)流體的內(nèi)部 設(shè)有蜂窩片、氣體調(diào)整器，所述蜂窩片位于進(jìn)氣口的一端，所述蜂窩片連接氣體調(diào)整器，所 述氣體調(diào)整器的出口通過過濾片連接出氣口，所述氣體調(diào)整器內(nèi)包括多個(gè)氣流調(diào)節(jié)格柵， 且所述氣流調(diào)節(jié)格柵呈錐形。
[0006] 優(yōu)選的，所述第一工藝進(jìn)氣口、第二工藝進(jìn)氣口和第三工藝進(jìn)氣口分別設(shè)置在爐 口、爐中、爐尾處。
[0007] 優(yōu)選的，所述第一工藝進(jìn)氣口、第二工藝進(jìn)氣口和第三工藝進(jìn)氣口均設(shè)置在爐中。
[0008] 優(yōu)選的，所述第一工藝進(jìn)氣口、第二工藝進(jìn)氣口和第三工藝進(jìn)氣口均設(shè)置在爐口。
[0009] 優(yōu)選的，所述第一工藝進(jìn)氣口、第二工藝進(jìn)氣口和第三工藝進(jìn)氣口的孔徑一致，均 為2·5mm-3mm〇
[0010] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是： (1)本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠提高爐體內(nèi)氣體流動(dòng)的穩(wěn)定性，確保了硅片擴(kuò)散的均勻性， 從而確保硅片方塊電阻的均勻性。
[0011] (2)本發(fā)明采用的氣體穩(wěn)流裝置，能夠快速調(diào)節(jié)爐體內(nèi)的氣流，確保擴(kuò)散的均勻 性，而且氣體穩(wěn)流裝置中氣體調(diào)整器采用錐形氣流調(diào)節(jié)格柵，能夠?qū)饬髌鸬綄?dǎo)向作用。
【附圖說明】
[0012] 圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明的氣體穩(wěn)流裝置結(jié)構(gòu)示意圖； 圖中：1、爐體;2、爐口；3、爐尾;4、爐蓋;5、石英舟;6、第一工藝進(jìn)氣口；7、第二工藝進(jìn)氣 口；8、第三工藝進(jìn)氣口；9、尾氣排放口；10、氣體穩(wěn)流裝置;11、爐中；12、穩(wěn)流體;13、進(jìn)氣口； 14、蜂窩片；15、氣體調(diào)整器;16、出氣口； 17、過濾片；18、氣流調(diào)節(jié)格柵。
【具體實(shí)施方式】
[0013] 下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；?本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他 實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0014] 實(shí)施例一： 請(qǐng)參閱圖1-2,本發(fā)明提供一種技術(shù)方案:一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，包括爐體1，爐體1的一 端為爐口 2，另一端爐尾3為封閉結(jié)構(gòu)，在爐口 2處設(shè)有爐蓋4，在爐體1的內(nèi)部設(shè)有石英舟5， 在石英舟5上均勻放置有硅片，在爐體1的上端設(shè)有第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和 第三工藝進(jìn)氣口 8,在爐體1的下端設(shè)有尾氣排放口 9,還包括氣體穩(wěn)流裝置10,所述氣體穩(wěn) 流裝置10設(shè)置在爐口 2位置。
[0015] 本實(shí)施例中，氣體穩(wěn)流裝置10包括穩(wěn)流體12、進(jìn)氣口 13、蜂窩片14、氣體調(diào)整器15、 出氣口 16和過濾片17，穩(wěn)流體12的一端設(shè)有進(jìn)氣口 13，穩(wěn)流體12的另一端設(shè)有出氣口 16，穩(wěn) 流體12的內(nèi)部設(shè)有蜂窩片14、氣體調(diào)整器15,蜂窩片14位于進(jìn)氣口 13的一端，蜂窩片14連接 氣體調(diào)整器15,氣體調(diào)整器15的出口通過過濾片17連接出氣口 16,氣體調(diào)整器15內(nèi)包括多 個(gè)氣流調(diào)節(jié)格柵18,且氣流調(diào)節(jié)格柵18呈錐形，本發(fā)明采用的氣體穩(wěn)流裝置，能夠快速調(diào)節(jié) 爐體內(nèi)的氣流，確保擴(kuò)散的均勻性，而且氣體穩(wěn)流裝置中氣體調(diào)整器采用錐形氣流調(diào)節(jié)格 柵，能夠?qū)饬髌鸬綄?dǎo)向作用。
[0016] 本實(shí)施例中，第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8分別設(shè)置在 爐口 2、爐中11、爐尾3處，第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8的孔徑一 致，均為2.5_。
[0017] 本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠提高爐體內(nèi)氣體流動(dòng)的穩(wěn)定性，確保了硅片擴(kuò)散的均勻性， 從而確保硅片方塊電阻的均勻性。
[0018] 實(shí)施例二： 本發(fā)明提供一種技術(shù)方案:一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，包括爐體1，爐體1的一端為爐口 2，另 一端爐尾3為封閉結(jié)構(gòu)，在爐口 2處設(shè)有爐蓋4,在爐體1的內(nèi)部設(shè)有石英舟5,在石英舟5上均 勻放置有硅片，在爐體1的上端設(shè)有第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8,在爐體1的下端設(shè)有尾氣排放口 9,還包括氣體穩(wěn)流裝置10,所述氣體穩(wěn)流裝置10設(shè)置在 爐中11位置。
[0019] 本實(shí)施例中，氣體穩(wěn)流裝置10包括穩(wěn)流體12、進(jìn)氣口 13、蜂窩片14、氣體調(diào)整器15、 出氣口 16和過濾片17，穩(wěn)流體12的一端設(shè)有進(jìn)氣口 13，穩(wěn)流體12的另一端設(shè)有出氣口 16，穩(wěn) 流體12的內(nèi)部設(shè)有蜂窩片14、氣體調(diào)整器15,蜂窩片14位于進(jìn)氣口 13的一端，蜂窩片14連接 氣體調(diào)整器15,氣體調(diào)整器15的出口通過過濾片17連接出氣口 16,氣體調(diào)整器15內(nèi)包括多 個(gè)氣流調(diào)節(jié)格柵18,且氣流調(diào)節(jié)格柵18呈錐形，本發(fā)明采用的氣體穩(wěn)流裝置，能夠快速調(diào)節(jié) 爐體內(nèi)的氣流，確保擴(kuò)散的均勻性，而且氣體穩(wěn)流裝置中氣體調(diào)整器采用錐形氣流調(diào)節(jié)格 柵，能夠?qū)饬髌鸬綄?dǎo)向作用。
[0020] 本實(shí)施例中，第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8均設(shè)置在爐 中11，第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8的孔徑一致，均為2.8mm。
[0021] 本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠提高爐體內(nèi)氣體流動(dòng)的穩(wěn)定性，確保了硅片擴(kuò)散的均勻性， 從而確保硅片方塊電阻的均勻性。
[0022] 實(shí)施例三： 本發(fā)明提供一種技術(shù)方案:一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，包括爐體1，爐體1的一端為爐口 2，另 一端爐尾3為封閉結(jié)構(gòu)，在爐口 2處設(shè)有爐蓋4,在爐體1的內(nèi)部設(shè)有石英舟5,在石英舟5上均 勻放置有硅片，在爐體1的上端設(shè)有第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8,在爐體1的下端設(shè)有尾氣排放口 9,還包括氣體穩(wěn)流裝置10,所述氣體穩(wěn)流裝置10設(shè)置在 爐尾3位置。
[0023]本實(shí)施例中，氣體穩(wěn)流裝置10包括穩(wěn)流體12、進(jìn)氣口 13、蜂窩片14、氣體調(diào)整器15、 出氣口 16和過濾片17，穩(wěn)流體12的一端設(shè)有進(jìn)氣口 13，穩(wěn)流體12的另一端設(shè)有出氣口 16，穩(wěn) 流體12的內(nèi)部設(shè)有蜂窩片14、氣體調(diào)整器15,蜂窩片14位于進(jìn)氣口 13的一端，蜂窩片14連接 氣體調(diào)整器15,氣體調(diào)整器15的出口通過過濾片17連接出氣口 16,氣體調(diào)整器15內(nèi)包括多 個(gè)氣流調(diào)節(jié)格柵18,且氣流調(diào)節(jié)格柵18呈錐形，本發(fā)明采用的氣體穩(wěn)流裝置，能夠快速調(diào)節(jié) 爐體內(nèi)的氣流，確保擴(kuò)散的均勻性，而且氣體穩(wěn)流裝置中氣體調(diào)整器采用錐形氣流調(diào)節(jié)格 柵，能夠?qū)饬髌鸬綄?dǎo)向作用。
[0024] 本實(shí)施例中，第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8均設(shè)置在爐 口 2，第一工藝進(jìn)氣口 6、第二工藝進(jìn)氣口 7和第三工藝進(jìn)氣口 8的孔徑一致，均為3mm。
[0025]本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠提高爐體內(nèi)氣體流動(dòng)的穩(wěn)定性，確保了硅片擴(kuò)散的均勻性， 從而確保硅片方塊電阻的均勻性。
[0026] 實(shí)驗(yàn)例： 采用普通的石英管和常規(guī)方法對(duì)硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝以及本發(fā)明各實(shí)施例對(duì)硅片進(jìn)行 擴(kuò)散工藝，最后進(jìn)行方塊電阻測(cè)量，數(shù)據(jù)如下表：
由以上表格數(shù)據(jù)可知，當(dāng)采用實(shí)施例二進(jìn)行擴(kuò)散工藝時(shí)，硅片的方塊電阻均勻性最佳， 實(shí)施例二為最佳實(shí)施例。
[0027]各位技術(shù)人員須知：雖然本發(fā)明已按照上述【具體實(shí)施方式】做了描述，但是本發(fā)明 的發(fā)明思想并不僅限于此發(fā)明，任何運(yùn)用本發(fā)明思想的改裝，都將納入本專利專利權(quán)保護(hù) 范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，包括爐體（1)，其特征在于:所述爐體（1)的一端為爐口（2)，另 一端爐尾(3)為封閉結(jié)構(gòu)，在所述爐口（2)處設(shè)有爐蓋(4)，在所述爐體（1)的內(nèi)部設(shè)有石英 舟（5)，在所述石英舟（5)上均勻放置有硅片，在所述爐體（1)的上端設(shè)有第一工藝進(jìn)氣口 (6)、第二工藝進(jìn)氣口（7)和第三工藝進(jìn)氣口（8)，在所述爐體（1)的下端設(shè)有尾氣排放口 (9)，還包括氣體穩(wěn)流裝置（10)，所述氣體穩(wěn)流裝置（10)設(shè)置在爐口（2)、爐中（11)或爐尾 (3)位置。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，其特征在于:所述氣體穩(wěn)流裝置（10)包括 穩(wěn)流體（12)、進(jìn)氣口（13)、蜂窩片（14)、氣體調(diào)整器（15)、出氣口（16)和過濾片（17)，所述穩(wěn) 流體（12 )的一端設(shè)有進(jìn)氣口（ 13 )，所述穩(wěn)流體（12 )的另一端設(shè)有出氣口（ 16 )，所述穩(wěn)流體 (12)的內(nèi)部設(shè)有蜂窩片（14)、氣體調(diào)整器（15)，所述蜂窩片（14)位于進(jìn)氣口（13)的一端，所 述蜂窩片（14)連接氣體調(diào)整器（15)，所述氣體調(diào)整器（15)的出口通過過濾片（17)連接出氣 口（16)，所述氣體調(diào)整器（15)內(nèi)包括多個(gè)氣流調(diào)節(jié)格柵（18)，且所述氣流調(diào)節(jié)格柵（18)呈 錐形。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，其特征在于:所述第一工藝進(jìn)氣口（6)、第 二工藝進(jìn)氣口（7)和第三工藝進(jìn)氣口（8)分別設(shè)置在爐口（2)、爐中（11)、爐尾(3)處。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，其特征在于:所述第一工藝進(jìn)氣口（6)、第 二工藝進(jìn)氣口（7)和第三工藝進(jìn)氣口（8)均設(shè)置在爐中（11)。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，其特征在于:所述第一工藝進(jìn)氣口（6)、第 二工藝進(jìn)氣口（7)和第三工藝進(jìn)氣口（8)均設(shè)置在爐口（2)。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫?cái)U(kuò)散裝置，其特征在于:所述第一工藝進(jìn)氣口（6)、第 二工藝進(jìn)氣口（7)和第三工藝進(jìn)氣口（8)的孔徑一致，均為2.5mm-3mm。
【文檔編號(hào)】C30B31/16GK105839190SQ201610317130
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年5月12日
【發(fā)明人】陳德榜
【申請(qǐng)人】溫州海旭科技有限公司