洗滌來 去除附著于樣品的KNO3。
[0054] [翹曲量測定方法]
[0055] 尺寸370mmX470mm的樣品的情況下，對于化學(xué)強化后的樣品，將向凸側(cè)翹曲的頂 面朝下，置于平坦的平臺上，使用測隙規(guī)測定8個點的樣品與平臺的間隔。將其最大值作為 翹曲量。將結(jié)果示于表1。
[0056] 尺寸50mmX50mm的樣品的情況下，對于化學(xué)強化后的樣品，將向凸側(cè)翹曲的頂面 朝上，支撐對向的兩邊，測定頂面的中央的高度方向的坐標(biāo)。接著將樣品翻轉(zhuǎn)，同樣地測定 中央的高度方向的坐標(biāo)。將這兩個測定結(jié)果的一半的量作為翹曲量。需要說明的是，坐標(biāo)的 測定中，使用非接觸式三維測定裝置（三鷹光器公司制"NH-3N"）。通過測定頂面和底面， 在得到的翹曲量中除去了自重導(dǎo)致的撓曲的影響。將結(jié)果示于表1。
[0057] (比較例1~3)
[0058] 除了 SO2氣體的噴吹量及處理溫度設(shè)為如表1所示這點以外，利用與實施例1~6 相同的方法制作玻璃板。對于所得到的玻璃板，利用與實施例1~6同樣的方法，進行蝕刻 率測定、化學(xué)強化及翹曲量測定。將結(jié)果示于表1。
[0059] 【表1】
[0061] 實施例1~6的玻璃板的底面的蝕刻率為IOnm/分鐘以上，底面的蝕刻率（ER1)與 頂面的蝕刻率（ER2)之比（ER2AR1)為0.8以下。如上所述，底面形成有在成形時通過與熔 融錫的接觸導(dǎo)致的錫層而變得容易被蝕刻，蝕刻率有變高的傾向。另一方面，在脫堿的玻璃 表面形成通過脫水縮合而致密化的層而變得難以被蝕刻，蝕刻率有變低的傾向。即，認(rèn)為在 實施例1~6的玻璃板的底面發(fā)生錫層導(dǎo)致的蝕刻率上升、和致密化的脫堿層導(dǎo)致的蝕刻 率下降這兩方，其結(jié)果是蝕刻率為10~12nm/分鐘。另外，認(rèn)為由于頂面僅發(fā)生致密化的 脫堿層導(dǎo)致的蝕刻率下降的現(xiàn)象，其結(jié)果是蝕刻率為6~Snm/分鐘之低。即，實施例1~6 中，底面上的因脫堿導(dǎo)致的致密化的程度被抑制至較低，實現(xiàn)了 ER2AR1S 0. 8的關(guān)系。由 此可以認(rèn)為，實施例1~6的玻璃板在化學(xué)強化時實現(xiàn)了頂面與底面之間的堿離子置換的 良好的平衡，翹曲得到抑制。
[0062] 另外，ER2/ER$ 0. 7以下的實施例3~6的樣品與ER2/ER$ 0. 8的實施例1、2 的樣品相比，翹曲量被抑制至更小。
[0063] 另一方面，比較例1~3的玻璃板的ER2/ERj9值超過0. 8。SP，比較例1~3的 玻璃板與實施例1~6的玻璃板相比，底面的致密化的程度高，底面的蝕刻率低。其結(jié)果 是，可以認(rèn)為在化學(xué)強化時，由于致密化導(dǎo)致的底面的堿離子置換的阻礙的程度變高，頂面 與底面之間的堿離子置換的平衡變差，翹曲量變大。
[0064] (實施例7)
[0065] 除了將玻璃板的厚度設(shè)為0. 4_這點、由頂面和底面這兩方噴吹502氣體這點、和 將SO2氣體的噴吹量及處理溫度設(shè)為如表2所示這點以外，利用與實施例1~6相同的方 法制作玻璃板。對于所得到的玻璃板，利用與實施例1~6同樣的方法，進行蝕刻率測定、 化學(xué)強化及翹曲量測定。將結(jié)果示于表2。
[0066] (比較例4)
[0067] 除了將玻璃板的厚度設(shè)為0. 4_這點、和將SO2氣體的噴吹量及處理溫度設(shè)為如 表2所示這點以外，利用與實施例1~6相同的方法制作玻璃板。對于所得到的玻璃板，利 用與實施例1~6同樣的方法，進行蝕刻率測定、化學(xué)強化及翹曲量測定。將結(jié)果示于表2。 [0068]【表2】
[0070] (實施例8~11)
[0071] 除了將玻璃板的厚度設(shè)為0. 7mm這點、和將SO2氣體的噴吹量及處理溫度設(shè)為如 表3所示這點以外，利用與實施例1~6相同的方法制作玻璃板。對于所得到的玻璃板，除 了將化學(xué)強化條件設(shè)成1^03熔融鹽的溫度為420°C、將浸漬時間設(shè)為4小時這點以外，利用 與實施例1~6同樣的方法，進行蝕刻率測定、化學(xué)強化及翹曲量測定。其中，化學(xué)強化及 翹曲量測定僅對370_X470mm的尺寸的樣品進行。將結(jié)果示于表3。
[0072] (比較例5和6)
[0073] 除了將玻璃板的厚度設(shè)為0. 7mm這點、和將SO2氣體的噴吹量及處理溫度設(shè)為如 表3所示這點以外，利用與實施例1~6相同的方法制作玻璃板。對于所得到的玻璃板，除 了將化學(xué)強化條件設(shè)為1^03熔融鹽的溫度為420°C、將浸漬時間設(shè)為4小時這點以外，利用 與實施例1~6同樣的方法，進行蝕刻率測定、化學(xué)強化及翹曲量測定。其中，化學(xué)強化及 翹曲量測定僅對370_X470mm的尺寸的樣品進行。將結(jié)果示于表3。
[0074]【表3】
[0076] 即便在使玻璃板的厚度變化的情況下，與EIVER1超過0. 8的比較例5和6的樣品 相比，ER2AR1滿足0. 8以下的實施例8~11的樣品能夠?qū)⒒瘜W(xué)強化后的翹曲量抑制至較 小。
[0077] 由以上實施例1~11和比較例1~6的結(jié)果可以確認(rèn)，ER2/ER# 0. 8以下的玻 璃板的化學(xué)強化后的頂面與底面的堿離子交換量差被抑制至較小從而翹曲變小。
[0078] 產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0079] 本發(fā)明的玻璃板通過脫堿導(dǎo)致的脫水縮合而表面被致密化，而且化學(xué)強化后的翹 曲也得到抑制，因此可以適宜地用在用于便攜設(shè)備的圖像顯示裝置的表面保護的保護玻璃 等要求薄度和強度的用途中。
【主權(quán)項】
1. 一種玻璃板，其是采用將熔融的玻璃原料在熔融金屬上成形成板狀的浮法成形出的 厚度為I. 6mm以下的玻璃板， 所述玻璃板中，將成形時與所述熔融金屬接觸的表面作為第1表面、將與所述第1表面 相反側(cè)的表面作為第2表面時，至少對所述第1表面實施了形成致密化的脫堿層的處理， 在將50°C、0. 1質(zhì)量％的氫氟酸用作蝕刻液的情況下，將所述第1表面的蝕刻率設(shè)為ER1Oim/分鐘）并將所述第2表面的蝕刻率設(shè)為ER2Oim/分鐘）時，ER^ER2滿足ER2/ ER1S0.8的關(guān)系。2. 如權(quán)利要求1所述的玻璃板，其中，ER1與ER2滿足ER^ER1S0. 7的關(guān)系。3. 如權(quán)利要求1或2所述的玻璃板，其中，對所述第2表面實施了形成致密化的脫堿層 的處理。4. 一種玻璃板的制造方法，其是制造厚度為I. 6_以下的玻璃板的方法，包括： (I) 將熔融的玻璃原料在熔融金屬上成形成玻璃帶的工序、 (II) 所述玻璃帶中，將所述工序（I)中與所述熔融金屬接觸的表面作為第1表面、將 與所述第1表面相反側(cè)的表面作為第2表面，在將50°C、0. 1質(zhì)量％的氫氟酸用作蝕刻液 的情況下，將所述第1表面的蝕刻率設(shè)為ER1 (nm/分鐘）并將所述第2表面的蝕刻率設(shè)為 ER2Oim/分鐘）時，至少對所述第1表面實施了形成致密化的脫堿層的處理，使得￡1^與ER2 滿足ER2AR1S0. 8的關(guān)系的工序。5. 如權(quán)利要求4所述的玻璃板的制造方法，其中，在所述工序（II)之后，還包括： (III) 采用基于堿離子置換的方法，對通過分切所述玻璃帶而得到的玻璃板進行化學(xué) 強化的工序。
【專利摘要】本發(fā)明的玻璃板是采用將熔融的玻璃原料在熔融金屬上成形成板狀的浮法成形出的厚度為1.6mm以下的玻璃板。所述玻璃板中，將成形時與所述熔融金屬接觸的表面作為第1表面，將與所述第1表面相反側(cè)的表面作為第2表面時，至少對所述第1表面實施了形成致密化的脫堿層的處理。在將50℃、0.1質(zhì)量％的氫氟酸用作蝕刻液的情況下將所述第1表面的蝕刻率設(shè)為ERl(nm/min)并將所述第2表面的蝕刻率設(shè)為ER2(nm/min)時，ER1與ER2滿足ER2/ER1≤0.8的關(guān)系。
【IPC分類】C03C23/00, G09F9/00, C03C21/00
【公開號】CN105189396
【申請?zhí)枴緾N201480016536
【發(fā)明人】堀田啟文, 三谷一石, 齊藤靖弘
【申請人】日本板硝子株式會社
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2014年3月18日
【公告號】US20160023946, WO2014148046A1