本發(fā)明屬于玻璃熔煉設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種用于生產(chǎn)光學(xué)玻璃的熔煉裝置。

背景技術(shù)：

光學(xué)玻璃作為一種光傳輸?shù)慕橘|(zhì)，除了對(duì)其內(nèi)部的氣泡、結(jié)石、條紋有嚴(yán)格的要求外，還對(duì)其透過率有更高的要求。光學(xué)玻璃的透過率是反映光通過玻璃能力的指標(biāo)，光線進(jìn)入玻璃，大部分光線將通過玻璃，其中有一部分光被玻璃內(nèi)部吸收，還有一部分光被玻璃表面反射掉。因此，光線在玻璃中的光吸收量和光反射量越小，玻璃的透過能力就越強(qiáng)。一般來說，使用透射材料的光學(xué)儀器，大都要求材料具備較高的透過率。

研究表明，光學(xué)玻璃的透過率首先與其化學(xué)組成密切相關(guān)，其次與制造過程工藝、技術(shù)密切相關(guān)。一種光學(xué)玻璃材料研發(fā)完成后，其透過率水準(zhǔn)就基本確定，若想要進(jìn)一步提升其透過率，制造過程的工藝、技術(shù)將起關(guān)鍵作用。

一般來說，玻璃對(duì)光的吸收突出表現(xiàn)為選擇性吸收，主要是由于玻璃內(nèi)部的著色元素所引起的；一些在玻璃中以離子狀態(tài)存在的多價(jià)態(tài)過渡金屬元素易產(chǎn)生電子躍遷，產(chǎn)生價(jià)態(tài)變化，從而對(duì)可見光產(chǎn)生選擇性吸收，影響玻璃的透過率。常見的著色元素有：ti、v、cr、mn、fe、co、ni、cu、ce、pr、nd等。

玻璃熔煉裝置是生產(chǎn)光學(xué)玻璃的關(guān)鍵設(shè)備之一，現(xiàn)有的玻璃熔煉裝置，包括內(nèi)部具有熔煉腔的熔煉容器、豎直設(shè)置在熔煉腔中的加熱電極以及設(shè)置在熔煉容器上部的燃燒器；熔煉容器上設(shè)有投料口，投料口的出料端與燃燒器的燒嘴相對(duì)應(yīng)；加熱電極由氧化錫或鉬制成。采用現(xiàn)有的玻璃熔煉裝置熔化玻璃原料的過程如下：玻璃原料由投料口連續(xù)投入熔煉容器的熔煉腔中，投入的玻璃原料由上部空間的燃燒器噴射的燃燒火焰加熱初熔，將玻璃原料熔化為液態(tài)，通過氧化錫或鉬電極對(duì)玻璃液直接通電加熱，使玻璃液熔化。電極加熱熔化玻璃的過程中，伴隨有鹽類分解、固液相轉(zhuǎn)變、復(fù)鹽產(chǎn)生等復(fù)雜的物理化學(xué)變化，部分區(qū)域的粉狀玻璃原料和玻璃液共存，氣體釋放和吸、放熱反應(yīng)，引起玻璃液的強(qiáng)對(duì)流，對(duì)熔煉容器、電極的侵蝕較為嚴(yán)重，熔煉容器材料和電極材料中的雜質(zhì)很快會(huì)隨侵蝕進(jìn)入玻璃液中，引起玻璃著色，影響玻璃的透過能力。

目前，熔煉容器多為電熔氧化鋁制品、鋯剛玉制品、莫來石制品或氧化鋯制品；除此之外，還有電熔鑄鎂鉻等堿性電熔鑄制品；而熔煉裝置又普遍采用全電極加熱或氣電混合加熱的結(jié)構(gòu)。其中，熔鑄氧化鋁制品和莫來石制品的氣孔率較高，抗侵蝕能力差，抗熱震穩(wěn)定性差，該類熔煉容器很容易出現(xiàn)材質(zhì)剝落，導(dǎo)致玻璃內(nèi)部產(chǎn)生耐火材料結(jié)石，同時(shí)，大量的侵蝕物中的著色雜質(zhì)引入，會(huì)導(dǎo)致玻璃的透過率下降，因此該種材料的熔煉容器很難生產(chǎn)出高品質(zhì)的光學(xué)玻璃產(chǎn)品。電熔鑄鎂鉻磚雖然具備很好的抗鈉鈣玻璃侵蝕能力，熔點(diǎn)高，但其材料中含有大量的fe雜質(zhì)，本身組分中的鉻作為變價(jià)元素，對(duì)玻璃具有著色能力，該類熔煉容器適合工業(yè)、電子玻璃及有色玻璃的生產(chǎn)。鋯剛玉制品雜質(zhì)含量極低，幾乎不含有基質(zhì)玻璃相，具有優(yōu)良的對(duì)玻璃液的低污染性能，體積密度大，氣孔率小，具有較強(qiáng)的抗玻璃液侵蝕能力，產(chǎn)生氣泡、結(jié)石、條紋的傾向小，微量的著色雜質(zhì)引入對(duì)光學(xué)玻璃的透過率影響較小，是目前主流的光學(xué)玻璃熔煉容器材料，適用于絕大多數(shù)無鉛環(huán)保玻璃和含鉛非環(huán)保光學(xué)玻璃的生產(chǎn)。

雖然，現(xiàn)有的玻璃熔煉裝置中使用了電熔鋯剛玉(azs)材料修筑的熔煉容器能夠生產(chǎn)出質(zhì)量合格的光學(xué)玻璃，其透過能力能夠滿足大部分光學(xué)儀器的設(shè)計(jì)要求，但是由于電熔鋯剛玉材料仍然含有接近3000ppm的著色雜質(zhì)fe和ti，并且使用的鉬電極本身隨氣氛變化對(duì)玻璃液著色，而二氧化錫電極中含有燒結(jié)促進(jìn)劑(如au、ag、cu、ni等加入量為0.5～2％)和降低電阻添加劑(如as2o3、sb2o3、ta2o3、u2o3)，綜合較多的著色元素都對(duì)制造高透玻璃產(chǎn)生阻礙，因此所生產(chǎn)光學(xué)玻璃產(chǎn)品的透過能力對(duì)于一些成像要求高的高精度光學(xué)儀器而言還是不夠，因?yàn)楦呔裙鈱W(xué)儀器透過率指標(biāo)要求往往比普通光學(xué)儀器的透過率指標(biāo)要求高0.5％～5％，如單反相機(jī)、太空搜索望遠(yuǎn)鏡、玻導(dǎo)光纖等對(duì)光學(xué)玻璃的透過率要求。

為了進(jìn)一步提高玻璃的透過率，一些技術(shù)先進(jìn)的企業(yè)也采用鉑金制作加熱電極對(duì)玻璃液加熱，雖然玻璃的透過率有一定的提升，但仍然無法解決電熔鋯剛玉材料中著色雜質(zhì)對(duì)玻璃的污染，同時(shí)，鉑金電極也不適用于一些含鉛玻璃的生產(chǎn)，主要是含鉛玻璃液中極易出現(xiàn)pb單質(zhì)會(huì)嚴(yán)重腐蝕鉑金材料，容易引起鉑金雜質(zhì)或造成鉑金電極損壞，污染離子進(jìn)入玻璃體同樣對(duì)特定波長(zhǎng)的光產(chǎn)生吸收，影響玻璃產(chǎn)品的透過能力。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供了一種用于生產(chǎn)光學(xué)玻璃的熔煉裝置，旨在解決現(xiàn)有的玻璃熔煉裝置所生產(chǎn)的光學(xué)玻璃無法滿足高精度光學(xué)儀器對(duì)玻璃透過率的要求的問題。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：用于生產(chǎn)光學(xué)玻璃的熔煉裝置，包括熔煉容器、加熱機(jī)構(gòu)和鼓泡機(jī)構(gòu)，所述熔煉容器內(nèi)設(shè)有熔煉腔；所述熔煉腔的底面和側(cè)壁均由石英玻璃制作的玻璃磚砌筑而成；所述加熱機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在熔煉容器頂部的框形架以及設(shè)置在框形架上的至少兩個(gè)全氧燃燒器，所述全氧燃燒器的火焰噴嘴位于框形架的內(nèi)部并傾斜朝下，且由火焰噴嘴所噴射的火焰位于熔煉腔的上方；所述鼓泡機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在熔煉容器底部并與熔煉腔相通的鼓泡管。

進(jìn)一步的是，用于制作玻璃磚的石英玻璃的純度在99.9％以上，著色雜質(zhì)含量為1～2ppm。

進(jìn)一步的是，所述熔煉容器呈矩形結(jié)構(gòu)，熔煉容器一面?zhèn)缺诘纳喜吭O(shè)有原料投入口，與原料投入口相對(duì)應(yīng)的另一面?zhèn)缺诘南虏吭O(shè)有玻璃液出料口。

進(jìn)一步的是，所述熔煉腔的底面設(shè)有漏斗形結(jié)構(gòu)，所述熔煉容器的底部設(shè)有玻璃殘液排放孔，所述玻璃殘液排放孔的進(jìn)液端處于漏斗形結(jié)構(gòu)的底部。

進(jìn)一步的是，所述鼓泡機(jī)構(gòu)還包括與鼓泡管相連的鼓氣器。

進(jìn)一步的是，還包括固定支架，所述固定支架上設(shè)置有固定支撐框形架的支板。

進(jìn)一步的是，所述熔煉容器的外周壁上設(shè)置有冷卻箱。

進(jìn)一步的是，所述冷卻箱內(nèi)設(shè)有冷卻腔，所述冷卻腔的底面上間隔設(shè)置有至少兩塊下溢流隔板，冷卻腔的頂面上間隔設(shè)置有至少兩塊上溢流隔板，所述下溢流隔板與上溢流隔板交錯(cuò)間隔分布將冷卻腔分隔為波浪形的冷卻通道。

進(jìn)一步的是，所述冷卻箱的下部設(shè)有與冷卻通道一端相通的冷卻介質(zhì)入口，冷卻箱的上部設(shè)有與冷卻通道另一端相通的冷卻介質(zhì)出口。

進(jìn)一步的是，所述冷卻介質(zhì)入口上設(shè)置有開度調(diào)節(jié)閥門。

本發(fā)明的有益效果是：

(1)、熔煉容器內(nèi)圍成熔煉腔的內(nèi)壁由石英玻璃制作的玻璃磚砌筑而成，其具有較高的熔點(diǎn)，較低的導(dǎo)熱系數(shù)，優(yōu)良的抗熱震性、體積膨脹率小，致密無氣孔，含有的實(shí)際著色雜質(zhì)在5ppm以內(nèi)，有一定的抗高溫侵蝕能力等優(yōu)點(diǎn)，基本避免了因內(nèi)壁受高溫玻璃液侵蝕而引起玻璃著色，保證了光學(xué)玻璃的透過率；同時(shí)，石英玻璃的主要化學(xué)成分為sio2，即使受侵蝕進(jìn)入玻璃液中對(duì)玻璃的組分影響極小，更有利于生產(chǎn)出優(yōu)良?xì)馀葙|(zhì)量和高透過率的光學(xué)玻璃。

(2)、該熔煉裝置取消了電極加熱結(jié)構(gòu)，僅通過全氧燃燒器噴射的火焰對(duì)熔煉容器進(jìn)行輻射加熱，并由鼓泡機(jī)構(gòu)輔以鼓泡均化，從而既保證了對(duì)玻璃液加熱充分，又避免了因電極受高溫玻璃液侵蝕使得電極材料中的著色雜質(zhì)污染玻璃液而引起的玻璃著色，進(jìn)一步提升了光學(xué)玻璃的透過率。另外，該熔煉裝置采用純?nèi)紵椛浼訜?，能夠適用于各類高透過玻璃的生產(chǎn)，特別適用于含鉛高透過玻璃的生產(chǎn)。

(3)、通過在熔煉容器的外周壁上設(shè)置冷卻箱，利用在冷卻箱內(nèi)循環(huán)流動(dòng)的冷卻介質(zhì)對(duì)熔煉容器的周壁進(jìn)行冷卻，一方面能夠進(jìn)一步提高石英玻璃制作的玻璃磚的抗侵蝕能力，另一方面能夠提高該熔煉裝置的使用溫度，以滿足絕大部分光學(xué)玻璃的生產(chǎn)要求。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的實(shí)施結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是冷卻箱展開的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中標(biāo)記為：熔煉容器100、玻璃磚101、熔煉腔110、漏斗形結(jié)構(gòu)111、玻璃液出料口120、玻璃殘液排放孔130、加熱機(jī)構(gòu)200、框形架210、全氧燃燒器220、鼓泡管310、固定支架400、支板410、冷卻箱500、冷卻腔501、冷卻介質(zhì)入口502、冷卻介質(zhì)出口503、下溢流隔板510、上溢流隔板520。

圖2中的箭頭方向?yàn)槔鋮s介質(zhì)的流向。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。

如圖1所示，用于生產(chǎn)光學(xué)玻璃的熔煉裝置，包括熔煉容器100、加熱機(jī)構(gòu)200和鼓泡機(jī)構(gòu)，熔煉容器100內(nèi)設(shè)有熔煉腔110；熔煉腔110的底面和側(cè)壁均由石英玻璃制作的玻璃磚101砌筑而成；加熱機(jī)構(gòu)200包括設(shè)置在熔煉容器100頂部的框形架210以及設(shè)置在框形架210上的至少兩個(gè)全氧燃燒器220，全氧燃燒器220的火焰噴嘴位于框形架210的內(nèi)部并傾斜朝下，且由火焰噴嘴所噴射的火焰位于熔煉腔110的上方；鼓泡機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在熔煉容器100底部并與熔煉腔110相通的鼓泡管310。

經(jīng)發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，高純石英玻璃具有較高熔點(diǎn)，較低的導(dǎo)熱系數(shù)，優(yōu)良的抗熱震性、體積膨脹率小，致密無氣孔，幾乎無著色雜質(zhì)，有一定的抗高溫侵蝕能力等優(yōu)點(diǎn)；與電熔鋯剛玉材料的相比，唯有熔點(diǎn)和抗高溫侵蝕能力略弱，致密無氣孔的特性更優(yōu)，最主要的是著色雜質(zhì)含量比電熔鋯剛玉材料至少低2500ppm；因此，用于制作玻璃磚101的石英玻璃通常為高純石英玻璃，其著色雜質(zhì)含量在5ppm以下；優(yōu)選為純度在99.9％以上，著色雜質(zhì)含量為1～2ppm的石英玻璃。由于熔煉容器100內(nèi)圍成熔煉腔110的內(nèi)壁由石英玻璃制作的玻璃磚101砌筑而成，因此基本避免了因內(nèi)壁受高溫玻璃液侵蝕而引起玻璃著色，保證了光學(xué)玻璃的透過率；另外，由于石英玻璃的主要化學(xué)成分為sio2，即使受侵蝕進(jìn)入玻璃液中對(duì)玻璃的組分影響極小，更有利于生產(chǎn)出優(yōu)良?xì)馀葙|(zhì)量和高透過率的光學(xué)玻璃。

石英玻璃的熔點(diǎn)一般在1700℃以上，相對(duì)于絕大部分光學(xué)玻璃不高于1300℃的熔化溫度，完全滿足生產(chǎn)要求。由于石英玻璃在1200℃以上會(huì)發(fā)生內(nèi)部晶像結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)變，其高溫抗侵蝕能力會(huì)逐漸下降，為使該熔煉裝置達(dá)到理想的使用條件，優(yōu)選對(duì)熔化溫度小于1250℃的光學(xué)玻璃進(jìn)行生產(chǎn)；由于含鉛玻璃的熔化溫度較低，大約在1000～1200℃，因此該熔煉裝置更適宜于含鉛光學(xué)玻璃的熔煉；當(dāng)然，熔化溫度位于1250℃-1300℃也可以生產(chǎn)，但熔煉容器100的侵蝕將加快，使用壽命也將縮短。

該熔煉裝置取消了電極加熱結(jié)構(gòu)，僅通過全氧燃燒器220噴射的火焰對(duì)熔煉容器100進(jìn)行輻射加熱，并由鼓泡機(jī)構(gòu)輔以鼓泡均化，從而保證了對(duì)玻璃液加熱充分。加入到該熔煉裝置中的玻璃原料由全氧燃燒器220提供的熱量熔化為玻璃態(tài)，熔化過程由鼓泡管310鼓入一定量的氣體，增加玻璃液擴(kuò)散、對(duì)流，使玻璃液達(dá)到一定程度的均化，并且使玻璃液受到的輻射熱量快速傳遞，以被充分加熱。如圖1所示，加熱機(jī)構(gòu)200中的全氧燃燒器220優(yōu)選為等間隔布置的四個(gè)，各全氧燃燒器220的火焰噴嘴所噴射的火焰通常保持一致。由于沒有電極，避免了因電極受高溫玻璃液侵蝕，使得二氧化錫或鉬等材質(zhì)的電極中的著色雜質(zhì)污染玻璃液，引起的玻璃著色；也避免了鉑金電極在熔煉過程中對(duì)含鉛光學(xué)玻璃的污染，進(jìn)一步提升了光學(xué)玻璃的透過率。

熔煉容器100為該熔煉裝置的主體，其可以為多種結(jié)構(gòu)；熔煉容器100上一般設(shè)有用于投加玻璃原料的原料投入口和用于玻璃液輸出的玻璃液出料口；優(yōu)選的，熔煉容器100呈矩形結(jié)構(gòu)(俯視外形呈矩形)，原料投入口設(shè)于熔煉容器100的其中一面?zhèn)缺诘纳喜?，玻璃液出料?20設(shè)于與原料投入口相對(duì)應(yīng)的熔煉容器100的另一面?zhèn)缺诘南虏俊?/p>

通常，為了能夠使熔煉后處于熔煉腔110底部的含雜質(zhì)較多的玻璃殘液外排，再如圖1所示，熔煉腔110的底面設(shè)有漏斗形結(jié)構(gòu)111，熔煉容器100的底部設(shè)有玻璃殘液排放孔130，玻璃殘液排放孔130的進(jìn)液端處于漏斗形結(jié)構(gòu)111的底部。在玻璃殘液排放孔130上一般還設(shè)置有堵頭或閥門，需要外排玻璃殘液時(shí)，去除堵頭或打開閥門即可。

具體的，鼓泡機(jī)構(gòu)還包括與鼓泡管310相連的鼓氣器。鼓氣器為氣源，通常向鼓泡管310中鼓入氧化性氣體。

再如圖1所示，該熔煉裝置還包括固定支架400，固定支架400上設(shè)置有固定支撐框形架210的支板410。加熱機(jī)構(gòu)200的框形架210通常安裝在支板410上，并處于熔煉容器100的頂部。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，再如圖1所示，熔煉容器100的外周壁上設(shè)有冷卻箱500。冷卻箱500通常采用耐高溫不銹鋼材料制作，冷卻箱500是專為針對(duì)石英玻璃材質(zhì)的熔煉腔110內(nèi)壁而設(shè)計(jì)的，通過在熔煉容器100的外周壁上設(shè)置冷卻箱500，利用在冷卻箱500內(nèi)循環(huán)流動(dòng)的冷卻介質(zhì)對(duì)熔煉容器100的周壁進(jìn)行冷卻，一方面能夠進(jìn)一步提高石英玻璃制作的玻璃磚101的抗侵蝕能力，另一方面能夠提高該熔煉裝置的使用溫度，以滿足絕大部分光學(xué)玻璃的生產(chǎn)要求。

為了達(dá)到更好的冷卻效果，如圖2所示，冷卻箱500內(nèi)設(shè)有冷卻腔501，冷卻腔501的底面上間隔設(shè)置有至少兩塊下溢流隔板510，冷卻腔501的頂面上間隔設(shè)置有至少兩塊上溢流隔板520，下溢流隔板510與上溢流隔板520交錯(cuò)間隔分布將冷卻腔501分隔為波浪形的冷卻通道。下溢流隔板510和上溢流隔板520，一方面可以增大冷卻箱500與冷卻介質(zhì)的接觸面積提高冷卻效果，另一方面所分隔形成的冷卻通道使冷卻介質(zhì)更具流動(dòng)性，并且在冷卻箱500中的停留時(shí)間更長(zhǎng)，大大提高了冷卻箱500的冷卻效果，再一方面冷卻通道限制了冷卻介質(zhì)的流動(dòng)路徑，使流速相對(duì)穩(wěn)定，進(jìn)而使冷卻狀態(tài)穩(wěn)定，以達(dá)到理想的冷卻狀態(tài)。

在上述基礎(chǔ)上，為了確保冷卻介質(zhì)在冷卻箱500內(nèi)能夠始終保持充滿狀態(tài)，充分與冷卻箱500的內(nèi)壁接觸，因此，在冷卻箱500的下部設(shè)有與冷卻通道一端相通的冷卻介質(zhì)入口502，在冷卻箱500的上部設(shè)有與冷卻通道另一端相通的冷卻介質(zhì)出口503。通常，在冷卻介質(zhì)入口502上設(shè)置有開度調(diào)節(jié)閥門，用于控制冷卻介質(zhì)流量。通常選用水作為冷卻介質(zhì)，優(yōu)選采用軟水循環(huán)系統(tǒng)分別與冷卻介質(zhì)入口502和冷卻介質(zhì)出口503循環(huán)連接在一起。為了能夠更好對(duì)熔煉容器100的冷卻溫度進(jìn)行調(diào)控，該熔煉裝置還包括控制器，在靠近冷卻介質(zhì)出口503的冷卻通道內(nèi)還設(shè)置有溫度傳感器，開度調(diào)節(jié)閥門和溫度傳感器分別與控制器電連接。通過溫度傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)控即將流出冷卻介質(zhì)出口503的冷卻介質(zhì)的溫度并反饋給控制器，控制器根據(jù)預(yù)設(shè)溫度調(diào)節(jié)開度調(diào)節(jié)閥門的開度，進(jìn)而控制冷卻介質(zhì)的流量，以達(dá)到更好的冷卻效果。

實(shí)施例

首先，選擇具有以下重量百分比成分的含鉛玻璃，各組分及重量百分含量如下：sio2：30％～40％，pbo：45％～55％，h3bo3：4％～6％，kno：4％～6％，na2co3：2％～5％，sb2o3：0.1％。

以上玻璃原料均使用高純?cè)?，純度≧99.9％；以上原料均含有fe雜質(zhì)，含量均≦2ppm；其中sio2、h3bo3、na2co3均含有cu雜質(zhì)，含量均≦2ppm；其中sio2、h3bo3也含有cr雜質(zhì)，含量均≦1ppm。

將以上玻璃原料連續(xù)加入本發(fā)明的熔煉裝置中，在1200℃～1250℃熔煉溫度下熔煉，獲得實(shí)施例玻璃，并取樣測(cè)試透過率指標(biāo)，與日本ohara(iline玻璃)的相同牌號(hào)高透過率產(chǎn)品進(jìn)行對(duì)比，對(duì)比波長(zhǎng)選擇具有代表性的400nm、420nm,結(jié)果如下：

結(jié)論：實(shí)施例玻璃代表波長(zhǎng)的測(cè)試指標(biāo)т(10mm)已經(jīng)達(dá)到并超過了日本的ohara(iline玻璃)т(10mm)的指標(biāo)。說明，使用本發(fā)明的熔煉裝置連續(xù)生產(chǎn)獲得到的含鉛高透光學(xué)玻璃的透過率滿足高精度光學(xué)儀器的要求。

對(duì)比例

使用與實(shí)施例提供的同一玻璃組分的原料，采用現(xiàn)有的玻璃熔煉裝置進(jìn)行熔煉生產(chǎn)，該玻璃熔煉裝置的熔煉容器采用電熔鋯剛玉材質(zhì)，加熱電極采用二氧化錫材質(zhì)。將玻璃原料連續(xù)加入以上玻璃熔煉裝置中，同樣在1200℃～1250℃熔煉溫度下，獲得對(duì)比例玻璃，并取樣測(cè)試透過率指標(biāo)，與日本ohara(iline玻璃)的相同牌號(hào)高透過率產(chǎn)品進(jìn)行對(duì)比，對(duì)比波長(zhǎng)選擇具有代表性的400nm、420nm,結(jié)果如下：

結(jié)論：對(duì)比例玻璃代表波長(zhǎng)的測(cè)試指標(biāo)т(10mm)與日本的ohara(iline玻璃)т(10mm)的指標(biāo)差距較大，透過率指標(biāo)低于ohara透過率指標(biāo)1％左右。

可見，采用現(xiàn)有的玻璃熔煉裝置所生產(chǎn)的光學(xué)玻璃產(chǎn)品，其透過率指標(biāo)低于采用本發(fā)明熔煉裝置所生產(chǎn)的光學(xué)玻璃產(chǎn)品。