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電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)中循環(huán)氫氣的深度凈化方法與流程

文檔序號(hào):12389549閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)中循環(huán)氫氣的深度凈化方法,屬于電子級(jí)多晶硅生產(chǎn)中尾氣的提純技術(shù)領(lǐng)域。將含有Cl2、氫化物雜質(zhì)的循環(huán)氫氣通入等離子體裝置中使Cl2活化得到氯自由基,氯自由基與氫化物反應(yīng)得到含氯化合物,將含氯化合物與循環(huán)氫氣分離。此深度凈化方法中,循環(huán)氫氣中含有微量Cl2,微量Cl2在等離子體裝置中由于強(qiáng)電磁場(chǎng)作用會(huì)充分活化,形成具有強(qiáng)取代活性的氯自由基,氯自由基會(huì)優(yōu)先與氫化物發(fā)生取代反應(yīng),使其轉(zhuǎn)變高沸點(diǎn)、強(qiáng)極性的物質(zhì),容易與循環(huán)氫氣分離;不引入外雜質(zhì)、反應(yīng)副產(chǎn)物只有微量HCl,容易與循環(huán)氫氣分離;等離子體活化可使Cl2活化更加充分,達(dá)到循環(huán)氫氣深度凈化的目的。

技術(shù)研發(fā)人員:宗冰;張寶順;王體虎
受保護(hù)的技術(shù)使用者:亞洲硅業(yè)(青海)有限公司
文檔號(hào)碼:201611020410
技術(shù)研發(fā)日:2016.11.21
技術(shù)公布日:2017.05.31

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