本發(fā)明涉及抬頭顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及汽車上抬頭顯示夾層玻璃,具體地是一種能夠利用導電低輻射鍍膜進行電加熱的抬頭顯示夾層玻璃,其中導電低輻射鍍膜既能夠反射紅外線,又能夠配合電極進行電加熱。
背景技術(shù):
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隨著科學技術(shù)的發(fā)展,以及人們對汽車前擋玻璃附加功能的需求越來越高端,汽車前檔玻璃被賦予了越來越多的功能,例如抬頭顯示(HUD)功能、電加熱除霜除霧功能、反射紅外線隔熱功能和隔紫外線功能等?,F(xiàn)有技術(shù)中,汽車前檔玻璃的各功能較為單一,例如實現(xiàn)抬頭顯示(HUD)功能多采用楔形聚合物中間層方案,實現(xiàn)電加熱功能多采用在聚合物中間層上布設導電加熱絲(鎢絲)方案,實現(xiàn)反射紅外線、隔紫外線功能多采用在聚合中間層中增添紅外線阻隔粒子或紫外線阻隔粒子方案,這些實現(xiàn)單一功能的方案能夠適當?shù)貪M足需求,但難以滿足復合功能化的趨勢要求。
其中,對于汽車前檔玻璃復合抬頭顯示功能和電加熱功能來說,楔形聚合物中間層方案和布設導線加熱絲方案疊加設計仍然存在兩者各自的缺點,例如對楔形聚合物中間層的規(guī)格和車型需要特定的設計和要求、加熱絲影響玻璃整體的美觀以及在一定程度上會對駕駛員的視線造成干擾;同時由于兩者方案疊加,使得實現(xiàn)工藝更加復雜和困難,成本大幅增加。進一步地,根據(jù)需要再復合反射紅外線隔熱功能,要么繼續(xù)在聚合物中間層中增添紅外線阻隔粒子,要么在玻璃板表面設置低輻射(LOW-E)鍍膜或隔熱涂層,這樣以來顯然會更進一步使生產(chǎn)工藝流程復雜和困難,更加難以優(yōu)化實現(xiàn)復合各功能。
特別是,傳統(tǒng)的銀基低輻射(LOW-E)鍍膜若直接用作電加熱膜層,需要在生產(chǎn)過程中對其進行熱處理前就布置電極,電極材料通常采用含有銀的油墨或漿料,然后在銀基低輻射(LOW-E)鍍膜和電極同時被高溫熱處理的過程中,電極材料中的有機成分容易揮發(fā),從而造成對低輻射(LOW-E)鍍膜的破壞;并且含有銀的油墨或漿料也易擴散,對產(chǎn)品的外觀、性能以及良品率都會產(chǎn)生嚴重影響。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
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本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中夾層玻璃復合抬頭顯示功能、隔熱功能和電加熱功能時存在工藝復雜困難、成本大幅增加以及難以優(yōu)化復合各功能等缺點,提供一種能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是:能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃,包括內(nèi)玻璃板、外玻璃板以及夾在內(nèi)玻璃板和外玻璃板之間的中間膜片,在內(nèi)玻璃板最遠離中間膜片的表面上沉積能夠反射P偏振光的透明納米膜,所述透明納米膜包括至少一個從內(nèi)玻璃板表面向外依次沉積的高折射率層/低折射率層的疊層結(jié)構(gòu),所述高折射率層的折射率不低于1.8,所述低折射率層的折射率不高于1.5;其特征在于:在外玻璃板最靠近中間膜片的表面上沉積導電低輻射鍍膜,在所述導電低輻射鍍膜上布置用于連接外部電源的第一電極和第二電極,所述導電低輻射鍍膜包括從外玻璃板表面向外依次沉積的第一介質(zhì)層、第一銀層、第二介質(zhì)層、第二銀層和第三介質(zhì)層,所述第三介質(zhì)層包括至少一個子層,其中最遠離外玻璃板的子層為氮化物或氮氧化物層。
優(yōu)選地,第一銀層和第二銀層的厚度均不大于11nm。
優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層的厚度不大于10nm;更優(yōu)選所述氮化物或氮氧化物層的厚度為5~10nm。
優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層選自硅、鋁、鋯、硼、銥、鈦、鎳的氮化物或者氮氧化物中的至少一種。
優(yōu)選地,所述導電低輻射鍍膜的方阻值小于3.5Ω/□。
優(yōu)選地,所述第一電極和第二電極的電阻率小于3×10-5Ω*cm。
優(yōu)選地,所述第一電極和第二電極的材料選自銀、銅、鋁、鎢、鉑、鋅的金屬或金屬合金,或是含銀納米顆粒的油墨和漿料,或是含銀納米顆粒的油墨和金屬的組合。
優(yōu)選地,所述第一電極和第二電極的厚度小于150μm。
同時,本發(fā)明還提供一種能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃,其包括內(nèi)玻璃板、外玻璃板以及夾在內(nèi)玻璃板和外玻璃板之間的中間膜片,在內(nèi)玻璃板最遠離中間膜片的表面上沉積能夠反射P偏振光的透明納米膜,所述透明納米膜包括至少一個從內(nèi)玻璃板表面向外依次沉積的高折射率層/低折射率層的疊層結(jié)構(gòu),所述高折射率層的折射率不低于1.8,所述低折射率層的折射率不高于1.5;其特征在于:在內(nèi)玻璃板最靠近中間膜片的表面上沉積導電低輻射鍍膜,在所述導電低輻射鍍膜上布置用于連接外部電源的第一電極和第二電極,所述導電低輻射鍍膜包括至少一個銀層和至少兩個介質(zhì)層,每個銀層位于兩個介質(zhì)層之間,最遠離內(nèi)玻璃板的介質(zhì)層包括至少一個子層,其中最遠離內(nèi)玻璃板的子層為氮化物或氮氧化物層。
優(yōu)選地,當所述導電低輻射鍍膜包括一個銀層時,所述銀層的幾何厚度不大于14nm,所述高折射率層的幾何厚度為80~250nm,所述低折射率層的幾何厚度為50~130nm。
優(yōu)選地,當所述導電低輻射鍍膜包括兩個銀層時,兩個銀層的幾何厚度總和不大于25nm,所述高折射率層的幾何厚度為50~150nm,所述低折射率層的幾何厚度為50~130nm。
優(yōu)選地,當所述導電低輻射鍍膜包括三個銀層時,三個銀層的幾何厚度總和不大于41nm,所述高折射率層的幾何厚度為80~180nm,所述低折射率層的幾何厚度為50~130nm。
優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層的厚度不大于10nm;更優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層的厚度為5~10nm。
優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層選自硅、鋁、鋯、硼、銥、鈦、鎳的氮化物或者氮氧化物中的至少一種。
優(yōu)選地,所述導電低輻射鍍膜的方阻值小于3.5Ω/□。
優(yōu)選地,所述第一電極和第二電極的電阻率小于3×10-5Ω*cm。
優(yōu)選地,所述第一電極和第二電極的材料選自銀、銅、鋁、鎢、鉑、鋅的金屬或金屬合金,或是含銀納米顆粒的油墨和漿料,或是含銀納米顆粒的油墨和金屬的組合。
優(yōu)選地,所述第一電極和第二電極的厚度小于150μm。
本發(fā)明由于采取了上述技術(shù)方案,其具有如下有益效果:
本發(fā)明所述的能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃,通過設置兩個電極、能夠反射P偏振光的透明納米膜,以及既能夠反射紅外線又能夠配合電極進行電加熱的導電低輻射鍍膜,從而使所述的抬頭顯示夾層玻璃具備良好的隔熱性能;并在P偏振光以60~75°的入射角入射時,基本無重影現(xiàn)象產(chǎn)生,實現(xiàn)高清抬頭顯示效果;同時,通過將兩個電極與外部電源連通,即可使所述的抬頭顯示夾層玻璃具備電加熱功能,進而實現(xiàn)除霜除霧功能。
附圖說明:
圖1為本發(fā)明所述的第二表面沉積導電低輻射鍍膜的抬頭顯示夾層玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明所述的第三表面沉積導電低輻射鍍膜的抬頭顯示夾層玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為圖1中雙銀膜系的導電低輻射鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4A為圖2中單銀膜系的導電低輻射鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4B為圖2中雙銀膜系的導電低輻射鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4C為圖2中三銀膜系的導電低輻射鍍膜的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為本發(fā)明所述的第一電極和第二電極在導電低輻射鍍膜上布置的示意圖。
具體實施方式:
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的內(nèi)容作進一步說明。
如圖1和圖2所示,本發(fā)明所述的能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃,能夠與產(chǎn)生P偏振光的投影系統(tǒng)一起實現(xiàn)抬頭顯示功能。為了使夾層玻璃既具有抬頭顯示(HUD)功能,又具有反射紅外線的隔熱功能,還具有電加熱功能,本發(fā)明在夾層玻璃上既沉積能夠反射P偏振光實現(xiàn)抬頭顯示功能的透明納米膜,還沉積有既能夠反射紅外線又能夠配合電極進行電加熱的導電低輻射鍍膜;具體地,本發(fā)明所述的能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃包括內(nèi)玻璃板11、外玻璃板12以及夾在內(nèi)玻璃板11和外玻璃板12之間的中間膜片13;在本發(fā)明中,將外玻璃板12最遠離中間膜片的表面即外玻璃板-空氣界面定義為第一表面,將外玻璃板12最靠近中間膜片的表面即外玻璃板-中間膜片界面定義為第二表面,將內(nèi)玻璃板11最靠近中間膜片的表面即內(nèi)玻璃板-中間膜片界面定義為第三表面,將內(nèi)玻璃板11最遠離中間膜片的表面即內(nèi)玻璃板-空氣界面定義為第四表面;在第四表面上沉積所述透明納米膜14,所述透明納米膜14包括至少一個從內(nèi)玻璃板11表面向外依次沉積的高折射率層/低折射率層的疊層結(jié)構(gòu),所述高折射率層的折射率不低于1.8,所述低折射率層的折射率不高于1.5;圖1示出了在第二表面沉積有導電低輻射鍍膜15;圖2示出了在第三表面沉積有導電低輻射鍍膜15。
在圖1和圖2中,投影系統(tǒng)100產(chǎn)生的P偏振光101以60~75度的入射角入射到所述透明納米膜14上,所述透明納米膜14對部分所述P偏振光101的反射產(chǎn)生的第一反射光102形成人眼200可視的抬頭顯示圖像的主像;另一部分P偏振光透過所述透明納米膜14進入夾層玻璃內(nèi)傳播,在夾層玻璃內(nèi)傳播的P偏振光到達第二表面上的導電低輻射鍍膜15或第三表面上的導電低輻射鍍膜15時,部分會發(fā)生反射并從第四表面折射出射產(chǎn)生第一折射光103,形成抬頭顯示圖像的副像;當導電低輻射鍍膜15對P偏振光的反射率較高時,副像較為明顯,從而產(chǎn)生抬頭顯示圖像的重影現(xiàn)象。
為了消除可能產(chǎn)生的重影現(xiàn)象,更好地實現(xiàn)抬頭顯示復合隔熱和電加熱功能,如圖1所示,在第二表面沉積有導電低輻射鍍膜15時,在所述導電低輻射鍍膜15上布置用于連接外部電源(未示出)的第一電極16和第二電極17,所述導電低輻射鍍膜15包括從外玻璃板12表面向外依次沉積的第一介質(zhì)層、第一銀層、第二介質(zhì)層、第二銀層和第三介質(zhì)層,所述第三介質(zhì)層包括至少一個子層,其中最遠離外玻璃板12的子層為氮化物或氮氧化物層;這是因為在外玻璃板12最靠近中間膜片的表面上沉積低輻射鍍膜15時,最優(yōu)選雙銀膜系能夠結(jié)合透明納米膜實現(xiàn)抬頭顯示功能的時候?qū)崿F(xiàn)反射紅外輻射的隔熱功能。
其中,當該雙銀膜系中的銀層的幾何厚度大于11nm時,所述導電低輻射鍍膜15對P偏振光的反射率隨著銀層厚度的增加而增大,從而會出現(xiàn)明顯的副像,造成目視重影現(xiàn)象,為了實現(xiàn)高清抬頭顯示效果,優(yōu)選每個銀層的幾何厚度不大于11nm。
同時,對透明納米膜14進行更優(yōu)化設計,使抬頭顯示復合隔熱和電加熱功能的效果更好,優(yōu)選設置所述高折射率層的幾何厚度為50~100nm,低折射率層的幾何厚度為80~120nm。
如圖3所示,本發(fā)明所述的沉積在外玻璃板12的第二表面上的雙銀膜系導電低輻射鍍膜15包括第一介質(zhì)層151、第一銀層152、第二介質(zhì)層153、第二銀層154和第三介質(zhì)層155,所述第三介質(zhì)層155包括兩個子層,其中最遠離外玻璃板12的子層104為氮化物或氮氧化物層;但不限于此,所述第三介質(zhì)層155還可以包括三個甚至更多個子層,但其最遠離外玻璃板12的子層104為氮化物或氮氧化物層;若所述第三介質(zhì)層155為單層,則所述第三介質(zhì)層155為氮化物或氮氧化物層;也就是說第三介質(zhì)層中的氮化物或氮氧化物層直接與第一電極16和第二電極17相接觸,由于氮化物或氮氧化物層具有較致密的結(jié)構(gòu)特性,因此有利于導電低輻射鍍膜15在后續(xù)玻璃基板熱處理過程中得到有效保護,避免熱處理過程中電極材料的有機成分的揮發(fā)或擴散而對導電低輻射鍍膜15造成破壞,比如產(chǎn)生導電低輻射鍍膜15的局部變色和電加熱時出現(xiàn)熱點等問題;優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層選自硅、鋁、鋯、硼、銥、鈦、鎳的氮化物或者氮氧化物中的至少一種;相應地,致密的氮化物或氮氧化物層形成保護的同時也會對電流的通過產(chǎn)生一定的不利影響,為了更好地使所述導電低輻射鍍膜15與第一電極16和第二電極17電連接,優(yōu)選所述氮化物或氮氧化物層的厚度不大于10nm,更優(yōu)選為5~10nm。
本發(fā)明所述的第一電極16和第二電極17與外部電源(未示出)的正負極連通后,可將電流引入所述導電低輻射鍍膜15中,從而使其發(fā)熱而根據(jù)需要對夾層玻璃進行加熱,接入電壓≤36V的外部電源能夠提供400~1500W/m2的功率密度,為了使夾層玻璃具有理想的除霜除霧效果,通常要求通電后功率密度大于500W/m2,并且所述導電低輻射鍍膜具有較低的方阻值,優(yōu)選所述導電低輻射鍍膜的方阻值小于3.5Ω/□,更優(yōu)選小于2.5Ω/□。
在本發(fā)明中,所述第一電極16和第二電極17可以通過噴涂或絲網(wǎng)印刷方式布置到所述導電低輻射鍍膜15上。為了更好地使第一電極16和第二電極17與所述導電低輻射鍍膜15電連接,優(yōu)選所述第一電極16和第二電極17的電阻率小于3×10-5Ω*cm,更優(yōu)選小于9×10-6Ω*cm;對于所述第一電極16和第二電極17的材料,進一步選自銀、銅、鋁、鎢、鉑、鋅的金屬或金屬合金,或是含銀納米顆粒的油墨,或是含銀納米顆粒的油墨和金屬的組合,例如含銀納米顆粒的油墨和銅箔,在導電低輻射鍍膜上絲網(wǎng)印刷兩道含銀納米顆粒的油墨,再將兩片銅箔粘貼到兩道含銀納米顆粒的油墨上形成第一電極和第二電極;對于第一電極16和第二電極17的厚度,優(yōu)選小于150μm,甚至小于100μm,最優(yōu)選小于80μm。
為了消除可能產(chǎn)生的重影現(xiàn)象,更好地實現(xiàn)抬頭顯示復合隔熱和電加熱功能,本發(fā)明還同時提供一種如圖2所示的技術(shù)方案,在第三表面沉積有導電低輻射鍍膜15時,在所述導電低輻射鍍膜15上布置用于連接外部電源(未示出)的第一電極16和第二電極17,所述導電低輻射鍍膜15包括至少一個銀層和至少兩個介質(zhì)層,每個銀層位于兩個介質(zhì)層之間,最遠離內(nèi)玻璃板11的介質(zhì)層包括至少一個子層,其中最遠離內(nèi)玻璃板11的子層為氮化物或氮氧化物層;這樣就在內(nèi)玻璃板11的兩個表面同時沉積了能夠反射P偏振光的透明納米膜14以及能夠反射紅外線和結(jié)合兩個電極進行電加熱的導電低輻射鍍膜15,從而實現(xiàn)抬頭顯示復合隔熱和電加熱功能。同時,為了使主像與副像之間的副像角足夠小,甚至達到主副像基本重合的效果,使目視角度難以感知重影的存在,優(yōu)選所述內(nèi)玻璃板11的厚度小于2.0mm,例如1.8mm,更優(yōu)選小于或等于1.6mm,例如1.6mm、1.4mm。
具體地,對透明納米膜14和導電低輻射鍍膜15進行同步優(yōu)化設計,使抬頭顯示復合隔熱和電加熱功能的效果更好,優(yōu)選設置:
當所述導電低輻射鍍膜15包括一個銀層時,所述銀層的幾何厚度不大于14nm,所述高折射率層的幾何厚度為80~250nm,所述低折射率層的幾何厚度為50~130nm;
當所述導電低輻射鍍膜15包括兩個銀層時,兩個銀層的幾何厚度總和不大于25nm,所述高折射率層的幾何厚度為50~150nm,所述低折射率層的幾何厚度為50~130nm;
當所述導電低輻射鍍膜15包括三個銀層時,三個銀層的幾何厚度總和不大于41nm,所述高折射率層的幾何厚度為80~180nm,所述低折射率層的幾何厚度為50~130nm;
本發(fā)明通過上述針對不同銀層膜系情況下的具體優(yōu)化設計,使得所述透明納米膜14對P偏振光具有較高的反射率,且滿足同時沉積有透明納米膜14和導電低輻射鍍膜15的夾層玻璃的可見光透過率大于70%的要求。
如圖4A所示,本發(fā)明在內(nèi)玻璃基板11的第三表面上沉積單銀膜系導電低輻射鍍膜15包括第一介質(zhì)層151A、第一銀層152A、第二介質(zhì)層153A,第二介質(zhì)層153A作為最遠離內(nèi)玻璃板11的介質(zhì)層;如圖4B所示,本發(fā)明在內(nèi)玻璃基板11的第三表面上沉積雙銀膜系導電低輻射鍍膜15包括第一介質(zhì)層151B、第一銀層152B、第二介質(zhì)層153B、第二銀層154B和第三介質(zhì)層155B,第三介質(zhì)層155B作為最遠離內(nèi)玻璃板11的介質(zhì)層;如圖4C所示,本發(fā)明在內(nèi)玻璃基板11的第三表面上沉積三銀膜系導電低輻射鍍膜15包括第一介質(zhì)層151C、第一銀層152C、第二介質(zhì)層153C、第二銀層154C、第三介質(zhì)層155C、第三銀層156C和第四介質(zhì)層157C,第四介質(zhì)層157C作為最遠離內(nèi)玻璃板11的介質(zhì)層;圖4A中的第二介質(zhì)層153A、圖4B中的第三介質(zhì)層155B和圖4C中的第四介質(zhì)層157C分別包括兩個子層,其中最遠離內(nèi)玻璃板11的子層104A、104B和104C為氮化物或氮氧化物層;但不限于此,圖4A中的第二介質(zhì)層153A、圖4B中的第三介質(zhì)層155B或圖4C中的第四介質(zhì)層157C還可以包括三個甚至更多個子層,但其最遠離外玻璃板12的子層104A、104B或104C為氮化物或氮氧化物層;若圖4A中的第二介質(zhì)層153A、圖4B中的第三介質(zhì)層155B或圖4C中的第四介質(zhì)層157C為單層,則圖4A中的第二介質(zhì)層153A、圖4B中的第三介質(zhì)層155B或圖4C中的第四介質(zhì)層157C為氮化物或氮氧化物層;也就是說導電低輻射鍍膜15中最遠離內(nèi)玻璃板11的子層為氮化物或氮氧化物層,該氮化物或氮氧化物層直接與第一電極16和第二電極17相接觸,由于氮化物或氮氧化物層具有較致密的結(jié)構(gòu)特性,因此有利于導電低輻射鍍膜15在后續(xù)玻璃基板熱處理過程中得到有效保護,避免熱處理過程中電極材料的有機成分的揮發(fā)或擴散而對導電低輻射鍍膜15造成破壞,比如產(chǎn)生導電低輻射鍍膜15的局部變色和電加熱時出現(xiàn)熱點等問題;優(yōu)選地,所述氮化物或氮氧化物層選自硅、鋁、鋯、硼、銥、鈦、鎳的氮化物或者氮氧化物中的至少一種;相應地,致密的氮化物或氮氧化物層形成保護的同時也會對電流的通過產(chǎn)生一定的不利影響,為了更好地使所述導電低輻射鍍膜15與第一電極16和第二電極17電連接,優(yōu)選所述氮化物或氮氧化物層的厚度不大于10nm,更優(yōu)選為5~10nm。
本發(fā)明所述的第一電極16和第二電極17與外部電源(未示出)的正負極連通后,可將電流引入所述導電低輻射鍍膜15中,從而使其發(fā)熱而根據(jù)需要對夾層玻璃進行加熱,接入電壓≤36V的外部電源能夠提供400~1500W/m2的功率密度,為了使夾層玻璃具有理想的除霜除霧效果,通常要求通電后功率密度大于500W/m2,并且所述導電低輻射鍍膜具有較低的方阻值,優(yōu)選所述導電低輻射鍍膜的方阻值小于3.5Ω/□,更優(yōu)選小于2.5Ω/□。
在本發(fā)明中,所述第一電極16和第二電極17可以通過噴涂或絲網(wǎng)印刷方式布置到所述導電低輻射鍍膜15上。為了更好地使第一電極16和第二電極17與所述導電低輻射鍍膜15電連接,優(yōu)選所述第一電極16和第二電極17的電阻率小于3×10-5Ω*cm,更優(yōu)選小于9×10-6Ω*cm;對于所述第一電極16和第二電極17的材料,進一步選自銀、銅、鋁、鎢、鉑、鋅的金屬或金屬合金,或是含銀納米顆粒的油墨,或是含銀納米顆粒的油墨和金屬的組合,例如含銀納米顆粒的油墨和銅箔,在導電低輻射鍍膜上絲網(wǎng)印刷兩道含銀納米顆粒的油墨,再將兩片銅箔粘貼到兩道含銀納米顆粒的油墨上形成第一電極和第二電極;對于第一電極16和第二電極17的厚度,優(yōu)選小于150μm,甚至小于100μm,最優(yōu)選小于80μm。
為了更詳細地說明和更具說服力地支撐本發(fā)明的技術(shù)方案,現(xiàn)列舉一些實施例進行詳細闡述。以下實施案例所制成的夾層玻璃經(jīng)過以下方案進行相關(guān)參數(shù)分析:
1、投影光源為LED背光的TFT-LCD投影機,調(diào)節(jié)投影機位置和出射光的角度入射方向,采用投影機記錄顯示圖像參數(shù);
2、采用λ950設備對夾層玻璃板的光譜進行分析(光譜指標根據(jù)ISO13837:2008;顏色指標根據(jù)CIE 1976,D65光源10度角);
3、采用歐姆表測試第一電極和第二之間的電阻值;
4、如圖5所示,夾層玻璃加熱區(qū)面積約0.95平方米,第一電極16和第二電極17之間距離約0.8m,兩個電極之間施加一定的電壓,通電30分鐘,常溫(25℃)下通過熱成像儀記錄夾層玻璃表面的加熱溫度。
實施例1
以福耀集團生產(chǎn)的厚度為2.1mm的鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃為基片,經(jīng)過切割、磨邊、洗滌和烘干等工序后,進入磁控濺射鍍膜線進行鍍膜沉積,兩片玻璃基板上分別沉積如表1中的透明納米膜和包括兩個銀層的導電低輻射(Low-E)鍍膜,其中導電低輻射(Low-E)鍍膜完成后再通過絲網(wǎng)印刷的方式在導電低輻射鍍膜上布置兩道含銀納米顆粒的油墨,再經(jīng)過200~250℃將油墨烘干后,將兩片玻璃基板進行配片,按照汽車玻璃高溫成型工藝成型后,將兩塊銅箔粘貼到兩道含銀納米顆粒的油墨上形成第一電極和第二電極,接著中間夾上一片0.76毫米厚度的PVB膠片,經(jīng)過合片的初壓和高壓工藝以及其他工序的附件安裝制成本發(fā)明所述的夾層玻璃板。
表1:實施例1和對比例1~2的夾層玻璃結(jié)構(gòu)及性能
從表1中可以看出,對比例1是在第四面沉積透明納米膜的同時沉積常規(guī)雙銀低輻射鍍膜,常規(guī)雙銀低輻射鍍膜具有良好的紅外線反射能力,然而在與第四表面的透明納米膜結(jié)合后,使得夾層玻璃出現(xiàn)諸多缺點:1、抬頭顯示(HUD)的主像/副像亮度比值偏低,導致目視可見明顯的藍色重影;2、雙銀低輻射鍍膜的最外層采用氧化物膜層,其耐熱性能差,并且電極材料附近的雙銀低輻射鍍膜出現(xiàn)局部變色現(xiàn)象。而對比例2制備的導電低輻射鍍膜與實施例1所制備的導電低輻射鍍膜的方阻值相同,但對比例2中導電低輻射鍍膜的最外層的氮化物或氮氧化物層較厚,不利于電流通過,與實施例1相比,電極間電阻偏大,導致加熱功率下降,影響加熱效率,例如施加電壓≤34V時,加熱功率密度和通電一定時間后玻璃表面溫度難以滿足實際要求。本發(fā)明提供的實施例1經(jīng)過優(yōu)化設計后的雙銀膜系導電低輻射鍍膜與透明納米膜結(jié)合后的夾層玻璃,不僅具有合格的紅外線反射能力,以及光譜、顏色指標均滿足要求,而且在抬頭顯示(HUD)圖像中重影目視不可見,同時還具有良好的電加熱效果,能夠滿足實際加熱要求。
實施例2~4
以福耀集團生產(chǎn)的厚度為1.6mm的鈉鈣硅酸鹽浮法玻璃為基片,經(jīng)過切割、磨邊、洗滌和烘干等工序后,進入磁控濺射鍍膜線進行鍍膜沉積,在1.6mm的玻璃基板的兩個表面上分別沉積如表2中的透明納米膜和導電低輻射鍍膜,其中導電低輻射(Low-E)鍍膜完成后再通過絲網(wǎng)印刷的方式在導電低輻射鍍膜上布置兩道含銀納米顆粒的油墨,再經(jīng)過200~250℃將油墨烘干后,將兩片玻璃基板進行配片,按照汽車玻璃高溫成型工藝成型后,將兩塊銅箔粘貼到兩道含銀納米顆粒的油墨上形成第一電極和第二電極,接著中間夾上一片0.76毫米厚度的PVB膠片,經(jīng)過合片的初壓和高壓工藝以及其他工序的附件安裝制成本發(fā)明所述的夾層玻璃板。
表2:實施例3~5和對比例3的夾層玻璃結(jié)構(gòu)及性能
從表2可以看出,對比例2和實施例2的膜層結(jié)構(gòu)完全一致,唯一不同之處在于實施例2的內(nèi)玻璃板的厚度為1.6mm,通過降低玻璃基板的厚度小于2.0mm使得原本目視可分辨的第三面沉積的導電低輻射鍍膜形成的副像難以被分辨,一定程度上消除了重影現(xiàn)象。
同時,實施例2~4均采用1.6mm的玻璃基板作為內(nèi)玻璃板,在其第四表面沉積透明納米膜,并在第三表面分別沉積雙銀膜系、單銀膜系和三銀膜系的導電低輻射鍍膜,經(jīng)過優(yōu)化設計后的沉積有雙銀膜系、單銀膜系和三銀膜系的夾層玻璃,不僅具有合格的紅外線反射能力,以及光譜、顏色指標均滿足要求,而且在抬頭顯示(HUD)圖像中重影目視不可見,同時還具有良好的電加熱效果,能夠滿足實際加熱要求。
以上內(nèi)容對本發(fā)明所述的能夠電加熱的抬頭顯示夾層玻璃進行了具體描述,并且列舉了多個實施例進行說明,但是本發(fā)明不受以上描述的具體實施方式內(nèi)容和相應實施例的局限,所以凡依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)要點進行的任何改進、等同修改和替換等,均屬于本發(fā)明保護的范圍。