本發(fā)明涉及一種晶圓的磊晶反應(yīng)器及其陶瓷星盤,尤其涉及一種用于形成三五族化合物半導(dǎo)體晶圓的磊晶工藝的反應(yīng)器及該反應(yīng)器中的組件。
背景技術(shù):
在LED芯片的工藝中,是先利用磊晶工藝來在晶圓上形成磊晶層,再通過后續(xù)的鍍膜、黃光、蝕刻等等工藝來制得所需的LED芯片。以有機(jī)金屬氣象沉積(Metal-organic Chemical Vapor Deposition,MOCVD)方法作為磊晶工藝為例,磊晶反應(yīng)器底部設(shè)有熱源,晶圓置于承載組件上并設(shè)于熱源上方,磊晶反應(yīng)器頂部設(shè)有氣體入口,將有機(jī)金屬以氣態(tài)通過氣體入口通入磊晶反應(yīng)器中,并通過熱源將晶圓加熱,以使有機(jī)金屬氣體在晶圓上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)而沉積形成磊晶層。
現(xiàn)有技術(shù)的磊晶反應(yīng)器中,承載組件包含有設(shè)于中央的星盤及周圍的晶圓載盤,熱源是于反應(yīng)器中加熱至1200℃以上,來均勻的提供晶圓足夠的反應(yīng)熱量。在磊晶工藝中,磊晶層會(huì)沉積形成在反應(yīng)器中的所有部位,故除了再晶圓上方形成磊晶層外,在承載組件上面也會(huì)形成磊晶層,因此,必需適當(dāng)?shù)那宄苊庥绊懲蟮墓に?;然而在清除磊晶層的過程中,會(huì)對承載組件使用化學(xué)蝕刻、噴砂、高溫烘烤等方式,清潔的過程中,雖然可以去除磊晶層,但也無法避免承載組件的消耗。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種晶圓的磊晶反應(yīng)器及其中央星盤,是針對使用于磊晶反應(yīng)器中的星盤加以研究,來降低使用者的成本損耗,以延長承載組件的使用壽命;另外藉由材料特性的不同,可改變磊晶環(huán)境,進(jìn)而提升產(chǎn)品品質(zhì)。
為達(dá)到上述的發(fā)明目的,本發(fā)明所采用的技術(shù)手段為設(shè)計(jì)一種磊晶反應(yīng)器 的中央星盤,其包括:
一外環(huán)件,其中央成形有一容置孔且為陶瓷材料所制;
一內(nèi)環(huán)件,其可分離地設(shè)于該外環(huán)件的容置孔中,其中該內(nèi)環(huán)件中央成形有一通孔,內(nèi)環(huán)件與外環(huán)件為相異材料所制。
進(jìn)一步而言,本發(fā)明設(shè)計(jì)了一種包含前述的中央星盤的磊晶反應(yīng)器,其包括:
一殼體;
一蓋體,其可分離地設(shè)于該殼體上方;
一承載組件,其設(shè)于該殼體及該蓋體中,該承載組件包含有前述的中央星盤、多個(gè)周緣蓋板及一上蓋板;該中央星盤設(shè)于該殼體的上表面的中央部位;所述周緣蓋板設(shè)于該殼體的上表面,且環(huán)繞排列于該中央星盤的周緣,各周緣蓋板與該中央星盤圍繞形成多個(gè)容置空間,各容置空間中設(shè)有至少一晶圓載板;該上蓋板的兩側(cè)面分別設(shè)有一固持件及一固定件,該固持件設(shè)于上蓋板與蓋體的下表面之間。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于,內(nèi)環(huán)件是以陶瓷材料所制,則使得因?yàn)榍鍧嵍斐傻膿p耗降到最低,又利用中央星盤的內(nèi)、外環(huán)件為可分離式的設(shè)計(jì),并使用不同的材料,以減少材料的損耗,進(jìn)而達(dá)到降低制造成本的目的。同時(shí),藉由陶瓷的材料特性,會(huì)影響工藝的環(huán)境,進(jìn)而對于優(yōu)化磊晶品質(zhì),有一定程度的改善。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述,但不作為對本發(fā)明的限定。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的磊晶反應(yīng)器的立體外觀圖;
圖2為本發(fā)明的星盤的元件分解圖;
圖3為本發(fā)明的星盤的上視圖;
圖4為本發(fā)明的星盤的側(cè)視剖視圖;
圖5為本發(fā)明的周緣蓋板的立體外觀圖;
圖6為本發(fā)明的擋片的立體外觀圖;
圖7為本發(fā)明的固持件的立體外觀圖;
圖8為本發(fā)明的磊晶反應(yīng)器的另一實(shí)施例立體外觀圖;
圖9為本發(fā)明的星盤與磊晶反應(yīng)器的熱源的實(shí)施狀態(tài)圖。
其中,附圖標(biāo)記
10殼體 20蓋體
30承載組件 31中央星盤
311外環(huán)件 311a容置孔
311b肋條 312內(nèi)環(huán)件
312a通孔 32周緣蓋板
321肋條 33、33A晶圓載板
34上蓋板 341固持件
342固定件 35、35A容置空間
36擋片 40熱源
41高溫區(qū) 42低溫區(qū)
具體實(shí)施方式
以下配合附圖及本發(fā)明的實(shí)施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段。
請參閱圖1所示,本發(fā)明的磊晶反應(yīng)器包含有一殼體10、一蓋體20及一承載組件30。
所述殼體10中央設(shè)有熱源,所述蓋體20可分離地設(shè)于殼體10上方,以在反應(yīng)進(jìn)行時(shí)覆蓋殼體10,蓋體20設(shè)有氣體出口以供通入氣體于殼體10中。
所述承載組件30設(shè)于殼體10及蓋體20中,承載組件30包含有一中央星盤31、多個(gè)周緣蓋板32、多個(gè)晶圓載板33、及一上蓋板34。
請參閱圖1至圖4所示,該中央星盤31設(shè)于殼體10的上表面的中央部位,中央星盤31包含有一外環(huán)件311及一內(nèi)環(huán)件312,外環(huán)件311中央成形有一容置孔311a,該外環(huán)件311的周緣徑向延伸成形有數(shù)個(gè)呈放射狀排列的肋條311b,該內(nèi)環(huán)件312設(shè)于該外環(huán)件311的容置孔311a中,內(nèi)環(huán)件312中央成形有一通孔312a。在一實(shí)施例中該外環(huán)件311與該內(nèi)環(huán)件312可為相同或不同材質(zhì),該外環(huán)件311可為陶瓷材料所制,如氧化鋁(Al2O3)、氮化鋁(AlN)、碳化硅(SiC)等,內(nèi)環(huán)件312可為石英材料所制,如二氧化硅(SiO2)
請參閱圖1及圖5所示,所述周緣蓋板32設(shè)于殼體10的上表面,并環(huán)繞排列于中央星盤31的外圍,周緣蓋板32為陶瓷材料所制,各周緣蓋板32具有一徑向延伸的肋條321,各周緣蓋板32的肋條321對應(yīng)連接于外環(huán)件的一肋條311b,相鄰的周緣蓋板32的肋條321與外環(huán)件311的相鄰肋條311b圍繞形成一容置空間35。在較佳實(shí)施例中,周緣蓋板32與外環(huán)件311相鄰但未接觸,故周緣蓋板32的肋條321與外環(huán)件311的相鄰肋條311b之間具有間隙。
請參閱圖1所示,所述晶圓載板33分別設(shè)于相對應(yīng)的容置空間35中,各容置空間35中排列設(shè)置有一個(gè)晶圓載板33,依據(jù)不同的晶圓尺寸而晶圓載板33上可對應(yīng)設(shè)置有不同數(shù)量的晶圓淺槽。請參閱圖1所示,在一實(shí)施例中,各晶圓載板33中設(shè)有七個(gè)晶圓淺槽;請參閱圖8所示,在一實(shí)施例中,各晶圓載板33A中設(shè)有一個(gè)晶圓淺槽。當(dāng)進(jìn)行磊晶反應(yīng)時(shí),晶圓是置放于晶圓載板33的晶圓淺槽中以進(jìn)行反應(yīng),而為了避免未置放晶圓的晶圓淺槽在反應(yīng)時(shí)亦形成磊晶層,故可置放如圖6所示的擋片36(dummy wafer)于閑置的晶圓淺槽上,以阻止磊晶反應(yīng)于閑置的晶圓淺槽上產(chǎn)生,擋片36可為陶瓷材料所制。
請參閱圖1及圖7所示,所述上蓋板34的兩側(cè)面分別設(shè)有一固持件341及一固定件342,以將上蓋板34夾持固定于蓋體20的下表面,該固持件341設(shè)于上蓋板34與蓋體20的下表面之間,該固持件341和固定件342可為陶瓷材料制成。
請配合參閱圖9所示,當(dāng)進(jìn)行磊晶反應(yīng)時(shí),熱源40由對應(yīng)于外環(huán)件31的下方處提供熱能,由于熱源40的外圍為溫度較低的低溫區(qū)41,而內(nèi)圈為溫度較高的高溫區(qū)42,故為防止中央星盤31受熱沖擊而破損,故設(shè)計(jì)上將中央星盤31分為陶瓷的外環(huán)件311及石英的內(nèi)環(huán)件312,外環(huán)件311在設(shè)計(jì)上避免跨越熱源40的高溫區(qū)42和低溫區(qū)41。具體而言,若熱源40的高溫區(qū)42的外徑為520mm,而低溫區(qū)41的外徑為250mm,則內(nèi)環(huán)件312的外徑為259mm以跨越高溫區(qū)42和低溫區(qū)41。
進(jìn)一步而言,外環(huán)件311采用陶瓷材料制成可抗清洗以延長其使用壽命,并且改良工藝;而內(nèi)環(huán)件312采用較耐高溫?zé)釠_擊材料(例如石英)制成,故可更進(jìn)一步降低替換成本。
再者,周緣蓋板32及固持件341采用陶瓷材料制成,亦可延長期使用壽 命。
當(dāng)然,本發(fā)明還可有其他多種實(shí)施例,在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下,熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形,但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。