專利名稱：提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種測量方法及結構，尤其是一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構。
背景技術：
目前，在酸法制取氧化鋁生產(chǎn)過程中，溶出工段的密度測量至關重要，由于工藝物料的特殊性，工藝管道均采用鋼管內襯聚四氟乙烯材料，而且管道直徑大多為DN50甚至更小，根據(jù)核輻射密度計的安裝要求，要想在如此小直徑的管道上測量密度并獲得足夠的精度，通常的做法是:采用“Z”型管安裝，以擴大管徑，安裝方式如圖2所示。但是，對于內襯聚四氟乙烯材料的鋼管來說，由于受加工工藝的限制，并不能加工成如圖1所示的“Z”型管，而只能采用兩直角彎頭組裝成“Z”型管，如圖3所示。但是，這樣的結構由于“Z”型管中間有兩片法蘭，再加之兩直角彎頭的彎曲半徑不能太小，出現(xiàn)中間法蘭干擾，安裝困難，擴大直徑無法準確計算等問題，同樣不能獲得足夠的精度。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是，提供一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構，它能有效提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度，并且安全簡單，以克服現(xiàn)有技術的不足。本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的:提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，并將核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的豎直段的兩側，以增加測量通道的直徑，實現(xiàn)提高測量精度的目的。提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構，包括工藝管道、核輻射密度計的點源、探測器，工藝管道為U字形結構，點源及探測器在工藝管道的上部設有基板底座，點源及探測器分別處于基板底座的兩端。與現(xiàn)有技術相比，由于采用上述技術方案，本發(fā)明采用將溶出工段的工藝管道設置為U字形結構，使核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的兩側，從而使測量通道的管徑增加一倍，而工藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本發(fā)明不僅適用于內襯聚四氟管道安裝，而且對于類似的小管徑且不能加工成標準“Z”型管的情況均可適用。本發(fā)明的方法簡單，容易實施，所采用的結構容易制作，成本低廉，使用效果好。


圖1為本發(fā)明的結構示意 圖2為現(xiàn)有技術的理想結構示意 圖3為現(xiàn)有技術的實際結構示意 附圖標記說明:1-工藝管道、2-點源2、3_探測器、4-基板底座、5-法蘭。
具體實施例方式本發(fā)明的實施例:提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，并將核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的豎直段的兩側(及U字形的上部)，以增加測量通道的直徑，實現(xiàn)提高測量精度的目的。提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構如圖1所示，包括工藝管道1、核輻射密度計的點源2、探測器3，工藝管道I為U字形結構，點源2及探測器3在工藝管道I的上部設有基板底座4，點源2及探測器3分別處于基板底座4的兩端。如圖1所示，由于采用上述結構，工藝管道I的連接法蘭5處于U字形的底部，這樣法蘭5就處于點源2與探 測器3之間，從而不影響核輻射密度計的測量。
權利要求
1.一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，其特征在于:將溶出工段的工藝管道設置為U字形，并將核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的豎直段的兩側，以增加測量通道的直徑，實現(xiàn)提高測量精度的目的。
2.一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構，包括工藝管道(I)、核輻射密度計的點源(2)、探測器(3)，其特征在于:工藝管道(I)為U字形結構，點源(2)及探測器(3 )在工藝管道(I)的上部設有基板底座(4)，點源(2 )及探測器(3 )分別處于基板底座(4)的兩端。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，并將核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的豎直段的兩側，從而使測量通道的管徑增加一倍，而工藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本發(fā)明不僅適用于內襯聚四氟管道安裝，而且對于類似的小管徑且不能加工成標準“Z”型管的情況均可適用。本發(fā)明的方法簡單，容易實施，所采用的結構容易制作，成本低廉，使用效果好。
文檔編號C01F7/02GK103185685SQ201110443308
公開日2013年7月3日 申請日期2011年12月27日 優(yōu)先權日2011年12月27日
發(fā)明者黃其楊 申請人:貴陽鋁鎂設計研究院有限公司