沉積用掩模制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明的實(shí)施方式涉及沉積用掩模制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，作為有源發(fā)光型顯示元件，作為平板式顯示器之一的有機(jī)發(fā)光顯示裝置不僅具有視角寬、對(duì)比度優(yōu)異的優(yōu)點(diǎn)，而且還具有能夠通過低電壓驅(qū)動(dòng)、呈輕量的扁平狀并且響應(yīng)速度快的優(yōu)點(diǎn)，由此作為下一代顯示元件而備受矚目。
[0003]這種發(fā)光元件根據(jù)形成發(fā)光層的物質(zhì)劃分為無機(jī)發(fā)光元件和有機(jī)發(fā)光元件，并且相比于無機(jī)發(fā)光元件，有機(jī)發(fā)光元件具有亮度、響應(yīng)速度等特性優(yōu)秀、能夠以彩色顯示等的優(yōu)點(diǎn)，因此對(duì)其的開發(fā)近來廣為進(jìn)行。
[0004]有機(jī)發(fā)光顯示裝置通過真空沉積法形成有機(jī)膜和/或電極。然而，隨著有機(jī)發(fā)光顯示裝置逐漸被高分辨率化，沉積工藝中所用的掩模的開放式狹縫(open slit)的寬度逐漸變窄并且其散布也需要被進(jìn)一步減小。
[0005]此外，為了制造高分辨率有機(jī)發(fā)光顯示裝置，需要減少或去除陰影現(xiàn)象(shadoweffect) ο為此，目前在襯底與掩模緊貼的狀態(tài)下進(jìn)行沉積工藝，并且正在興起用于改善襯底與掩模的附接度的技術(shù)的開發(fā)。
[0006]上述的【背景技術(shù)】是發(fā)明人為得出本發(fā)明的實(shí)施方式而擁有的技術(shù)信息或者在得出過程中習(xí)得的技術(shù)信息，并不一定是在本發(fā)明的實(shí)施方式的申請(qǐng)前已公開于一般公眾的公知技術(shù)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的實(shí)施方式提供沉積用掩模制造方法。
[0008]本發(fā)明的一實(shí)施方式公開沉積用掩模制造方法，涉及使用激光對(duì)基材進(jìn)行加工以加工出沉積用掩模的圖案狹縫的沉積用掩模制造方法，其特征在于，通過改變照射到基材的激光的截面，加工圖案狹縫。
[0009]在本實(shí)施方式中，圖案狹縫的側(cè)壁相對(duì)于基材中照射有激光的一面的傾角可以大于90度。
[0010]在本實(shí)施方式中，可以包括以將激光的第一截面照射到布置成與發(fā)射激光的發(fā)射部面對(duì)的基材的一面的方式向基材照射激光以形成貫穿基材的基準(zhǔn)孔的步驟；以及以將激光的第二截面至第η截面(η為3以上的自然數(shù))依次照射到基材的方式向與基準(zhǔn)孔相鄰的區(qū)域照射激光以在基材中形成圖案狹縫的步驟，其中，第二截面至第η截面具有比激光的第一截面的直徑小的直徑。
[0011]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，第二截面至第η截面具有依次減小的直徑。
[0012]在本實(shí)施方式中，在基材中形成圖案狹縫的步驟可以包括向與基準(zhǔn)孔相鄰的區(qū)域依次照射激光的第二截面至第η截面以從基材的一面?zhèn)瘸鳛橐幻娴南鄬?duì)面的另一面?zhèn)纫来涡纬傻谝欢瞬畈恐恋趍端差部(m為2以上的自然數(shù))的步驟。
[0013]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，第一端差部至第m端差部具有依次變小的面積。
[0014]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，通過改變n，向與基準(zhǔn)孔相鄰的區(qū)域照射激光的第η截面。
[0015]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，選擇激光的第一截面至第η截面中的一個(gè)的方法為調(diào)節(jié)基材與發(fā)射激光的發(fā)射部的距離。
[0016]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，調(diào)節(jié)基材與發(fā)射部間的距離的方法為使得發(fā)射部和支承基材的支承部中的任意一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。
[0017]在本實(shí)施方式中，形成在基材的一面?zhèn)鹊幕鶞?zhǔn)孔的第一直徑可以形成為比形成在基材的與一面相對(duì)的另一面的基準(zhǔn)孔的第二直徑大。
[0018]在本實(shí)施方式中，可以包括以將激光的第η截面(η為I以上的自然數(shù))照射到基材的一面的方式向基材照射激光以在基材中形成第m基準(zhǔn)槽(m為I以上的自然數(shù))的第一步驟；以將激光的具有比第η截面的直徑小的直徑的第η+1截面照射到基材的方式向與第m基準(zhǔn)槽相鄰的區(qū)域照射激光的第二步驟；以及反復(fù)執(zhí)行第一步驟和第二步驟以在基材中形成圖案狹縫的步驟。
[0019]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，第m基準(zhǔn)槽具有與第m+1基準(zhǔn)槽的面積相對(duì)應(yīng)的面積。
[0020]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，第m基準(zhǔn)槽具有比第m+1基準(zhǔn)槽的面積大的面積。
[0021]在本實(shí)施方式中，第二步驟可以包括向與第m基準(zhǔn)槽相鄰的區(qū)域照射激光的第η+1截面以從基材的一面?zhèn)瘸鳛橐幻娴南鄬?duì)面的另一面?zhèn)刃纬傻赑槽(P為I以上的自然數(shù))的步驟。
[0022]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，第P槽具有比第ρ+1槽的面積大的面積。
[0023]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，通過改變?chǔ)牵蚺c第m基準(zhǔn)槽相鄰的區(qū)域照射激光的第η+1截面。
[0024]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，選擇激光的第η截面和第η+1截面中的一種的方法為改變基材與發(fā)射激光的發(fā)射部的距離。
[0025]在本實(shí)施方式中，其特征可以在于，調(diào)節(jié)基材與發(fā)射部間的距離的方法為使得支承基材的支承部和發(fā)射部中的任意一個(gè)相對(duì)于另一個(gè)進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。
[0026]通過以下附圖、權(quán)利要求范圍和發(fā)明的詳細(xì)說明，除了上述以外的其他方面、特征、優(yōu)點(diǎn)將變得明確。
[0027]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，沉積用掩模制造方法可以提高沉積用掩模的加工速度。
【附圖說明】
[0028]圖1a和圖1b是示出在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的沉積用掩模制造方法中使用的發(fā)射部以及從發(fā)射部照射的激光的多種變形例的視圖。
[0029]圖2a至圖2h是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的沉積用掩模制造方法的剖視圖。
[0030]圖3a至圖3i是示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的沉積用掩模制造方法的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031]本發(fā)明可以實(shí)施多種變型并且可以具有多種實(shí)施方式，并且旨在附圖中示出特定實(shí)施方式并對(duì)其進(jìn)行詳細(xì)說明。通過參照結(jié)合附圖詳細(xì)說明的實(shí)施方式，本發(fā)明的效果和特征以及實(shí)現(xiàn)其的方法將變得明確。然而，本發(fā)明并不限于下面所公開的實(shí)施方式，而是可以多種形態(tài)實(shí)現(xiàn)。在下面的實(shí)施方式中，“第一”、“第二”等的措辭并不具有限定的含義，而是以將一個(gè)構(gòu)成要素與其他構(gòu)成要素區(qū)分開的目的使用。此外，除非文中另有明確指示，否則單數(shù)的表述包括復(fù)數(shù)的表述。此外，“包括”或“具有”等的措辭是指說明書中所述記載的特征或構(gòu)成要素的存在，而不是提前排除一個(gè)以上的其他特征或構(gòu)成要素的附加可能性。
[0032]此外，為了說明的便利，附圖中構(gòu)成要素的大小可以被夸大或被縮小。例如，為了說明的便利，附圖中所示的各構(gòu)件的大小和厚度被任意示出，因此本發(fā)明并不一定限定于圖中所示。此外，當(dāng)能夠以不同的方式實(shí)現(xiàn)某些實(shí)施方式時(shí)，特定的工藝可以按照與所說明的順序不同的順序執(zhí)行。例如，連續(xù)說明的兩個(gè)工藝可以實(shí)質(zhì)上同時(shí)執(zhí)行，也可以按照與所說明的順序相反的順序進(jìn)行。
[0033]下面，將參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明，并且在參照附圖進(jìn)行說明時(shí)，將對(duì)相同或?qū)?yīng)的構(gòu)成要素賦予相同的附圖標(biāo)記，并且將省略對(duì)其的重復(fù)描述。
[0034]在對(duì)根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的沉積用掩模的制造方法進(jìn)行說明之前，首先將參照?qǐng)D1a和圖1b對(duì)照射到被加工前的沉積用掩模的基材的激光的特性進(jìn)行說明。
[0035]圖1a和圖1b是示出在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的沉積用掩模制造方法中使用的發(fā)射部以及從發(fā)射部照射的激光的多種變形例的視圖。
[0036]參照?qǐng)Dla，發(fā)射部10a可以放射出側(cè)面具有一定曲率的拱(arch)形的激光L。此處，附圖標(biāo)記LpI^LjP L n+1分別作為激光L的第一截面、第二截面、第η截面、第η+1截面，它們表示具有彼此不同直徑的激光L的截面面積。
[0037]照射到基材200的激光L的直徑可以通過調(diào)節(jié)發(fā)射部10a與基材200之間的距離H來進(jìn)行選擇。例如，當(dāng)將發(fā)射部10a與基材200的距離調(diào)節(jié)為與附圖標(biāo)記氏相當(dāng)時(shí)，可以向基材200照射具有第一截面L1的激光L，而當(dāng)調(diào)節(jié)為與H2相當(dāng)時(shí)，可以向基材200照射具有第二截面L2的激光L。
[0038]因此，通過調(diào)節(jié)發(fā)射部10a與基材200之間的距離H，可以向基材200照射多種大小(即，具有第η截面Ln(η為I以上的自然數(shù)))的激光L。
[0039]另外，除了上述的調(diào)節(jié)發(fā)射部10a與基材200之間的距離的方法以外，還可以有多種用于向基材200照射具有多種直徑的激光L的方法。
[0040]作為一個(gè)示例，參照?qǐng)Dlb，作為能夠在激光聚焦的焦點(diǎn)位置中改變激光的直徑的方法，可以在靜止的狀態(tài)下使用作為供激光通過的光學(xué)儀器的部件諸如變焦透鏡單元和聚焦單元以及其他多種變換光大小的部件來改變激光L的直徑、而無需調(diào)節(jié)發(fā)射部10b