一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一宗磁控濺射薄鍍膜設(shè)備，特別是一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具。
【背景技術(shù)】
[0002]在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力的作用，而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向，在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時(shí)，經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過(guò)熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。由于磁控濺射鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高。磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為制備各種功能薄膜的重要手段。磁控濺射技術(shù)已在集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝和光學(xué)鍍膜等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。
[0003]磁控濺射鍍膜工藝中，鍍膜工藝主要受以下幾個(gè)參數(shù)的影響:工藝氣體的壓強(qiáng)的大小及在真空室中分布情況、濺射功率的大小、靶材表面和襯底表面距離，即靶基距，大小影響。通常磁控濺射設(shè)備中的靶基距為固定值。
[0004]在磁控濺射鍍膜中，靶材隨著濺射時(shí)間的延長(zhǎng)，靶材表面被等離子體轟擊，濺射出靶材表面，靶材被消耗，靶基距變大。靶基距的變化導(dǎo)致在相同工藝條件下得到沉積薄膜的性能發(fā)生改變。要得到功能一致的薄膜，就需要來(lái)調(diào)整靶基距的距離。需要根據(jù)鍍膜的工藝進(jìn)行，調(diào)節(jié)靶基距的距離。使用不同的靶材，對(duì)于靶基距的要求也不盡相同。需要一種能夠自由調(diào)節(jié)靶基距的夾具來(lái)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為此，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜設(shè)備中固定靶基距的缺陷，提出一種能自由調(diào)節(jié)靶基距的磁控濺射設(shè)備使用夾具。
[0006]本發(fā)明的目的由以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0007]本發(fā)明提供一種可自由調(diào)節(jié)高度的夾具，特別是一種磁控濺射鍍膜的襯底固定夾具，包括固定襯底的基片架I和片架2 ;在基片架I上表面有三個(gè)帶有標(biāo)尺6的導(dǎo)軌3，三個(gè)導(dǎo)軌3在基片架I表面上成120°三等分基片架I ;導(dǎo)軌3通過(guò)M3螺栓10與帶有內(nèi)螺紋的基片架I連接。帶有內(nèi)螺紋的滑片4 一端通過(guò)寬口螺栓11與導(dǎo)軌3固定在一起；滑片4與滑竿7的一端通過(guò)銷(xiāo)釘12連接為一體，而滑竿7的另一端通過(guò)銷(xiāo)釘12與套筒8連接為一體；通過(guò)銷(xiāo)釘12的連接，可以實(shí)現(xiàn)滑竿7與滑片4和套筒8連接之間的轉(zhuǎn)動(dòng)功能；套筒8與帶有內(nèi)螺紋的中心軸13通過(guò)M4螺栓14連接在一起；滑片4在導(dǎo)軌3內(nèi)的移動(dòng)，通過(guò)滑片4上指針5與導(dǎo)軌3上標(biāo)尺6來(lái)確定滑片4在導(dǎo)軌上的位置及滑片在導(dǎo)軌3上移動(dòng)的距離，來(lái)調(diào)節(jié)片架2和磁控濺射靶材表面的距離，實(shí)現(xiàn)不同靶基距的鍍膜要求；根據(jù)對(duì)不同尺寸的襯底和不同形狀的襯底的鍍膜要求，選擇合適配套的片架2，通過(guò)基片架下部有三個(gè)銷(xiāo)釘9將片架2和基片架I連接為一體。
[0008]本發(fā)明有益效果是:通過(guò)該設(shè)備對(duì)靶基距進(jìn)行調(diào)整，方便快捷，而且不用調(diào)整靶材的高度，這樣就不存在因調(diào)整靶材高度導(dǎo)致破壞真空密封后而重新密封的問(wèn)題。
【附圖說(shuō)明】
[0009]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚的理解，下面根據(jù)本發(fā)明的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0010]圖1是本發(fā)明一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具結(jié)構(gòu)圖；
[0011]圖中附圖標(biāo)記表示為:1_基片架，2-片架，3-導(dǎo)軌，4-滑片，5-指針，6-標(biāo)尺，7-滑竿，8-套筒，9-銷(xiāo)釘，10-M3螺栓，11-寬口螺栓，12-銷(xiāo)釘，13-中心軸，14-M4螺栓。
【具體實(shí)施方式】
[0012]本發(fā)明提供一種磁控濺射的固定夾具，包括基片架I和片架2。在調(diào)節(jié)靶基距距離時(shí)，需要同時(shí)調(diào)節(jié)三個(gè)導(dǎo)軌3中的移動(dòng)滑片4，三個(gè)導(dǎo)軌中3的滑片4都移動(dòng)相同標(biāo)尺6位置。通過(guò)寬口螺栓11將滑片4固定在導(dǎo)軌3中。通過(guò)滑片4固定位置的不同，從而實(shí)現(xiàn)靶基距的調(diào)整。根據(jù)不同的工藝要求，調(diào)整到需要的導(dǎo)軌位置，實(shí)現(xiàn)靶基距的方便調(diào)整。
[0013]本固定夾具的工作過(guò)程為:通過(guò)銷(xiāo)釘9將片架2從基片架I取下；松開(kāi)套筒8與中心軸13的固定M4螺栓，將固定夾具從中心軸13取下；將固定夾具放在一平面位置上，松開(kāi)導(dǎo)軌3上的寬口螺栓11將滑片4與導(dǎo)軌3解開(kāi)。將其中一個(gè)滑片4移動(dòng)到需要標(biāo)尺6的位置，通過(guò)寬口螺栓11將滑片4和導(dǎo)軌3固定一起，依次重復(fù)該動(dòng)作，將其它兩個(gè)滑片4和導(dǎo)軌3固定一起。將三個(gè)滑片4與導(dǎo)軌3固定完成后，將基片架I上的套筒8與中心軸13通過(guò)M4螺栓14固定在一起，這樣就完成靶基距的調(diào)節(jié)。最后將鍍膜的襯底選擇合適的片架2上，將片架2通過(guò)銷(xiāo)釘9與基片架I連接在一起，最終實(shí)現(xiàn)最佳的工藝鍍膜時(shí)的靶基距。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，包括固定襯底的基片架I和片架2，其特征在于:在基片架I上表面固定安裝三個(gè)帶有標(biāo)尺6的導(dǎo)軌3，滑片4可在導(dǎo)軌3內(nèi)移動(dòng)，通過(guò)調(diào)節(jié)滑片4在導(dǎo)軌3內(nèi)的移動(dòng)距離，實(shí)現(xiàn)調(diào)整靶基距。
2.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌3帶有標(biāo)尺6，且標(biāo)尺6的位置與導(dǎo)軌3—致。
3.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌3，中間為U字形貫通，靠近圓心一端有跑道型開(kāi)口。
4.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:滑片4安裝于導(dǎo)軌3U字形貫通內(nèi)，寬口螺栓11將移動(dòng)滑片4和導(dǎo)軌3活動(dòng)連接一起，滑片4可在導(dǎo)軌3內(nèi)移動(dòng)。
5.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述的滑片4帶有指針5，指針5處于滑片4的中心線(xiàn)上。通過(guò)指針5來(lái)確定滑片4在導(dǎo)軌3上移動(dòng)的精確距離。
6.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌3，兩兩之間的夾角為120°分布，三等分固定安裝于所述基片架I表面。
7.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:所述導(dǎo)軌3內(nèi)端口處于一個(gè)同心圓上，使得三個(gè)帶有標(biāo)尺6的導(dǎo)軌3在基片架I上的分布相同。
8.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:滑片4與拉動(dòng)滑片4的滑竿7 —端通過(guò)銷(xiāo)釘12連接，能自由調(diào)節(jié)滑片4與拉桿7的角度。
9.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:滑竿7與套筒8通過(guò)銷(xiāo)釘12連接，能自由調(diào)節(jié)滑竿7與套筒8的角度。
10.如權(quán)利I所述的磁控濺射鍍膜襯底固定夾具，其特征在于:套筒8與具有內(nèi)螺紋的中心軸13通過(guò)螺栓14連接。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種可自由調(diào)節(jié)高度的夾具，特別是一種磁控濺射鍍膜的襯底固定夾具，包括固定襯底的基片架1和片架2，片架2與基片架1通過(guò)銷(xiāo)釘9連接，在基片架1上表面有三個(gè)帶有標(biāo)尺6的導(dǎo)軌3，通過(guò)滑片4在導(dǎo)軌3中移動(dòng)的距離，實(shí)現(xiàn)中心軸13下端與基片架1背面距離的變化，從而實(shí)現(xiàn)靶基距的距離的變化，實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)靶基距的目的。
【IPC分類(lèi)】C23C14-50, C23C14-35
【公開(kāi)號(hào)】CN104561921
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410836254
【發(fā)明人】李曉東
【申請(qǐng)人】張家港恩達(dá)通訊科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2014年12月24日