專利名稱：記憶合金元件熱循環(huán)處理的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及形狀記憶合金元件的訓(xùn)練——熱循環(huán)處理所使用的設(shè)備。
為使形狀記憶合金元件獲得所需形狀記憶特性，應(yīng)將該合金的馬氏體與母相之間的轉(zhuǎn)變溫度控制在特定范圍內(nèi)，這就要對(duì)形狀記憶合金元件進(jìn)行時(shí)效和熱循環(huán)處理(即訓(xùn)練)，目前，熱循環(huán)處理多是手工操作，勞動(dòng)強(qiáng)度大、產(chǎn)品合格率低，制約了大批量生產(chǎn)。
本實(shí)用新型的目的是提供一種用于形狀記憶合金元件熱循環(huán)處理的設(shè)備。
本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的在機(jī)架的一端安裝水平氣缸，水平氣缸的活塞桿與可在機(jī)架軌道上移動(dòng)的小車相連，小車上裝著垂直氣缸。由電磁閥控制氣缸活塞桿的動(dòng)作，使裝在垂直氣缸活塞桿頭部的夾具帶著記憶合金元件輪流地浸入機(jī)架下并排放置的加熱槽或冷卻槽內(nèi)的液體介質(zhì)中進(jìn)行熱處理，全過(guò)程由電氣柜自動(dòng)控制。
與已知技術(shù)相比較，本設(shè)備有如下優(yōu)點(diǎn)1、大幅度降低了操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度；2、電氣柜按預(yù)定的工藝規(guī)范自動(dòng)控制設(shè)備進(jìn)行熱循環(huán)處理，提高了記憶合金元件的產(chǎn)品合格率，而且其質(zhì)量穩(wěn)定；3、能適用于對(duì)記憶合金元件的不同加載方式和不同的熱循環(huán)處理溫度、不同的熱循環(huán)處理次數(shù)；4、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、制造容易；5、上述的優(yōu)點(diǎn)使本設(shè)備利于實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)；
6、可利用本設(shè)備對(duì)記憶合金元件的使用壽命進(jìn)行檢測(cè)。
以下結(jié)合附圖詳述本實(shí)用新型。
附


圖1設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2電氣柜的一種控制線路圖。
附
圖1示出本設(shè)備主要由冷卻槽〔1〕、加熱槽〔2〕、機(jī)架〔3〕、小車〔6〕、垂直氣缸〔7〕、水平氣缸〔8〕、電磁閥和電氣柜(圖中未示出)組成；機(jī)架〔3〕為框架結(jié)構(gòu)。其上設(shè)有小車〔6〕水平移動(dòng)的軌道及行程開(kāi)關(guān)，機(jī)架〔3〕上的一端安裝著水平氣缸〔8〕，其活塞桿與小車〔6〕相連并設(shè)有觸頭，小車〔6〕上安裝著垂直氣缸〔7〕及行程開(kāi)關(guān)。其活塞桿上亦設(shè)有觸頭，電磁閥分別與垂直氣缸〔7〕、水平氣缸〔8〕相連并直接控制氣缸活塞的動(dòng)作，電磁閥為具有記憶效應(yīng)的二位五通雙電控電磁閥；機(jī)架〔3〕兩頭的立柱之間并排放置著電控溫度的加熱槽〔2〕和冷卻槽〔1〕，冷卻槽〔1〕位于靠水平氣缸〔8〕的一方；垂直氣缸〔7〕的活塞桿頭部設(shè)有安裝夾具〔5〕的連接結(jié)構(gòu)，如孔、螺紋、小槽、掛勾等；水平氣缸〔8〕活塞的全行程(即小車〔6〕向左或向右移動(dòng)的距離)等于加熱槽〔2〕至冷卻槽〔1〕的中心距離，垂直氣缸〔7〕活塞的全行程等于與活塞桿相連的夾具〔5〕上的記憶合金元件〔4〕上下移動(dòng)所需之長(zhǎng)度(即元件〔4〕向下可浸入槽中，左右移動(dòng)不觸及槽邊)；自動(dòng)控制熱循環(huán)處理全過(guò)程的電氣柜中設(shè)有記錄和控制循環(huán)次數(shù)的計(jì)數(shù)器。
以下結(jié)合附
圖1和附圖2來(lái)說(shuō)明本設(shè)備的使用狀況首先將待處理的形狀記憶合金元件例如螺旋彈簧〔4〕裝于夾具〔5〕上，對(duì)彈簧〔4〕施加一定的夾緊力(也可根據(jù)需要使其處于自由狀態(tài))，再將夾具〔5〕與垂直氣缸〔7〕的活塞桿頭部連接；冷卻槽〔1〕和加熱槽〔2〕中分別盛有液體介質(zhì)，電氣柜上已按工藝要求預(yù)置好介質(zhì)溫度、恒溫時(shí)間、循環(huán)次數(shù)等參數(shù)。小車〔6〕處在機(jī)架〔3〕的左端，其上的垂直氣缸〔7〕正對(duì)下方加熱槽〔2〕的中心(也可根據(jù)需要讓小車〔6〕處在機(jī)架〔3〕的右端，其上的垂直氣缸〔7〕正對(duì)下方冷卻槽〔1〕的中心)；按電氣柜上的啟動(dòng)按鈕SB1，電磁閥控制垂直氣缸〔7〕的活塞桿下降，記憶合金元件螺旋彈簧〔4〕浸入加熱槽〔2〕中的介質(zhì)內(nèi)。觸頭觸及下部的行程開(kāi)關(guān)SQ4時(shí)，繼電器KT1開(kāi)始記時(shí)；達(dá)到設(shè)定時(shí)間后，電磁閥控制垂直氣缸〔7〕的活塞桿上升，觸頭觸到上部的行程開(kāi)關(guān)SQ3時(shí)，水平氣缸〔8〕的活塞桿將小車〔6〕拉向右方，觸頭觸到右端的行程開(kāi)關(guān)SQ2，電磁閥控制垂直氣缸〔7〕的活塞桿下降，記憶合金元件螺旋彈簧〔4〕浸入冷卻槽〔1〕的介質(zhì)中。觸頭觸及下部的行程開(kāi)關(guān)SQ4時(shí)，時(shí)間繼電器KT1開(kāi)始計(jì)時(shí)；達(dá)到設(shè)定時(shí)間后，電磁閥控制垂直氣缸〔7〕的活塞桿上升，觸頭觸到上部的行程開(kāi)關(guān)SQ3時(shí)，水平氣缸〔8〕的活塞桿推動(dòng)小車〔6〕左行，小車〔6〕回到初始位置，觸頭觸到左端的行程開(kāi)關(guān)SQ1，又進(jìn)行第二次循環(huán)；每循環(huán)一次記數(shù)器PC記錄一次，如此循環(huán)達(dá)到預(yù)定的次數(shù)時(shí)，電氣柜的電鈴報(bào)警。控制電路自行停止工作。
電氣柜中設(shè)有時(shí)間繼電器KT2，用來(lái)保證當(dāng)垂直氣缸〔7〕的活塞桿上升到觸頭觸及上部的行程開(kāi)關(guān)SQ3的瞬間，只能由水平氣缸〔8〕的活塞桿帶動(dòng)小車〔6〕向左或向右運(yùn)動(dòng)；水平氣缸〔8〕的排氣口連接的快速排氣閥是為利于氣缸活塞的快速動(dòng)作，以保證左、右移動(dòng)時(shí)的速度符合工藝的時(shí)間要求。
權(quán)利要求1.一種用于形狀記憶合金元件熱循環(huán)處理的設(shè)備主要由冷卻槽[1]、加熱槽[2]、機(jī)架[3]、小車[6]、垂直氣缸[7]、水平氣缸[8]、電磁閥和電氣柜組成，機(jī)架[3]為框架結(jié)構(gòu)，其上設(shè)有小車[6]水平移動(dòng)的軌道，冷卻槽[1]和加熱槽[2]并排放置在機(jī)架[3]兩頭的立柱之間，其特征在于水平氣缸[8]安裝在機(jī)架[3]上的一端。其活塞桿與小車[6]相連。小車[6]上安裝著垂直氣缸[7]，控制氣缸活塞動(dòng)作的電磁閥分別與垂直氣缸[7]、水平氣缸[8]相連，在熱處理過(guò)程中，水平氣缸[8]的活塞帶動(dòng)小車[6]輪流地向左、向右移動(dòng)，使垂直氣缸[7]輪流地位于正對(duì)下方加熱槽[2]、冷卻槽[1]的中心，從而在垂直氣缸[7]的活塞桿上、下時(shí)帶著裝于其上的夾具[5]將記憶合金元件[4]輪流地浸入裝有液體介質(zhì)的加熱槽[2]、冷卻槽[1]內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱循環(huán)處理設(shè)備，其特征在于分別與垂直氣缸〔7〕、水平氣缸〔8〕相連的電磁閥為具有記憶效應(yīng)的二位五通雙電控電磁閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱循環(huán)處理設(shè)備，其特征在于自動(dòng)控制熱循環(huán)處理全過(guò)程的電氣柜中設(shè)有記錄和控制循環(huán)次數(shù)的計(jì)數(shù)器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熱循環(huán)處理設(shè)備，其特征在于水平氣缸〔8〕的排氣口裝有快速排氣閥。
專利摘要一種用于形狀記憶合金元件熱循環(huán)處理的設(shè)備具有垂直氣缸(7)裝在小車(6)上，小車與水平氣缸(8)相連并可在機(jī)架(3)的軌道上移動(dòng)，連于氣缸的二位五通雙電控電磁閥控制氣缸活塞的動(dòng)作，在垂直氣缸正對(duì)下方的加熱槽(2)或冷卻槽(1)時(shí)，連于垂直氣缸活塞桿上的夾具(5)帶著記憶合金元件(4)輪流浸入加熱或冷卻槽中進(jìn)行熱處理，自動(dòng)控制熱循環(huán)處理的電氣柜中設(shè)有計(jì)數(shù)器。本設(shè)備勞動(dòng)強(qiáng)度低、產(chǎn)品處理的合格率高穩(wěn)定性好，適用于大批量生產(chǎn)。
文檔編號(hào)C21D9/00GK2106835SQ9123174
公開(kāi)日1992年6月10日 申請(qǐng)日期1991年12月25日 優(yōu)先權(quán)日1991年12月25日
發(fā)明者趙克定, 鄧小昆, 彭智虎 申請(qǐng)人:湖南省機(jī)械研究所