本發(fā)明屬于拋光設(shè)備,具體涉及對(duì)金剛石晶體拋光的設(shè)備或裝置,尤其涉及一種用于金剛石晶體的拋光設(shè)備及其拋光方法。
背景技術(shù):
1、金剛石晶體作為重要的半導(dǎo)體材料,在制造過(guò)程中,經(jīng)常會(huì)受到機(jī)械手等工具的撞擊,導(dǎo)致金剛石晶體邊緣產(chǎn)生應(yīng)力集中,容易發(fā)生破裂。通過(guò)倒角處理,可以消除這些尖銳的邊緣,減少應(yīng)力集中,從而提高金剛石晶體的機(jī)械強(qiáng)度和使用壽命。
2、由于金剛石晶體的硬度較大,在倒角過(guò)程中,打磨粒由于磨損而發(fā)生破碎,導(dǎo)致打磨粒韌角鈍化,強(qiáng)度降低,從而使打磨粒更容易形成碎屑,在后續(xù)倒角時(shí),會(huì)劃傷金剛石晶體,在倒角處形成損傷層。在后續(xù)工藝中,倒角處的損傷層容易殘留雜物,在熱處理時(shí),會(huì)將雜物附著在金剛石晶體表面。
3、相關(guān)技術(shù)中通過(guò)對(duì)金剛石晶體的倒角進(jìn)行拋光,以解決損傷層帶來(lái)的問(wèn)題。在對(duì)金剛石晶體的倒角進(jìn)行拋光時(shí),拋光液內(nèi)的水分會(huì)逐漸蒸發(fā),因此,需要頻繁將拋光設(shè)備停機(jī),對(duì)拋光布重新進(jìn)行浸潤(rùn),從而導(dǎo)致拋光液用量增加,而且每次浸潤(rùn)時(shí),多余的拋光液會(huì)沿旋轉(zhuǎn)臺(tái)流下,造成拋光液的浪費(fèi)。
4、因此,如何減少拋光布內(nèi)拋光液的水分流失,提高拋光液的利用率是目前亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。
5、需要說(shuō)明的是,本背景技術(shù)部分中公開(kāi)的以上信息僅用于理解本申請(qǐng)構(gòu)思的背景技術(shù),因此,并不認(rèn)為上述描述構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)的信息。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本公開(kāi)實(shí)施例至少提供一種用于金剛石晶體的拋光設(shè)備及其拋光方法。
2、第一方面,本公開(kāi)實(shí)施例提供了一種用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,包括:
3、支撐架;
4、旋轉(zhuǎn)臺(tái),其轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在所述支撐架上,且所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的頂面開(kāi)設(shè)有多個(gè)同心設(shè)置的圓環(huán)狀蓄液槽;
5、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),其設(shè)置在所述支撐架上,且用于驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng);
6、拋光布,其設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)上,且用于金剛石晶體的倒角拋光;
7、在拋光時(shí),所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),所述圓環(huán)狀蓄液槽中的拋光液在離心力的作用下,向外飛濺,從而對(duì)圓環(huán)狀蓄液槽正對(duì)的拋光布持續(xù)浸潤(rùn)。
8、在一種可選的實(shí)施方式中,所述圓環(huán)狀蓄液槽的寬度為l;
9、待拋光的金剛石晶體的厚度為h;
10、其中,l≥1.5h;
11、在拋光時(shí),將金剛石晶體傾斜靠近拋光布,抵持并擠壓位于任一圓環(huán)狀蓄液槽上方的拋光布,以使金剛石晶體的倒角以及對(duì)應(yīng)處的拋光布陷入到圓環(huán)狀蓄液槽中,以增加金剛石晶體的倒角與所述拋光布接觸的穩(wěn)定性。
12、在一種可選的實(shí)施方式中,所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的底面設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)軸;
13、所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接在所述支撐架上;
14、所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸的軸心與所述圓環(huán)狀蓄液槽的圓心重合。
15、在一種可選的實(shí)施方式中,所述用于金剛石晶體的拋光設(shè)備還包括供液管;所述供液管設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的上方;
16、在拋光之前,通過(guò)所述供液管將拋光液輸送至所述拋光布的表面,以對(duì)拋光布進(jìn)行浸潤(rùn)。
17、在一種可選的實(shí)施方式中,在拋光液對(duì)所述拋光布浸潤(rùn)完畢之后,剩余的拋光液從所述拋光布滲透并流入所述圓環(huán)狀蓄液槽中,從而減少拋光液的流失。
18、在一種可選的實(shí)施方式中,所述圓環(huán)狀蓄液槽內(nèi)設(shè)置有升降環(huán);
19、所述升降環(huán)的尺寸與所述圓環(huán)狀蓄液槽的尺寸適配;
20、所述用于金剛石晶體的拋光設(shè)備還包括抬升件;
21、所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的側(cè)壁沿直徑方向開(kāi)設(shè)有與每個(gè)所述圓環(huán)狀蓄液槽連通的插孔;
22、所述抬升件設(shè)置在所述插孔內(nèi),且在將所述抬升件從所述插孔內(nèi)抽出時(shí),將每個(gè)所述圓環(huán)狀蓄液槽內(nèi)的升降環(huán)快速抬升,完成對(duì)所述拋光布上殘留物的沖洗。
23、在一種可選的實(shí)施方式中,所述抬升件包括:
24、插入桿;
25、抬升部,其設(shè)置在所述插入桿插入所述插孔的一端;
26、所述抬升部包括抬升斜面以及插入斜面;
27、在所述插入桿插入所述插孔時(shí),所述抬升部通過(guò)所述插入斜面的導(dǎo)向依次從每個(gè)升降環(huán)的下方插入,直至抬升部插入到旋轉(zhuǎn)臺(tái)的圓心處;
28、在所述插入桿從所述插孔拔出時(shí),所述抬升部的抬升斜面依次從內(nèi)向外將對(duì)應(yīng)圓環(huán)狀蓄液槽內(nèi)的升降環(huán)抬起,從而以波浪的形式對(duì)拋光布進(jìn)行清洗,完成對(duì)所述拋光布上殘留物的沖洗。
29、在一種可選的實(shí)施方式中,所述拋光布粘接在所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的頂面上;
30、在粘接時(shí),通過(guò)外力摁壓拋光布以將拋光布鼓起部分的空氣排入到圓環(huán)狀蓄液槽中。
31、在一種可選的實(shí)施方式中,所述支撐架上設(shè)置有多個(gè)輔助支撐輪;
32、多個(gè)輔助支撐輪沿所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)的周向設(shè)置,且用于支撐所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)。
33、第二方面,本公開(kāi)實(shí)施例提供了一種應(yīng)用于如上述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備的拋光方法,所述拋光方法包括:
34、將拋光液輸送至拋光布上;
35、等待拋光液將拋光布浸潤(rùn)并流入圓環(huán)狀蓄液槽中;
36、通過(guò)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng);
37、將金剛石晶體傾斜靠近拋光布,抵持并擠壓位于任一圓環(huán)狀蓄液槽上方的拋光布,直至金剛石晶體的倒角以及對(duì)應(yīng)處的拋光布陷入到圓環(huán)狀蓄液槽中;
38、轉(zhuǎn)動(dòng)金剛石晶體,完成拋光。
39、本發(fā)明的有益效果是,本用于金剛石晶體的拋光設(shè)備及其拋光方法通過(guò)在旋轉(zhuǎn)臺(tái)頂面設(shè)置多個(gè)同心設(shè)置的圓環(huán)狀蓄液槽,旋轉(zhuǎn)臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),所述圓環(huán)狀蓄液槽中的拋光液在離心力的作用下,向外飛濺,從而對(duì)圓環(huán)狀蓄液槽正對(duì)的拋光布持續(xù)浸潤(rùn),保持拋光布中水分的充足,從而延緩拋光布中拋光液內(nèi)水分的流逝,降低出現(xiàn)結(jié)晶析出的概率,同時(shí),提高了對(duì)拋光液的利用效率,減少了拋光液的浪費(fèi),從而降低了拋光的成本。
40、本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說(shuō)明書中闡述,并且,部分地從說(shuō)明書中變得顯而易見(jiàn),或者通過(guò)實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)在說(shuō)明書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。
41、為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,本文特舉較佳實(shí)施例,并配合所附附圖,作詳細(xì)說(shuō)明如下。
1.一種用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,包括:
2.如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
3.如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
4.如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
5.如權(quán)利要求4所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
6.如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
7.如權(quán)利要求6所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
8.如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
9.如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備,其特征在于,
10.一種應(yīng)用于如權(quán)利要求1所述的用于金剛石晶體的拋光設(shè)備的拋光方法,其特征在于,所述拋光方法包括: