1.一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
步驟一、將難熔金屬基體依次進(jìn)行打磨、酸洗和脫脂處理；所述酸洗處理中采用的酸液由氫氟酸溶液和濃硝酸溶液按體積比(6～7):(3～4)混合而成，所述氫氟酸溶液的質(zhì)量濃度為40％～60％，所述濃硝酸溶液的質(zhì)量濃度為65％～68％；
步驟二、在步驟一中經(jīng)打磨、酸洗和脫脂處理后的難熔金屬基體表面制備硅化物涂層；
步驟三、在惰性氣體保護(hù)下對(duì)步驟二中所述硅化物涂層進(jìn)行激光重熔處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，步驟一中所述難熔金屬為鈮、鈮合金、鉭或鉭合金。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，所述鈮合金的牌號(hào)為C103、Nb521或Nb521C；所述鉭合金的牌號(hào)為T(mén)a10W或Ta12W。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，步驟二中所述硅化物涂層為Si-Cr-Ti涂層及改性的Si-Cr-Ti涂層、Si-Cr-Fe涂層及改性的Si-Cr-Fe涂層、Si-Mo-Zr涂層及改性的Si-Mo-Zr涂層或Si-Mo-W涂層及改性的Si-Mo-W涂層；所述硅化物涂層的厚度不小于70μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，步驟三中所述激光重熔處理的激光功率為350W～450W，束斑直徑為0.2mm～1mm，掃描速度為500mm/min～600mm/min。
6.按照權(quán)利要求5所述的一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，所述激光重熔處理中采用的激光器為YAG激光器，YAG激光器的輸出功率為400W；在進(jìn)行激光重熔處理時(shí)YAG激光器的焦距為5cm～15cm，束斑尺寸為0.4mm～0.8mm，電流為140A～200A，脈寬為20ms～40ms，頻率為30Hz，掃描速度為540mm/min～580mm/min。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種激光重熔改善難熔金屬表面硅化物涂層表面質(zhì)量的方法，其特征在于，步驟三中所述惰性氣體為氬氣，所述氬氣的流量為5L/min～15L/min。