本發(fā)明屬于離線鍍膜設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域：
，尤其涉及一種清理裝置、使用該清理裝置的磁控濺射鍍膜機及利用該磁控濺射鍍膜機進行玻璃鍍膜的玻璃鍍膜方法。
背景技術(shù)：
：近年來，建筑對節(jié)能、風(fēng)格等方面越來越多樣化，鍍膜玻璃在建筑領(lǐng)域中的使用越來越普遍。目前，磁控濺射成膜已經(jīng)成為一種新型的物理氣相成膜方式，磁控濺射鍍膜機在玻璃鍍膜的生產(chǎn)中應(yīng)用也越來越廣泛。磁控濺射鍍膜是指在真空條件下，將涂層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊靶材，產(chǎn)生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術(shù)。但是，在設(shè)備進行玻璃鍍膜的過程中，會出現(xiàn)濺射物堆積，將濺射通道堵塞，導(dǎo)致部分陰極輝光被擋不能濺射于產(chǎn)品之上，造成玻璃出現(xiàn)色道造成報廢。有時也會導(dǎo)致側(cè)板下方濺射物堆積，并向下延伸，當(dāng)延伸達到一定長度后，在玻璃通過鍍膜通道時，會造成玻璃膜面劃傷，造成產(chǎn)品報廢。傳統(tǒng)做法是對設(shè)備通入大氣，將設(shè)備拆開，把側(cè)板取出進行清理，整個清理過程需要1～3天，離線鍍膜機屬于貴重高投入設(shè)備，停機清理所導(dǎo)致的時間成本較高，因此，必須盡可能減少回氣次數(shù)，縮短清理時間。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明的目的在于提供一種清理裝置，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中在清理磁控濺射鍍膜機內(nèi)濺射物的過程中，由于停機時間過長，導(dǎo)致清理成本較高的技術(shù)問題。本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的：一種清理裝置，用于清理磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機包括用于發(fā)射濺射原子的靶陰極、用于運輸玻璃的傳送裝置以及設(shè)置在所述靶陰極和所述傳送裝置之間并形成有供所述濺射原子通過的濺射通道的一對擋板，所述濺射原子在所述擋板靠近所述傳送裝置一側(cè)形成堆積濺射物，所述清理裝置包括安裝在所述傳送裝置上并沿所述傳送裝置的傳送方向相對于所述擋板移動的傳送主體以及固定于所述傳送主體上并位于所述傳送主體與所述擋板之間以剝離所述堆積濺射物的彈性件。進一步地，所述彈性件的數(shù)量為至少2塊，且各所述彈性件沿所述傳送裝置的傳送方向間隔設(shè)置，沿所述傳送裝置的傳送方向間隔設(shè)置的相鄰兩所述彈性件在所述傳送裝置的寬度方向錯開設(shè)置。進一步地，所述彈性件呈長條板狀，所述彈性件的兩端安裝于所述傳送主體上，所述彈性件兩端與所述傳送主體連接位置的距離小于所述彈性件的長度以使所述彈性件中間部位朝向所述擋板一側(cè)隆起。進一步地，所述彈性件包括沿所述傳送主體的傳送方向上分布的固定端和調(diào)節(jié)端，利用第一緊固件將所述固定端固定安裝于所述傳送主體上，調(diào)節(jié)第二緊固件在所述傳送主體的位置并將所述調(diào)節(jié)端固定于所述傳送主體上以調(diào)節(jié)所述彈性件朝向所述擋板一側(cè)隆起的高度。進一步地，所述傳送主體上設(shè)有沿所述傳送主體傳送方向延伸并與所述調(diào)節(jié)端相對應(yīng)的長孔，所述第二緊固件穿過所述調(diào)節(jié)端并鎖緊于所述長孔中。進一步地，所述傳送主體的厚度為5～15mm，所述傳送主體上表面的最大波形偏差及弓形偏差不大于2mm，所述傳送主體下表面的最大波形偏差及弓形偏差不大于2mm。本發(fā)明還提供了一種磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機包括用于發(fā)射濺射原子的靶陰極、用于運輸玻璃的傳送裝置、設(shè)置在所述靶陰極和所述傳送裝置之間并形成有供所述濺射原子通過的濺射通道的一對擋板，所述濺射原子在所述擋板靠近所述傳送裝置一側(cè)形成堆積濺射物，所述磁控濺射鍍膜機還包括上述清理裝置。進一步地，各所述擋板包括固定在所述鍍膜機內(nèi)壁的固定部以及沿所述固定部朝向所述靶陰極和所述傳送裝置之間延伸的延伸部。進一步地，所述延伸部遠離所述固定部的一端具有面向所述傳送裝置的斜面。本發(fā)明還提供了一種玻璃鍍膜方法，所述玻璃鍍膜方法包括以下步驟：提供磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機為上述磁控濺射鍍膜機；鍍膜階段，在所述磁控濺射鍍膜機入口處的所述傳送裝置上放置玻璃，啟動所述傳送裝置以及所述磁控濺射鍍膜機；所述靶陰極發(fā)射所述濺射原子，一部分所述濺射原子穿過所述濺射通道并附著在所述玻璃表面，在玻璃表面形成膜層，另一部分所述濺射原子附著在所述擋板上靠近所述傳送裝置的一側(cè)形成堆積濺射物；清理階段，將所述清理裝置安裝于所述磁控濺射鍍膜機入口處的所述傳送裝置上，待所述傳送裝置將所述清理裝置傳送至所述磁控濺射鍍膜機出口處時，完成清理。本發(fā)明相對于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果是：本發(fā)明提供的清理裝置通過將清理裝置安裝在傳送裝置上，清理裝置隨著傳送裝置的運轉(zhuǎn)進入磁控濺射鍍膜機內(nèi)部，清理裝置在經(jīng)過擋板和傳送裝置之間時，彈性件會隨著清理裝置的移動，將擋板上的堆積濺射物剝離掉，該清理裝置在清理堆積濺射物時，只需在玻璃鍍膜的過程中將清理裝置安裝在傳送裝置上，待清理裝置由磁控濺射鍍膜機入口被傳送到出口時，即可完成清理，無需停機，更不需要拆機，大大降低了清理成本。附圖說明為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術(shù)方案，下面將對本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面所描述的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本發(fā)明實施例提供的清理裝置的主視圖；圖2是本發(fā)明實施例提供的清理裝置的俯視圖；圖3是本發(fā)明實施例提供的磁控濺射鍍膜機的第一狀態(tài)圖；圖4是本發(fā)明實施例提供的磁控濺射鍍膜機的第二狀態(tài)圖。附圖標(biāo)記說明：10清理裝置20傳送裝置11傳送主體30濺射通道111長孔40擋板12彈性件41固定部121固定端42延伸部122調(diào)節(jié)端421斜面13第一緊固件50堆積濺射物14第二緊固件60靶陰極具體實施方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“長度”、“寬度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，“多個”的含義是兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關(guān)系。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本發(fā)明進行進一步詳細(xì)說明。請參見圖1至圖4，本發(fā)明實施例提供的清理裝置10用于清理磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機包括用于發(fā)射濺射原子的靶陰極60、用于運輸玻璃的傳送裝置20以及設(shè)置在所述靶陰極60和所述傳送裝置20之間并形成有供所述濺射原子通過的濺射通道30的一對擋板40，所述濺射原子在所述擋板40靠近所述傳送裝置20一側(cè)形成堆積濺射物50，所述清理裝置10包括安裝在所述傳送裝置20上并沿所述傳送裝置20的傳送方向相對于所述擋板40移動的傳送主體11以及固定于所述傳送主體11上并位于所述傳送主體11與所述擋板40之間以剝離所述堆積濺射物50的彈性件12。所述彈性件12由硬質(zhì)耐高溫彈性材料制成，所述傳送主體11的材料為平板玻璃、金屬板材或工程塑料中的一種，所述傳送裝置20可以是帶傳動、鏈傳動或者多條并列的輥子傳動等，只要能將玻璃以及清理裝置10由磁控濺射鍍膜機的入口傳送至出口即可。所述清理裝置10與所述傳送裝置20的安裝方式可以是通過螺釘、螺栓等緊固件固定的方式，也可以不使用緊固件，直接將清理裝置10放置在傳送裝置20上，通過摩擦力帶動清理裝置10移動。本發(fā)明實施例通過將清理裝置10安裝在傳送裝置20上，清理裝置10隨著傳送裝置20的運轉(zhuǎn)進入磁控濺射鍍膜機內(nèi)部，清理裝置10在經(jīng)過擋板40和傳送裝置20之間時，彈性件12會隨著清理裝置10的移動，將擋板40上的堆積濺射物50剝離掉，該清理裝置10在清理堆積濺射物50時，只需在玻璃鍍膜的過程中將清理裝置10安裝在傳送裝置20上，待清理裝置10由磁控濺射鍍膜機入口被傳送到出口時，即可完成清理，無需停機，更不需要拆機，大大降低了清理成本。請參見圖1和圖2，進一步地，所述彈性件12的數(shù)量為至少2塊，且各所述彈性件12沿所述傳送裝置20的傳送方向間隔設(shè)置，沿所述傳送裝置20的傳送方向間隔設(shè)置的相鄰兩所述彈性件12在所述傳送裝置20的寬度方向錯開設(shè)置。具體地，各所述彈性件12在所述傳送主體11的移動方向上呈多排排列，且相鄰兩排的彈性件12在所述傳送主體11的寬度方向錯開設(shè)置，本發(fā)明實施例中各彈性件12在傳送主體11上的排布方式，使得各彈性件12在清理堆積濺射物50時，并不會同時接觸擋板40，而是不同排的彈性件12分批接觸擋板40并清理擋板40上對應(yīng)區(qū)域的堆積濺射物50，由于降低了同時接觸擋板40的彈性件12數(shù)量，因此，也降低了清理裝置10移動的阻力，避免了在清理過程中，由于阻力過大，將清理裝置10擋在擋板40和傳送裝置20之間，無法前行。請參見圖1和圖2，進一步地，所述彈性件12呈長條板狀，所述彈性件12的兩端安裝于所述傳送主體11上，所述彈性件12兩端與所述傳送主體11連接位置的距離小于所述彈性件12的長度以使所述彈性件12中間部位朝向所述擋板40一側(cè)隆起。由于彈性件12兩端與傳送主體11安裝的距離小于彈性件12的長度，因此，彈性件12的中間部位會受到來自兩端的擠壓力而向上隆起，具體地，彈性件12的兩端的固定距離應(yīng)使得彈性件12中間部位隆起的高度能夠抵達擋板40上堆積濺射物50所處的位置。請參見圖1和圖2，進一步地，所述彈性件12包括沿所述傳送主體11的傳送方向上分布的固定端121和調(diào)節(jié)端122，利用第一緊固件13將所述固定端121固定安裝于所述傳送主體11上，調(diào)節(jié)第二緊固件14在所述傳送主體11的位置并將所述調(diào)節(jié)端122固定于所述傳送主體11上以調(diào)節(jié)所述彈性件12朝向所述擋板40一側(cè)隆起的高度。由于不同型號的磁控濺射鍍膜機中擋板40與傳送裝置20之間的距離不同，因此，考慮到清理裝置10的通用性，將彈性件12隆起的高度設(shè)置為可調(diào)節(jié)，使得一個清理裝置10可以適用于不同型號的磁控濺射鍍膜機。可以理解的，固定端121和調(diào)節(jié)端122在傳送主體11上安裝的距離越近，彈性件12中間部位隆起的高度越高。請參見圖1和圖2，進一步地，所述傳送主體11上設(shè)有沿所述傳送主體11傳送方向延伸并與所述調(diào)節(jié)端122相對應(yīng)的長孔111，所述第二緊固件14穿過所述調(diào)節(jié)端122并鎖緊于所述長孔111中。具體地，所述第二緊固件14為貫穿所述長孔111設(shè)置并將所述調(diào)節(jié)端122壓緊在所述傳送主體11上的螺栓，本實施例中，通過調(diào)節(jié)緊固件在所述長孔111中的位置來調(diào)整固定端121和調(diào)節(jié)端122之間的距離，進而調(diào)整彈性件12中間部位隆起的高度。請參見圖1和圖2，進一步地，所述傳送主體11的厚度為5～15mm，所述傳送主體11上表面的最大波形偏差及弓形偏差不大于2mm，所述傳送主體11下表面的最大波形偏差及弓形偏差不大于2mm。所述波形偏差為波浪形表面上最高點與最低點的高度差，所述弓形偏差為弧形表面最高點和最低點的高度差，由于在磁控濺射鍍膜機長期生產(chǎn)過程中，傳送裝置20表面也會有一定數(shù)量的堆積濺射物50，會導(dǎo)致清理裝置10的高度增高，且通常擋板40與所述傳送機構(gòu)的最大高度不超過19mm，因此，為了避免由于清理裝置10的高度過高，使得清理裝置10無法通過擋板40與傳送裝置20之間的縫隙，將傳送主體11的厚度設(shè)計為5～15mm，傳送主體11上表面的最大波形偏差及弓形偏差設(shè)計不大于2mm，所述傳送主體11下表面的最大波形偏差及弓形偏差設(shè)計不大于2mm，以此保證清理裝置10的高度能夠通過擋板40與傳送裝置20之間的縫隙。請參見圖3和圖4，本發(fā)明實施例還提供的磁控濺射鍍膜機包括用于發(fā)射濺射原子的靶陰極60、用于運輸玻璃的傳送裝置20、設(shè)置在所述靶陰極60和所述傳送裝置20之間并形成有供所述濺射原子通過的濺射通道30的一對擋板40，所述濺射原子在所述擋板40靠近所述傳送裝置20一側(cè)形成堆積濺射物50，所述磁控濺射鍍膜機還包括上述清理裝置10。本發(fā)明實施例提供的磁控濺射鍍膜機包括上述各實施例中的清理裝置10，該清理裝置10與上述各實施例中的清理裝置10具有相同的結(jié)構(gòu)，且所起作用也相同，此處不贅述。本發(fā)明實施例通過將清理裝置10安裝在傳送裝置20上，清理裝置10隨著傳送裝置20的運轉(zhuǎn)進入磁控濺射鍍膜機內(nèi)部，清理裝置10在經(jīng)過擋板40和傳送裝置20之間時，彈性件12會隨著清理裝置10的移動，將擋板40上的堆積濺射物50剝離掉，該清理裝置10在清理堆積濺射物50時，只需在玻璃鍍膜的過程中將清理裝置10安裝在傳送裝置20上，待清理裝置10由磁控濺射鍍膜機入口被傳送到出口時，即可完成清理，無需停機，更不需要拆機，縮短了清理時間，降低了清理成本。請參見圖3和圖4，進一步地，各所述擋板40包括固定在所述鍍膜機內(nèi)壁的固定部41以及沿所述固定部41朝向所述靶陰極60和所述傳送裝置20之間延伸的延伸部42。由于靶陰極60所發(fā)射的濺射原子是無規(guī)律的四處飛濺，因此，本發(fā)明實施例將擋板40固定在鍍膜機內(nèi)壁，使得未通過濺射通道30的濺射原子附著在擋板40上，一定時間后，只需將擋板40拆卸并清理即可?？梢岳斫獾模銮謇硌b置10清理的僅僅是擋板40上靠近傳送裝置20一側(cè)的堆積濺射物50，而本發(fā)明實施例通過拆卸擋板40所清理的堆積濺射物為位于擋板40上遠離傳送裝置20一側(cè)的堆積濺射物。請參見圖4，進一步地，所述延伸部42遠離所述固定部41的一端具有面向所述傳送裝置20的斜面421。通常在玻璃鍍膜時，要精確的控制濺射通道30通過的濺射原子的數(shù)量，以此控制玻璃表面的膜層厚度，具體地，是通過控制濺射通道30的大小來控制濺射原子的通過量，本發(fā)明實施例通過在延伸部42設(shè)置斜面421，在控制濺射通道30的大小時，可以不受擋板40厚度的影響，更加精確的控制濺射原子的通過量，從而保證玻璃膜層厚度。本發(fā)明還提供了一種玻璃鍍膜方法，所述玻璃鍍膜方法包括以下步驟：提供磁控濺射鍍膜機，所述磁控濺射鍍膜機為上述磁控濺射鍍膜機；鍍膜階段，在所述磁控濺射鍍膜機入口處的所述傳送裝置20上放置玻璃，啟動所述傳送裝置20以及所述磁控濺射鍍膜機；所述靶陰極60發(fā)射所述濺射原子，一部分所述濺射原子穿過所述濺射通道30并附著在所述玻璃表面，在玻璃表面形成膜層，另一部分所述濺射原子附著在所述擋板40上靠近所述傳送裝置20的一側(cè)形成堆積濺射物50；清理階段，將所述清理裝置10安裝于所述磁控濺射鍍膜機入口處的所述傳送裝置20上，待所述傳送裝置20將所述清理裝置10傳送至所述磁控濺射鍍膜機出口處時，完成清理。在玻璃鍍膜的過程中，會出現(xiàn)濺射物堆積，將濺射通道30堵塞，導(dǎo)致部分濺射原子被擋不能濺射于產(chǎn)品之上，造成玻璃出現(xiàn)色道造成報廢。有時也會導(dǎo)致側(cè)板下方濺射物堆積，并向下延伸，當(dāng)延伸達到一定長度后，在玻璃通過鍍膜通道時，會造成玻璃膜面劃傷，造成產(chǎn)品報廢。因此本發(fā)明實施例在玻璃鍍膜后設(shè)置堆積濺射物50清理步驟，以此避免出現(xiàn)上述問題，在清理堆積濺射物50時，本發(fā)明實施例只需在玻璃鍍膜的過程中將清理裝置10安裝在傳送裝置20上，待清理裝置10由磁控濺射鍍膜機入口被傳送到出口時，即可完成清理，無需停機，更不需要拆機，縮短了清理時間，降低了清理成本。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3