技術(shù)特征：

1.一種紫外超薄片上盤工藝方法，其特征在于，包括上盤方法和下盤方法，所述上盤方法包括以下步驟：

a₁、在清潔干凈的零件表面滴紫外膠；

b₁、待紫外膠在零件表面擴(kuò)散后將其放于光學(xué)墊板上，并放在紫外光下照射以初步固化；

c₁、將其放于紫外光下再次固化；

所述下盤方法包括：

a₂、將其放于紫外光中照射至少半小時(shí)；

b₂、取出后將其放于熱水中浸泡。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外超薄片上盤工藝方法，其特征在于：所述上盤方法中，步驟b₁時(shí)，在紫外光下照射時(shí)間為2至3秒。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外超薄片上盤工藝方法，其特征在于：所述上盤方法中，步驟c₁時(shí)，在紫外光下照射時(shí)間不超過20分鐘。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種紫外超薄片上盤工藝方法，其特征在于：所述上盤方法中，步驟a₁時(shí)，滴在零件表面的紫外膠用量為2滴。