一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，包括電機(jī)、真空腔體和基片架回架，還包含導(dǎo)向輪、摩擦R輪和雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框，所述導(dǎo)向輪和所述摩擦R輪均固定在所述真空腔體和所述基片架回架上，所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框的重力線傾斜設(shè)置。本實(shí)用新型提供了一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，將雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框傾斜布置，由重力的分量將玻璃固定在其框架上；采用摩擦R輪和導(dǎo)桿摩擦產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力，無跳動(dòng)傳送；采用導(dǎo)向輪和導(dǎo)桿進(jìn)行方向?qū)颍瑹o跳動(dòng)傳送；可實(shí)現(xiàn)大批量穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。
【專利說明】一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一體式(OGS)觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線無鍍膜陰影的玻璃鍍膜產(chǎn)品的大面積連續(xù)生產(chǎn)領(lǐng)域，尤其涉及一種一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]大面積磁控濺射鍍膜技術(shù)廣泛電容式觸摸屏的各種電極和線路的鍍膜上，尤其是最近發(fā)展的采用一體式(OGS)設(shè)計(jì)的觸摸屏結(jié)構(gòu)，所有的鍍膜都在一片玻璃上完成，這對(duì)磁控濺射的工藝提出了嚴(yán)格的要求，尤其是不能在鍍膜的過程中在玻璃的邊緣產(chǎn)生鍍膜陰影區(qū)。
[0003]現(xiàn)有的觸摸屏大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的都是采用的垂直放置基片，玻璃垂直裝夾的方式進(jìn)行玻璃裝夾，在進(jìn)行鍍膜工藝的同時(shí)將在玻璃上面產(chǎn)生鍍膜的家具陰影，造成玻璃的四周有一定區(qū)域的浪費(fèi)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)。
[0005]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的:
[0006]一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，包括電機(jī)、真空腔體和基片架回架，還包含導(dǎo)向輪、摩擦R輪和雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框，所述導(dǎo)向輪和所述摩擦R輪均固定在所述真空腔體和所述基片架回架上。
[0007]具體地，所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框的重力線傾斜設(shè)置。
[0008]進(jìn)一步地，所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框的重力線與豎直方向夾角為5° -10°。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果在于:
[0010]本實(shí)用新型提供了一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，將雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框傾斜布置，由重力的分量將玻璃固定在其框架上；采用摩擦R輪和導(dǎo)桿摩擦產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力，無跳動(dòng)傳送；采用導(dǎo)向輪和導(dǎo)桿進(jìn)行方向?qū)?，無跳動(dòng)傳送；可實(shí)現(xiàn)大批量穩(wěn)定連續(xù)生產(chǎn)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1為本實(shí)用新型一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傾斜式傳送系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2為本實(shí)用新型一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傾斜式傳送系統(tǒng)中所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖3為本實(shí)用新型中所述重力線的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖中:1-導(dǎo)向輪，2-雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框，3-摩擦R輪，4-重力線，5-電機(jī)。

【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明:
[0016]如圖1、圖2和圖3所示，本實(shí)用新型一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，包括電機(jī)5、真空腔體、基片架回架、導(dǎo)向輪1、摩擦R輪3和雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框，2所述導(dǎo)向輪I和所述摩擦R輪3均固定在所述真空腔體和所述基片架回架上，所述摩擦R輪通過電機(jī)5驅(qū)動(dòng)。所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框2的重力線傾斜設(shè)置。所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框2的重力線與豎直方向夾角為5° -10°。雙導(dǎo)桿可調(diào)基片裝載框2的有效沉積區(qū)域的大小為I = dctg Θ -dQ，其中L為有效沉積區(qū)域，d為靶材到基片架的垂直距離，Θ為傾斜角度，d0為濺射端部截留距離；傾斜式傳送系統(tǒng)中除了雙導(dǎo)桿外的所有材料均采用非導(dǎo)磁材料制成。
[0017]上面的實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本實(shí)用新型的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本實(shí)用新型設(shè)計(jì)精神前提下，本領(lǐng)域普通工程技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案做出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，包括電機(jī)、真空腔體和基片架回架，其特征在于:還包含導(dǎo)向輪、摩擦R輪和雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框，所述導(dǎo)向輪和所述摩擦R輪均固定在所述真空腔體和所述基片架回架上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，其特征在于:所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框的重力線傾斜設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一體式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的傳送系統(tǒng)，其特征在于:所述雙導(dǎo)桿可調(diào)整基片裝載框的重力線與豎直方向夾角為5° -10°。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK203960322SQ201420253866
【公開日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年5月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月19日
【發(fā)明者】郭愛云 申請(qǐng)人:紅安華州光電科技有限公司