一種鍍膜機真空冷卻裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明的目的是提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括真空泵、油擴散泵和冷水槽，真空泵與油擴散泵連接在一起，真空泵與鍍膜室連接在一起，油擴散泵與鍍膜室連接在一起；幾根氣管上分別設置有前級閥門、預抽氣閥門、放氣閥門、高真空閥門和冷井；在冷井連接有第一水管和第二水管，其中第一水管連接循環(huán)水箱，第二水管連接著冷水槽，循環(huán)水箱和冷水槽通過第三水管也連接在一起構成一個循環(huán)冷卻系統(tǒng)；本裝置可以有效地保持鍍膜室的真空度，使冷井溫度可以有效地降低，使鍍膜室的油蒸汽回返率下降，排除了環(huán)境溫度對鍍膜的影響，提高了鍍膜室的真空潔凈度，鍍膜質(zhì)量提高，適用于生產(chǎn)中。
【專利說明】一種鍍膜機真空冷卻裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜機領域，尤其涉及一種鍍膜機真空冷卻裝置。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜機顧名思義必須要在真空的環(huán)境下進行鍍膜，而除了抽真空，在抽真空中還需進行冷卻，傳統(tǒng)的采用冷井冷卻，但是傳統(tǒng)的冷卻方式易受到外界環(huán)境溫度的影響，況且生產(chǎn)中許多冷卻裝置采用同一循環(huán)冷卻水池進行冷卻，其必然對真空的冷卻達不到效果，這樣就會引起油蒸汽反流油分子滯阻捕捉性能下降，會導致油分子反滲到鍍膜室的幾率增加，對鍍膜元件造成污染，因此解決這一問題就顯得十分必要了。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，采用真空泵和油擴散泵進行抽真空，并設置一些閥門配合使用，采用單獨的冷卻循環(huán)裝置進行冷卻，解決了【背景技術】中出現(xiàn)的問題。
[0004]本發(fā)明的目的是提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵和油擴散泵進行抽真空，冷水槽進行冷卻，真空泵通過第三氣管與油擴散泵連接在一起，真空泵通過第一氣管、第四氣管和第五中間與鍍膜室連接在一起，油擴散泵通過第五氣管與鍍膜室連接在一起，在第一氣管 右側連接有帶有泄氣閥門的第二氣管進行泄氣；在第三氣管上設置有前級閥門，第四氣管上設置有預抽氣閥門；第五氣管上設置有冷井和高真空閥門，在第五氣管還連接帶有放氣閥門的第六氣管進行放氣；在冷井連接有第一水管和第二水管，其中第一水管連接循環(huán)水箱，第二水管連接著冷水槽，循環(huán)水箱和冷水槽通過第三水管也連接在一起。
[0005]進一步改進在于:冷水槽是半導體低溫冰箱。
[0006]進一步改進在于:在第二水管與冷水槽之間還設置有設置有熱交換器進行熱交換。
[0007]進一步改進在于:在第三水管上的位于循環(huán)水箱內(nèi)的開頭部分設置有水閥門控制水的循環(huán)，第三水管上設置水泵。
[0008]本發(fā)明的有益效果:本裝置通過采用真空泵和油擴散泵進行抽真空，并設置一些閥門配合使用，可以有效地保持鍍膜室的真空度，在冷井上通過水管連接循環(huán)水箱和冷水槽構成一個循環(huán)冷卻系統(tǒng)，使冷井溫度可以有效地降低，使鍍膜室的油蒸汽回返率下降，排除了環(huán)境溫度對鍍膜的影響，提高了鍍膜室的真空潔凈度，鍍膜質(zhì)量提高，適用于生產(chǎn)中。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是本發(fā)明的示意圖。
[0010]其中:1_真空泵，2-冷水槽，3-第一氣管，4-第二氣管，5-泄氣閥門，6-第三氣管，7-油擴散泵，8-前級閥門，9-第四氣管，10-預抽氣閥門，11-第五氣管，12-鍍膜室，13-冷井，14-高真空閥門，15-第六氣管，16-放氣閥門，17-第一水管，18-第二水管，19-循環(huán)水箱，20-第三水管，21-熱交換器，22-水閥門，23-水泵。【具體實施方式】
[0011]為了加深對本發(fā)明的理解，下面將結合實施例對本發(fā)明作進一步詳述，該實施例僅用于解釋本發(fā)明，并不構成對本發(fā)明保護范圍的限定。[0012]如圖1所示，本實施例提供一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵I和油擴散泵7進行抽真空，冷水槽2進行冷卻，真空泵I通過第三氣管6與油擴散泵7連接在一起，真空泵I通過第一氣管3、第四氣管9和第五中間11與鍍膜室12連接在一起，油擴散泵7通過第五氣管11與鍍膜室12連接在一起，在第一氣管3右側連接有帶有泄氣閥門5的第二氣管4進行泄氣；在第三氣管6上設置有前級閥門8，第四氣管9上設置有預抽氣閥門10 ;第五氣管11上設置有冷井13和高真空閥門14，在第五氣管11上還連接帶有放氣閥門16的第六氣管15進行放氣；在冷井13連接有第一水管17和第二水管18，其中第一水管17連接循環(huán)水箱19，第二水管18連接著冷水槽2，冷水槽2是半導體低溫冰箱；循環(huán)水箱19和冷水槽2通過第三水管20也連接在一起；在第二水管18與冷水槽2之間還設置有設置有熱交換器21進行熱交換；在第三水管20上的位于循環(huán)水箱19內(nèi)的開頭部分設置有水閥門22控制水的循環(huán)，在第三水管20上設置水泵23。本裝置通過采用真空泵I和油擴散泵7進行抽真空，并設置一些閥門配合使用，可以有效地保持鍍膜室12的真空度，在冷井13上通過水管連接循環(huán)水箱19和冷水槽2構成一個循環(huán)冷卻系統(tǒng)，使冷井13溫度可以有效地降低，使鍍膜室12的油蒸汽回返率下降，排除了環(huán)境溫度對鍍膜的影響，提高了鍍膜室12的真空潔凈度，鍍膜質(zhì)量提高，適用于生產(chǎn)中。
【權利要求】
1.一種鍍膜機真空冷卻裝置，包括有真空泵(I)和冷水槽(2)，其特征在于:所述真空泵(I)上方連接有第一氣管(3)，第一氣管(3)中間右側連接有第二氣管(4)，第二氣管(4)上設置有泄氣閥門(5);第一氣管(3)中間偏上左側設置有第三氣管(6)，第三氣管(6)的末端連接有油擴散泵(7)，第三氣管(6)上設置有前級閥門(8);第一氣管(3)的末端向左連接有第四氣管(9)，第四氣管(9)上設置有預抽氣閥門(10);油擴散泵(7)上方連接有第五氣管(11)，第五氣管(11)的末端連接有鍍膜室(12)，第五氣管(11)上中間偏下部分從下到上依次設置有冷井(13)和高真空閥門(14)，第五氣管(11)中間偏上右側連接著第四氣管(9)，第五氣管(11)的上部向左連接有第六氣管(15)，第六氣管(15)上設置有放氣閥門(16);所述冷井(13)左側從上到下依次設置有第一水管(17)和第二水管(18)，第一水管(17)的末端連接有循環(huán)水箱(19)，第二水管(18)的末端連接著冷水槽(2)，循環(huán)水箱(19)和冷水槽(2)之間設置有第三水管(20)連接起來。
2.如權利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于:所述冷水槽(2)為半導體低溫冰箱。
3.如權利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于:所述第二水管(18)與冷水槽(2)之間設置有熱交換器(21)。
4.如權利要求1所述一種鍍膜機真空冷卻裝置，其特征在于:所述第三水管(20)上位于循環(huán)水箱(19)內(nèi)設 置有水閥門(22)，第三水管(20)上中間還設置水泵(23)。
【文檔編號】C23C14/56GK103911589SQ201410156644
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2014年4月18日 優(yōu)先權日:2014年4月18日
【發(fā)明者】阮成武, 陳軍海, 王志邦 申請人:蕪湖市德寶新材料股份有限公司