一種四分區(qū)式多氣體獨立通道的噴淋結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】一種四分區(qū)式多氣體獨立通道的噴淋結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)能夠滿足多種氣體同時、獨立及均勻沉積的需求。它包括噴淋頭主體、配氣塊、擋板、蓋板、隔板7，上述隔板將噴淋結(jié)構(gòu)主體從垂直方向上分成C區(qū)及D區(qū)兩個區(qū)間，主體及檔板的中間有獨立區(qū)域?qū)⒄w又分成了A區(qū)及B區(qū)兩個平面分區(qū)，主體上設(shè)有橫向溝槽及縱向溝槽的縱橫交錯的溝槽，上述橫向溝槽及縱向溝槽的空隙凸臺上鉆有貫通孔，溝槽內(nèi)均勻布置半通孔，上述配氣塊上制有氣體A進口、氣體B進口及氣體C進口，上述主體的底部設(shè)有氣體A出口、氣體B出口及氣體C出口。本實用新型較好地解決了氣體在進入腔室之前已進行接觸，不易于控制沉積的時間及特氣資源浪費的技術(shù)問題。并可在其上安裝加熱或冷卻構(gòu)件，以滿足更嚴苛的工藝條件要求。
【專利說明】—種四分區(qū)式多氣體獨立通道的噴淋結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種新型的噴淋結(jié)構(gòu)，通過立體分區(qū)方式，來實現(xiàn)三種及三種以上氣體獨立、均勻的到達基底表面進行沉積反應(yīng)，屬于半導(dǎo)體薄膜沉積應(yīng)用及制造【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備在進行沉積反應(yīng)時，一般需要一種或兩種氣體，有時需要三種(或三種以上)氣體同時進入腔室進行薄膜沉積，要求幾種氣體路徑相互獨立，在進入腔體前不能相遇，進入腔室后需均勻擴散到基底表面。而現(xiàn)有的噴淋方法大都是針對單獨的氣體路徑設(shè)計，或是最多有兩種氣體路徑，并且大多結(jié)構(gòu)都只是在氣體進口處進行分離，在進入腔室之前已進行接觸、使沉積反應(yīng)提前進行，即不易于控制沉積的時間及反應(yīng)條件也浪費了寶貴的不可再生的特氣資源。當需要三種及三種以上氣體時，之前的噴淋結(jié)構(gòu)已不能滿足要求。針對要求多種(三種及三種以上)氣體同時、獨立、均勻的苛刻要求，本實用新型應(yīng)運而生。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型以解決上述問題為目的，提供一種能夠滿足多種(三種及三種以上)氣體同時、獨立、均勻沉積的噴淋新結(jié)構(gòu)。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用下述技術(shù)方案:一種四分區(qū)式多氣體獨立通道的噴淋結(jié)構(gòu)，采用立體分區(qū)方式，隔離不同的氣體路徑。氣體分別從各自獨立的氣體進口進入，通過各自獨立的通道，到達各自分區(qū)，并從各自的分區(qū)到達腔室。彼此獨立結(jié)構(gòu)使不同氣體不會提前相遇或反應(yīng)。通過規(guī)劃不同的分區(qū)結(jié)構(gòu)及分區(qū)形式，能滿足多種氣體的分布，使氣體能均勻、快速的擴散在腔室內(nèi)，并在基板上進行沉積反應(yīng)。具體結(jié)構(gòu):它包括噴淋頭主體、配氣塊、擋板、蓋板、隔板7。上述隔板將噴淋結(jié)構(gòu)主體從垂直方向上分成C區(qū)及D區(qū)兩個區(qū)間，主體及檔板的中間有獨立區(qū)域?qū)⒄w又分成了 A區(qū)及B區(qū)兩個平面分區(qū)。主體上設(shè)有橫向溝槽及縱向溝槽的縱橫交錯的溝槽。上述橫向溝槽及縱向溝槽的空隙凸臺上鉆有貫通孔，溝槽內(nèi)均勻布置半通孔。上述配氣塊上制有氣體A進口、氣體B進口及氣體C進口。上述主體的底部設(shè)有氣體A出口、氣體B出口及氣體C出口。
[0005]本實用新型的有益效果及特點:
[0006]本實用新型通過規(guī)劃不同的分區(qū)結(jié)構(gòu)及分區(qū)形式，隔離不同的氣體路徑，來實現(xiàn)三種及三種以上氣體獨立、均勻的到達基底表面進行沉積反應(yīng)，較好地解決了氣體在進入腔室之前已進行接觸，不易于控制沉積的時間及特氣資源浪費的技術(shù)問題。并可在其上安裝加熱或冷卻構(gòu)件，以滿足更嚴苛的工藝條件要求。具有結(jié)構(gòu)合理及易于推廣的特點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。[0008]圖2是圖1中A-A向剖視圖。
[0009]圖中零件標號分別代表:
[0010]1、氣體A進口 ；2、氣體B進口 ；3、氣體C進口 ；4、配氣塊；5、擋板；6、蓋板；7、隔板；
8、主體；9、氣體A出口 ；10、氣體B出口 ； 11、氣體C出口 ；12、A區(qū)；13、B區(qū)；14、C區(qū)；15、D區(qū)；16、橫向溝槽；17、縱向溝槽；18、凸臺；19、半通孔。
[0011]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
【具體實施方式】
[0012]實施例
[0013]如圖1，2所示，一種四分區(qū)式多氣體獨立通道的噴淋結(jié)構(gòu)，包括噴淋頭主體8、配氣塊4、擋板5、蓋板6、隔板7。上述隔板7將噴淋結(jié)構(gòu)主體8從垂直方向上分成C區(qū)14及D區(qū)15兩個區(qū)間，主體8及檔板5的中間有獨立區(qū)域?qū)⒄w又分成了 A區(qū)12及B區(qū)13兩個平面分區(qū)，主體8上設(shè)有橫向溝槽16及縱向溝槽17的縱橫交錯的溝槽，上述橫向溝槽16及縱向溝槽17的空隙凸臺18上鉆有貫通孔，溝槽內(nèi)均勻布置半通孔19。上述配氣塊4上制有氣體A進口 1、氣體B進口 2及氣體C進口 3。上述主體8的底部設(shè)有氣體A出口 9、氣體B出口 10及氣體C出口 11。
[0014]工作時，氣體A從配氣塊4右方的氣體A進口 I進入，穿過隔板7進入C區(qū)14，通過主體8縱橫溝槽上的半通孔進入腔室。氣體B從配氣塊4中間的氣體B進口 2進入，穿過擋板5通過A區(qū)12及B區(qū)13，然后從B區(qū)13內(nèi)通孔進入腔室。氣體C從配氣塊4左方的氣體C進口 3進入，經(jīng)過擋板5擴散，通過隔板5及凸臺上的貫通孔進入腔室。
【權(quán)利要求】
1.一種四分區(qū)式多氣體獨立通道的噴淋結(jié)構(gòu)，其特征在于:它包括噴淋頭主體、配氣塊、擋板、蓋板、隔板，上述隔板將噴淋結(jié)構(gòu)主體從垂直方向上分成C區(qū)及D區(qū)兩個區(qū)間，主體及檔板的中間有獨立區(qū)域?qū)⒄w又分成了 A區(qū)及B區(qū)兩個平面分區(qū)，主體上設(shè)有橫向溝槽及縱向溝槽的縱橫交錯的溝槽，上述橫向溝槽及縱向溝槽的空隙凸臺上鉆有貫通孔，溝槽內(nèi)均勻布置半通孔，上述配氣塊上制有氣體A進口、氣體B進口及氣體C進口，上述主體的底部設(shè)有氣體A出口、氣體B出口及氣體C出口。
【文檔編號】C23C16/455GK203559126SQ201320685738
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年10月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月31日
【發(fā)明者】凌復(fù)華, 吳鳳麗, 陳英男, 國建花, 王燚 申請人:沈陽拓荊科技有限公司