專利名稱：真空退火爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空退火爐。
背景技術(shù)：
目前市售的真空退火爐大都使用石墨電極或金屬帶作為加熱器，由于石墨電極存在揮發(fā)物，容易對工件造成二次污染；而金屬帶的成本教高，使用壽命短。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型目的在于提供一種避免二次污染，降低使用成本，同時延長使用壽命的真空退火爐。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型可采取下述技術(shù)方案:本實用新型所述的真空退火爐，包括爐體，和設(shè)置在所述爐體內(nèi)的退火腔；在所述退火腔內(nèi)設(shè)置有二硅化鑰加熱器。所述二硅化鑰加熱器為設(shè)置在所述退火腔內(nèi)兩側(cè)分別對稱間隔設(shè)置的多個U形二硅化鑰加熱元件。本實用新型優(yōu)點在于將真空爐加熱元件改進為二硅化鑰加熱器，很好的解決了二次污染的問題，同時降低了使用成本，延長了使用壽命。

圖1是本實用新型 的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1的立體圖。
具體實施方式
如圖1、2所示，本實用新型所述的真空退火爐，包括爐體1，和設(shè)置在所述爐體I內(nèi)的退火腔；在所述退火腔內(nèi)設(shè)置有二硅化鑰加熱器了 ；所述二硅化鑰加熱器為設(shè)置在所述退火腔內(nèi)兩側(cè)分別對稱間隔設(shè)置的多個U形二硅化鑰加熱元件2。
權(quán)利要求1.一種真空退火爐，包括爐體(1)，和設(shè)置在所述爐體(I)內(nèi)的退火腔；其特征在于:在所述退火腔內(nèi)設(shè)置有二硅化鑰加熱器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空退火爐，其特征在于:所述二硅化鑰加熱器為設(shè)置在所述退火腔內(nèi)兩側(cè)分別 對稱間隔設(shè)置的多個U形二硅化鑰加熱元件(2)。
專利摘要本實用新型公開了一種真空退火爐，包括爐體，和設(shè)置在所述爐體內(nèi)的退火腔；在所述退火腔內(nèi)設(shè)置有二硅化鉬加熱器。所述二硅化鉬加熱器為設(shè)置在所述退火腔內(nèi)兩側(cè)分別對稱間隔設(shè)置的多個U形二硅化鉬加熱元件。本實用新型優(yōu)點在于將真空爐加熱元件改進為二硅化鉬加熱器，很好的解決了二次污染的問題，同時降低了使用成本，延長了使用壽命。
文檔編號C21D1/26GK203112872SQ20132004680
公開日2013年8月7日 申請日期2013年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月29日
發(fā)明者陳玉庫, 王瑞亭 申請人:鄭州世博有色金屬制品有限公司