薄膜蒸鍍裝置及利用此的薄膜蒸鍍方法
【專利摘要】本發(fā)明公開薄膜蒸鍍裝置及利用此的薄膜蒸鍍方法。所公開薄膜蒸鍍裝置包括：蒸鍍源，生成將蒸鍍到基板的蒸鍍蒸汽；噴射部，向安裝有基板的所述蒸鍍室內(nèi)噴射蒸鍍蒸汽；管制部，使預定的壓力作用于所述噴射部，以調(diào)節(jié)為向蒸鍍室內(nèi)噴射蒸鍍蒸汽或停止向蒸鍍室內(nèi)噴射蒸鍍蒸汽。根據(jù)這種構(gòu)成，能夠在蒸鍍室內(nèi)正確地且有效率地管制蒸鍍源的蒸汽的噴射，因此采用本發(fā)明時，可以期待生產(chǎn)效率的提高和產(chǎn)品品質(zhì)的穩(wěn)定化。
【專利說明】薄膜蒸鍍裝置及利用此的薄膜蒸鍍方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及通過產(chǎn)生蒸鍍源的蒸汽而在基板表面形成薄膜的蒸鍍裝置，尤其涉及控制蒸鍍蒸汽的噴射的功能得到改善的薄膜蒸鍍裝置及利用此的薄膜蒸鍍方法。
【背景技術(shù)】
[0002]例如形成有機發(fā)光顯示裝置的薄膜包封層之類的薄膜制造工藝中，大多會利用通過產(chǎn)生蒸鍍源的蒸汽以使其粘附到基板表面的蒸鍍工藝。
[0003]即，通過蒸鍍工藝使適宜厚度的薄膜按照所期望的圖案形成于基板上。
[0004]而且，在用于進行這種蒸鍍工藝的蒸鍍室內(nèi)，配備有用于在需要時噴射蒸鍍源的蒸汽的遮板(shutter)。即，不可以在不需要的時間點也噴射蒸鍍源的蒸汽，因此通過設置遮板而擋住蒸鍍源的噴射口的前面，并在需要的時間點開放遮板的方式進行蒸鍍。
[0005]然而，即便使用這種遮板也難以完全阻斷蒸鍍源的蒸汽，因此在基板上頻繁地發(fā)生無意的薄膜的蒸鍍。
[0006]如果這樣，將不會形成精密的薄膜，因此只能使產(chǎn)品的品質(zhì)極大地降低。
[0007]因此，為了解決這種問題，需要一種能夠更加正確地按照所期望的意圖管制朝向基板噴射蒸鍍源的蒸汽 的動作的新的方案。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的實施例提供一種薄膜蒸鍍裝置及利用此的薄膜蒸鍍方法，該薄膜蒸鍍裝置被改善為在蒸鍍室內(nèi)能夠正確地且有效率地管制蒸鍍源的蒸汽的噴射。
[0009]本發(fā)明的一實施例所提供的薄膜蒸鍍裝置包括:蒸鍍室，用于安裝基板；蒸鍍源，生成將蒸鍍到所述基板的蒸鍍蒸汽；噴射部，向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽；管制部，使預定壓力作用于所述噴射部，以調(diào)節(jié)為向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽或停止向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽。
[0010]所述噴射部可包括:與所述蒸鍍源連接的主體；設置于所述主體的多個噴嘴，以用于向所述基板噴射所述蒸鍍蒸汽。
[0011]所述管制部可包括:與所述噴射部連接的連接管；通過所述連接管使壓力作用于所述噴射部的真空泵。
[0012]所述連接管可包括:與所述噴嘴一對一對應地連接到所述噴射部的主體的多個第一連接管；連接所述多個第一連接管和所述真空泵之間的第二連接管，所述第一連接管和第二連接管可分別設有可開閉的第一閥門和第二閥門。
[0013]還可具備測量所述噴射部的壓力的壓力傳感器。
[0014]還可具備用于連接所述蒸鍍源和所述噴射部的第三連接管。
[0015]并且，本發(fā)明的一實施例所提供的薄膜蒸鍍方法包括如下步驟:分別準備生成蒸鍍蒸汽的蒸鍍源和向安裝有基板的蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽的噴射部以及管制部，該管制部使預定的壓力作用于所述噴射部，以調(diào)節(jié)為使所述蒸鍍蒸汽朝所述蒸鍍室內(nèi)噴射或停止向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽；處于蒸鍍待機模式時，運行所述管制部，使第一壓力作用于所述噴射部，以避免向所述蒸鍍室噴射蒸鍍蒸汽；處于蒸鍍進行模式時，運行所述管制部，使第二壓力作用于所述噴射部，以向所述蒸鍍室噴射蒸鍍蒸汽。
[0016]所述噴射部可包括與所述蒸鍍源連接的主體和設置于所述主體的多個噴嘴，且可通過所述多個噴嘴向所述基板噴射所述蒸鍍蒸汽。
[0017]所述管制部可包括與所述噴射部連接的連接管和與所述連接管連接的真空泵，且可通過運行所述真空泵使壓力作用于通過所述連接管連接的所述噴射部。
[0018]所述連接管可包括:與所述噴嘴一對一對應地連接到所述噴射部的主體的多個第一連接管；連接所述多個第一連接管和所述真空泵之間連接的第二連接管，且所述第一連接管和第二連接管可分別設有可開閉的第一閥門和第二閥門，在處于所述蒸鍍待機模式時，可關(guān)閉所述第一閥門并開放所述第二閥門，在處于所述蒸鍍進行模式時，可開放所述第一閥門并關(guān)閉所述第二閥門。
[0019]還可包括測量所述噴射部的壓力的步驟。
[0020]根據(jù)如上所述的本發(fā)明所提供的薄膜蒸鍍裝置和薄膜蒸鍍方法，能夠在蒸鍍室內(nèi)正確地且有效率地管制蒸鍍源的蒸汽的噴射，因此采用本發(fā)明時，可以期待生產(chǎn)效率的提聞和廣品品質(zhì)的穩(wěn)定化。
【專利附圖】

【附圖說明】 [0021]圖1為概略地示出本發(fā)明的一實施例所提供的薄膜蒸鍍裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
[0022]圖2為示出圖1所示的薄膜蒸鍍裝置的蒸鍍源和噴射部以及管制部的結(jié)構(gòu)的圖。
[0023]圖3a為繪制出圖2的蒸鍍進行模式的圖。
[0024]圖3b為繪制出圖2的蒸鍍待機模式的圖。
【具體實施方式】
[0025]以下，參照附圖對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行詳細的說明。
[0026]首先，參照圖1和圖2說明本發(fā)明的一實施例所提供的薄膜蒸鍍裝置。
[0027]如圖1所示，本實施例所提供的薄膜蒸鍍裝置具備蒸鍍室300，該蒸鍍室300分別設有將要形成薄膜(未圖示)的基板200和朝該基板200噴射蒸鍍蒸汽的蒸汽噴射單元100。即，在維持真空的蒸鍍室300內(nèi)設置基板200，通過運行蒸汽噴射單元100，在基板200上形成具有所期望的圖案的薄膜。
[0028]圖2為示出該蒸汽噴射單元100的詳細結(jié)構(gòu)的圖，為了能夠有效地管制朝向基板200的蒸鍍蒸汽的噴射，構(gòu)成為如下。
[0029]首先，分別具備:生成蒸鍍蒸汽的蒸鍍源160 ;將由該蒸鍍源160生成的蒸鍍蒸汽朝向基板200而向蒸鍍室300里面噴射的噴射部；管制部，管制為僅在需要的時間點執(zhí)行蒸鍍蒸汽的噴射。
[0030]所述噴射部包括主體110，該主體110具備多個噴嘴111且與所述蒸鍍源160連接。進而，當從所述蒸鍍源160供應蒸鍍蒸汽時，該蒸鍍蒸汽流入至所述主體110之后，通過多個噴嘴111被噴射到蒸鍍室300內(nèi)。
[0031]而且，所述管制部具備與所述主體110連接的第一連接管121和連接于該第一連接管121的第二連接管122以及連接于第二連接管122的真空泵130等，所述第一連接管121和第二連接管122分別設置有開閉用第一閥門151和第二閥門152。
[0032]所述第一連接管121布置數(shù)量與所述多個噴嘴111相同，以與所述多個噴嘴111一對一地對應，據(jù)此，使由所述真空泵130產(chǎn)生的壓力均勻地作用于各個噴嘴111。
[0033]符號“123”表示用于連接蒸鍍源160和噴射部的第三連接管。
[0034]而且，符號“140”表示用于測量所述噴射部主體110內(nèi)部的壓力的壓力傳感器，例如可使用電容壓力計(Baratron gauge)。
[0035]并且，所述第一閥門151和第二閥門152可使用通常的開/閉閥門，例如可使用鐘擺式閥門(pendulum valve)。
[0036]而且,所述真空泵130可使用潤輪分子泵(turbo molecular pump),符號“ 170”表示用于控制這種真空泵130和第一閥門151、第二閥門152、第三閥門153等的操作的控制器。
[0037]具備如此構(gòu)成的蒸汽噴射單元100的薄膜蒸鍍裝置可運用為如下。
[0038]首先，將欲要進行蒸鍍的基板200安裝到蒸鍍室300內(nèi)之后，將蒸鍍室300里面制
造成真空氛圍。
[0039]當蒸鍍室300內(nèi)的真空氛圍的準備完成時，僅接著如圖3a所示地運行所述蒸汽噴射單元100而進行蒸鍍。
[0040]此時，控制器170開啟所述第一閥門151，使由所述蒸鍍源160生成的蒸鍍蒸汽通過第三連接管123和第一連接管121順暢地流入至噴射部的主體110。但是，關(guān)閉第二閥門152。
[0041]如此，流入至所述主體110的蒸鍍蒸汽將通過多個噴嘴111順暢地噴射至維持真空的蒸鍍室300內(nèi)。即，此時處于所述真空泵130的吸力沒有作用于主體110的狀況，因此相比于主體110內(nèi)的壓力，蒸鍍室300內(nèi)的壓力更低，從而蒸鍍蒸汽順利地向蒸鍍室300側(cè)噴射。也就是說，比所述蒸鍍室300內(nèi)的壓力相對更高的壓力作用于噴射部的主體110，因此根據(jù)壓力差，使蒸鍍蒸汽能夠向基板200側(cè)順暢地噴射。此時，所述主體110內(nèi)的壓力借助壓力傳感器140進行監(jiān)控。
[0042]另外，薄膜蒸鍍結(jié)束，作業(yè)模式轉(zhuǎn)換為蒸鍍待機模式時，此次控制器170開放第二閥門152，使真空泵130的吸力作用于噴射部的主體110。如此，由蒸鍍源160生成的蒸鍍蒸汽不能朝噴射部的主體110流動，而是通過第二閥門152被吸入到真空泵130側(cè)，且殘留于主體110里面的部分蒸鍍蒸汽也被吸入到真空泵130側(cè)。即，使真空泵130的吸力作用于噴射部，從而使內(nèi)部壓力相比蒸鍍室300更低，據(jù)此在不需要蒸鍍蒸汽的期間，避免向基板200側(cè)噴射蒸鍍蒸汽。
[0043]而且，若通過壓力傳感器140確認到噴射部的主體110的壓力已足夠降低，則關(guān)閉所述第一閥門151，以阻斷蒸鍍源123的蒸鍍蒸汽，避免其流動至噴射部。即，在模式轉(zhuǎn)換初期，需要吸出殘留于主體110里面的蒸鍍蒸汽，因此暫時開放第一閥門151，然而當主體110的內(nèi)部壓力已足夠降低，從而檢測為幾乎沒有殘留蒸汽時，關(guān)閉第一閥門151，以完全阻斷朝向噴射部的流出 。
[0044]于是，在蒸鍍進行模式中能夠順暢地噴射蒸鍍蒸汽的同時順利地進行蒸鍍，在蒸鍍待機模式中能夠可靠地阻止蒸鍍蒸汽的泄漏，以避免發(fā)生不期望的蒸鍍。因此，在蒸鍍待機模式中， 將低于蒸鍍室300的內(nèi)壓的第一壓力作用于噴射部，據(jù)此防止蒸鍍蒸汽的泄漏，在蒸鍍進行模式中，將高于蒸鍍室300的內(nèi)壓的第二壓力作用于噴射部，以使蒸鍍蒸汽的噴射能夠順暢地進行。
[0045]因此，能夠正確地執(zhí)行蒸鍍蒸汽的噴射和阻斷，從而能夠非常有效率地執(zhí)行蒸鍍作業(yè)。
[0046]綜上所述，當利用以上所說明的薄膜蒸鍍裝置時，能夠在蒸鍍室內(nèi)正確地且有效率地管制蒸鍍源的蒸汽的噴射，因此采用該裝置時，可以期待生產(chǎn)效率的提高和產(chǎn)品品質(zhì)的穩(wěn)定化。
[0047]本發(fā)明將附圖所示的實施例作為參考進行了說明，但這只是示例性的，本【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常的知識的技術(shù)人員應當理解可由本發(fā)明進行多種變形和等同的其他實施例。因此，本發(fā)明真正的技術(shù)保護范圍應當由權(quán)利要求書的技術(shù)思想來確定。
【權(quán)利要求】
1.一種薄膜蒸鍍裝置，其中，包括: 蒸鍍室，用于安裝基板； 蒸鍍源，生成將蒸鍍到所述基板的蒸鍍蒸汽； 噴射部，向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽； 管制部，使適宜的壓力作用于所述噴射部，以調(diào)節(jié)為向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽或停止向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜蒸鍍裝置，其中，所述噴射部包括:與所述蒸鍍源連接的主體；設置于所述主體的多個噴嘴，以用于向所述基板噴射所述蒸鍍蒸汽。
3.如權(quán)利要求2所述的薄膜蒸鍍裝置，其中，所述管制部包括:與所述噴射部連接的連接管；通過所述連接管使壓力作用于所述噴射部的真空泵。
4.如權(quán)利要求3所述的薄膜蒸鍍裝置，其中，所述連接管包括:與所述噴嘴一對一對應地連接到所述噴射部的主體的多個第一連接管；連接所述多個第一連接管和所述真空泵之間的第二連接管， 所述第一連接管和第二連接管分別設有可開閉的第一閥門和第二閥門。
5.如權(quán)利要求4所述的薄膜蒸鍍裝置，其中，還具備測量所述噴射部的壓力的壓力傳感器。
6.如權(quán)利要求4所述的薄膜蒸鍍裝置，其中，還具備用于連接所述蒸鍍源和所述噴射部的第三連接管。
7.一種薄膜蒸鍍方法，其中，包括如下步驟: 分別準備生成蒸鍍蒸汽的蒸鍍源和向安裝有基板的蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽的噴射部以及管制部，該管制部使預定壓力作用于所述噴射部，以調(diào)節(jié)為向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽或停止向所述蒸鍍室內(nèi)噴射所述蒸鍍蒸汽； 處于蒸鍍待機模式時，運行所述管制部，使第一壓力作用于所述噴射部，以避免向所述蒸鍍室噴射蒸鍍蒸汽； 處于蒸鍍進行模式時，運行所述管制部，使第二壓力作用于所述噴射部，以向所述蒸鍍室噴射蒸鍍蒸汽。
8.如權(quán)利要求7所述的薄膜蒸鍍方法，其中，所述噴射部包括與所述蒸鍍源連接的主體和設置于所述主體的多個噴嘴，且通過所述多個噴嘴向所述基板噴射所述蒸鍍蒸汽。
9.如權(quán)利要求8所述的薄膜蒸鍍方法，其中，所述管制部包括與所述噴射部連接的連接管和與所述連接管連接的真空泵，且運行所述真空泵使壓力作用于通過所述連接管連接的所述噴射部。
10.如權(quán)利要求9所述的薄膜蒸鍍方法，其中，所述連接管包括:與所述噴嘴一對一對應地連接到所述噴射部的主體的多個第一連接管；連接所述多個第一連接管和所述真空泵之間的第二連接管，且所述第一連接管和第二連接管分別設有可開閉的第一閥門和第二閥門， 在處于所述蒸鍍待機模式時，關(guān)閉所述第一閥門并開放所述第二閥門，在處于所述蒸鍍進行模式時，開放所述第一閥門并關(guān)閉所述第二閥門。
11.如權(quán)利要求10所述的薄膜蒸鍍方法，其中，還包括測量所述噴射部的壓力的步驟。
【文檔編號】C23C14/24GK103966553SQ201310291168
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2013年7月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年1月30日
【發(fā)明者】朱儇佑, 許明洙, 李勇錫, 趙喆來, 金善浩 申請人:三星顯示有限公司