一種制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具及其使用方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具及其使用方法，用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具包括邊框架及在所述邊框架上的開口，其特征在于,所述邊框架包括兩組相對共四條對邊并在四條對邊中央形成中空區(qū)域，所述開口為位于四條所述對邊上的長條開口或離散開口；所述對邊由內(nèi)邊和外邊構(gòu)成，所述開口位于所述內(nèi)邊和所述外邊之間。本發(fā)明提供的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具可以將掩模板四邊聯(lián)接并固定使其具有一定的張力從而使其表面平整，在經(jīng)過相應(yīng)的處理線時，不出現(xiàn)形變，提高產(chǎn)品質(zhì)量，減少報廢率，節(jié)約生產(chǎn)成本，提升效率。
【專利說明】一種制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具及其使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及OLED蒸鍍用掩模板制造領(lǐng)域，尤其涉及一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具。
[0002]
【背景技術(shù)】
[0003]有機發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,簡寫為0LED)是繼陰極射線管(Cathode-ray Tube,簡寫為 CRT)、液晶顯不(Liquid Crystal Display,簡寫為 LCD)之后的第三代顯示技術(shù)，因其可以自發(fā)光不需要背光燈，所以可視范圍寬(大于170° )，而且還具有低功耗、低成本、使用溫度范圍廣(-40°~80° )等突出優(yōu)點，由此決定OLED成為未來最具前途的產(chǎn)品之一。
[0004]制備高質(zhì)量OLED屏的一種核心技術(shù)是采用高精密OLED掩模板在ITO玻璃基板上蒸鍍R、G、B三原色的有機材料制得，蒸鍍工序用到的掩模板的質(zhì)量直接影響到OLED屏的質(zhì)量，所以制造蒸鍍用掩模板的每一個環(huán)節(jié)都很重要。通常蒸鍍用掩模板的制作工序包括:前處理一貼膜一曝光一顯影一蝕刻(或電鑄)一脫膜一固定等工序，其中顯影、蝕刻、前處理工序中掩模板需要經(jīng)過相應(yīng)的處理線(顯影處理線、蝕刻處理線、前處理線等)，由于掩模板非常薄(通常為50 μ m左右)，在過處理線過程中由于掩模板處于一定程度的自由狀態(tài)，極易發(fā)生形變，掩膜板常常因此而報廢，有鑒于此，有必要發(fā)明一種工具，解決掩模板因過處理線變形報廢的問題。
[0005]
【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個。本發(fā)明提供了一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具。
[0007]所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，包括邊框架及在所述邊框架上的開口，其特征在于，所述邊框架包括兩組相對共四條對邊并在四條對邊中央形成中空區(qū)域，所述開口為位于四條所述對邊上的長條開口或離散開口 ；所述對邊由內(nèi)邊和外邊構(gòu)成，所述開口位于所述內(nèi)邊和所述外邊之間。
[0008]根據(jù)本發(fā)明【背景技術(shù)】中對現(xiàn)有技術(shù)所述，在通常蒸鍍用掩模板的制作工序包括:前處理一貼膜一曝光一顯影一蝕刻(或電鑄)一脫膜一固定等工序，其中顯影、蝕刻、前處理工序中掩模板需要經(jīng)過相應(yīng)的處理線(顯影處理線、蝕刻處理線、前處理線等)，由于掩模板非常薄(通常為50 μ m左右)，在過處理線過程中由于掩模板處于一定的自由狀態(tài)，極易發(fā)生形變，導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量差，變形嚴(yán)重的甚至?xí)?dǎo)致產(chǎn)品報廢，掩膜板常常因此而報廢；本發(fā)明提供的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具可以將掩模板四邊進行聯(lián)接并固定使其具有一定的張力從而使其表面平整，在經(jīng)過相應(yīng)的處理線時，不出現(xiàn)形變，減少報廢率，節(jié)約生產(chǎn)成本，提升效率。
[0009] 另外，根據(jù)本發(fā)明公開的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具還具有如下附加技術(shù)特征:所述邊框架是一體成型結(jié)構(gòu)或四條獨立所述對邊拼接形成的結(jié)構(gòu)。
[0010]所述邊框架可以是一體加工成型結(jié)構(gòu)，使得整體精度更高，誤差更?。辉谶M行精密加工過程中，能夠達到更高的精度要求,但此方法的成本相對要高；所述邊框架還可以是由四條獨立所述對邊拼接形成的結(jié)構(gòu)，從此，使得邊框架加工更加簡便，通過定位機構(gòu)的精確定位及牢固的固定連接方式進行連接也可達到相同的效果。
[0011]進一步地，所述邊框架形成的中空區(qū)域是多邊形或者圓形 優(yōu)選地，所述多邊形為矩形。
[0012]優(yōu)選地，所述多邊形夾角處為過渡曲線。
[0013]進一步地，定位機構(gòu)可以是定位銷形成的定位機構(gòu)，或者是定位邊形成的定位機構(gòu)。
[0014]進一步地,所述拼接結(jié)構(gòu)為鉚接或粘結(jié)或螺釘連接結(jié)構(gòu)。
[0015]優(yōu)選地，所述拼接結(jié)構(gòu)是粘結(jié)結(jié)構(gòu)。
[0016]所述內(nèi)邊寬度為大于等于1cm，且可以根據(jù)情況進行不同的寬度設(shè)計，即可以在上述范圍內(nèi)進行擴展，但不能遮擋掩模板上的圖形區(qū)域；所述內(nèi)邊寬度越大，可以支撐所述掩模板的部位越多，越能避免所述掩模板因自身重力造成的懸空部分下垂所引起的相應(yīng)變形，減少加工過程中成品的報廢率，提高產(chǎn)品質(zhì)量，減少產(chǎn)品的報廢率。
[0017]所述外邊寬度為大于等于lcm，且可以根據(jù)情況進行不同的寬度設(shè)計，即可以在上述范圍內(nèi)進行擴展，所述 內(nèi)邊和外邊寬度的增加，一方面增加了整體的重量，另一方面增加了所述輔助治具與處理線傳輸機構(gòu)的接觸面積，增加了傳送過程中的穩(wěn)定性，減少傳送過程中可能出現(xiàn)的位置變動形成新的誤差來源。
[0018]所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具還包括與所述內(nèi)邊框相連的橫梁和豎梁，所述輔助治具可以只有橫梁或只有豎梁。
[0019]所述橫梁和豎梁的厚度可以和所述輔助治具厚度相同，或者小于所述輔助治具的厚度，增加的所述橫梁、豎梁也增加了對所述掩模板的支撐，減少所述掩模板因自身重力造成的懸空部分下垂所引起的相應(yīng)變形。所述橫梁和豎梁的形狀也不能遮擋住所述掩模板的圖形區(qū)域。
[0020]優(yōu)選地,所述橫梁和所述豎梁相互垂直。
[0021]本發(fā)明還提供了相應(yīng)的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法，其特征在于包括:
S1:對位步驟，將掩模板貼緊放置在所述輔助治具表面，將所述掩模板的圖形區(qū)域?qū)?yīng)所述輔助治具上的所述中空區(qū)域以及將所述掩模板的邊孔區(qū)域?qū)?yīng)所述輔助治具上的所述長條開口或所述離散開口，并確認(rèn)所述掩模板圖形區(qū)域和所述邊孔區(qū)域不被遮擋；
S2:固定步驟，將所述掩模板的四邊緊密連接在所述輔助治具的所述外邊上。
[0022]另外，根據(jù)本發(fā)明公開的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法還具有如下附加技術(shù)特征:
所述輔助治具使用方法還包括在對位步驟之后且固定步驟之前的繃緊步驟，所述繃緊步驟中，將所述掩模板四邊施力使所述掩模板表面平整。
[0023]進一步地，所述固定步驟中，所述連接是使用粘結(jié)材料進行連接或使用固體連接部件進行連接。[0024]進一步地，所述對位步驟中，將所述掩模板和所述輔助治具一對一進行對位，或是所述掩模板和所述輔助治具一對二進行對位，即將所述掩模板置于兩塊所述輔助治具之間。兩塊輔助治具的同時使用，進一步促進了掩模板的表面平整，減少了加工過程中的形變，減少了報廢率。
[0025]本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。
[0026]【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從下面結(jié)合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中:
圖1是一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具平面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是另一用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具平面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是本發(fā)明的一種外邊加寬的實施例平面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4為本發(fā)明的一種具有橫梁、豎梁的實施例平面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖5為掩模板固定到輔助治具后掩模板一側(cè)的示意圖；
圖6為將掩模板固定到輔助治具后輔助治具一側(cè)的平面結(jié)構(gòu)示意圖；
圖7是本發(fā)明輔助治具上開口為離散開口的實施例示意圖；
圖8是本發(fā)明輔助治具上沒`有長條開口的實施例示意圖；
圖9是本發(fā)明輔助治具上只有一組對邊上設(shè)置長條開口的實施例示意圖；
圖1中，11為邊框架；12為長條開口 ；111、112為對邊；1111、1121為外邊；1112、1122為內(nèi)邊；A為中空區(qū)域；
圖4中，113為橫梁；114為豎梁；
圖5中，21為掩模板；211為圖形區(qū)域；212為邊孔；31為粘接部件。
[0028]【具體實施方式】
[0029]下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能解釋為對本發(fā)明的限制。
[0030]在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內(nèi)”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0031]在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。
[0032]本發(fā)明的發(fā)明構(gòu)思如下，通常蒸鍍用掩模板的制作工序包括:前處理一貼膜一曝光一顯影一蝕刻(或電鑄)一脫膜一固定等工序，其中顯影、蝕刻、前處理工序中掩模板需要經(jīng)過相應(yīng)的處理線(顯影處理線、蝕刻處理線、前處理線等)，由于掩模板非常薄(通常為
50μ m左右)，在過處理線過程中由于掩模板處于一定的自由狀態(tài)，極易發(fā)生形變，掩膜版常常因此而報廢，本發(fā)明提供的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具通過對預(yù)經(jīng)處理線(顯影處理線、蝕刻處理線、前處理線等)加工的掩模板進行施力繃緊固定保證了掩模板表面平整無變形，減少報廢率，節(jié)約生產(chǎn)成本，提升效率。
[0033]
下面將參照附圖來描述本發(fā)明的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，其中圖1是一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具平面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是另一用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具平面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3是本發(fā)明的一種外邊加寬的實施例平面結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明的一種具有橫梁、豎梁的實施例平面結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為掩模板固定到輔助治具后掩模板一側(cè)的示意圖；圖6為將掩模板固定到輔助治具后輔助治具一側(cè)的平面結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本發(fā)明輔助治具上開口為離散開口的實施例示意圖；圖8是本發(fā)明輔助治具上沒有長條開口的實施例示意圖；圖9是本發(fā)明輔助治具上只有一組對邊上設(shè)置長條開口的實施例示意圖。
[0034]根據(jù)本發(fā)明的實施例，如圖1_4、7所示，所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具包括邊框架11及在所述邊框架11上的開口 12，所述邊框架11包括兩組相對共四條對邊111、112并在四條對邊中央形成中空區(qū)域A所述開口為位于四條所述對邊上的長條開口 12或離散開口 120 ;所述對邊111、112由內(nèi)邊1112、1122和外邊1111、1121構(gòu)成，所述開口位于所述內(nèi)邊1112、1122和所述外邊1111、1121之間。
[0035]另外，根據(jù)本發(fā)明公開的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具的還具有如下附加技術(shù)特征:` 根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述邊框架11是一體成型結(jié)構(gòu)或四條獨立所述對邊111、112拼接形成的結(jié)構(gòu)，如圖1_4、7所示。
[0036]所述邊框架11可以是一體加工成型結(jié)構(gòu)，使得整體精度更高，誤差更小，在進行精密加工過程中，能夠達到更高的精度要求,但此方法的成本相對要高；所述邊框架11還可以是由四條獨立所述對邊111、112拼接形成的結(jié)構(gòu)，由此，使得邊框架11加工更加簡便，通過定位機構(gòu)的精確定位及牢固的固定連接方式進行連接也可達到相同的效果。
[0037]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述邊框架形成的中空區(qū)域A是多邊形或者圓形，圖1-4、7所示。
[0038]優(yōu)選地，所述多邊形為矩形。
[0039]優(yōu)選地，所述多邊形夾角處為過渡曲線。
[0040]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，定位機構(gòu)可以是定位銷形成的定位機構(gòu)，
可選地，定位機構(gòu)是設(shè)置在對邊111、112上的定位邊形成的定位機構(gòu)。
[0041]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述拼接結(jié)構(gòu)為鉚接或粘結(jié)或螺釘連接結(jié)構(gòu)。
[0042]優(yōu)選地，所述拼接結(jié)構(gòu)是粘結(jié)結(jié)構(gòu)。
[0043]根據(jù)本發(fā)明的實施例，如圖3、4所示，所述內(nèi)邊1112、1122寬度為大于等于lcm，且可以根據(jù)情況進行不同的寬度設(shè)計，即可以在上述范圍內(nèi)進行擴展，但不能遮擋掩模板21上的圖形區(qū)域211 ;所述內(nèi)邊1112、1122寬度越大，可以支撐所述掩模板21的部位越多，越能避免所述掩模板21因自身重力造成的懸空部分下垂所引起的相應(yīng)變形，減少加工過程中成品的報廢率，提高產(chǎn)品質(zhì)量。
[0044]根據(jù)本發(fā)明的實施例，如圖3、4所示，所述外邊1111、1121寬度為大于等于1cm，且可以根據(jù)情況進行不同的寬度設(shè)計，即可以在上述范圍內(nèi)進行擴展，所述內(nèi)邊1112、1122和外邊1111、1121寬度的增加，一方面增加了整體的重量，另一方面增加了所述輔助治具與處理線傳輸機構(gòu)的接觸面積，增加了傳送過程中的穩(wěn)定性，減少傳送過程中可能出現(xiàn)的位置變動形成新的誤差來源。
[0045]根據(jù)本發(fā)明的實施例，如圖4所示，所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具還包括與所述內(nèi)邊1112、1122相連的橫梁113和豎梁114，所述輔助治具可以只有橫梁113或只有豎梁114。[0046]所述橫梁113和豎梁114的厚度可以和所述輔助治具厚度相同，或者小于所述輔助治具的厚度，增加的所述橫梁113、豎梁114也增加了對所述掩模板21的支撐，減少所述掩模板因自身重力造成的懸空部分下垂所引起的相應(yīng)變形。所述橫梁和豎梁的形狀也不能遮擋住所述掩模板21的圖形區(qū)域211。
[0047]優(yōu)選地,所述橫梁113和所述豎梁114相互垂直，如圖4所示。
[0048]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所使用的輔助治具可以不帶長條開口，如圖8所示，其邊框為3cm，可以相應(yīng)的調(diào)整邊框的寬度，以及適當(dāng)?shù)奶砑訖M梁或豎梁，其原因在于當(dāng)模板過前處理線(主要是清洗、除油污)時對邊孔開口的要求不高，可以不進行清洗、除油等處理，。
[0049]根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，當(dāng)掩模板只在一組對邊上設(shè)有邊孔時，則對應(yīng)的在輔助治具上也只在一組對邊上設(shè)計長條開口，如圖9所示。
[0050]本發(fā)明還提供了相應(yīng)的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法。
[0051 ] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，包括:
51:對位步驟，將掩模板21貼緊放置在所述輔助治具表面，將所述掩模板的圖形區(qū)域?qū)?yīng)所述輔助治具上的所述中空區(qū)域A以及所述將所述掩模板的邊孔區(qū)域?qū)?yīng)所述輔助治具上的所述長條開口 12或所述離散開口 120，并確認(rèn)所述掩模板21圖形區(qū)域211和所述邊孔區(qū)域不被遮擋；
52:固定步驟，將所述掩模板21的四邊緊密連接在所述輔助治具的所述外邊1111、1121 上。
[0052]另外，根據(jù)本發(fā)明公開的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法還具有如下附加技術(shù)特征:
根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述輔助治具使用方法還包括在對位步驟之后且固定步驟之前的繃緊步驟，所述繃緊步驟中，將所述掩模板21四邊施力使掩模板21產(chǎn)生繃緊力從而使所述掩模板21表面平整。
[0053]進一步地，所述固定步驟中，所述連接是使用粘結(jié)部件31進行連接或使用固體連接部件進行連接，如圖5、6所示。
[0054]進一步地，所述對位步驟中，將所述掩模板21和所述輔助治具一對一進行對位，或是所述掩模板21和所述輔助治具一對二進行對位，即將所述掩模板21置于兩塊所述輔助治具之間。兩塊輔助治具的同時使用，進一步促進了掩模板21的表面平整，減少了加工過程中的形變，減少了報廢率。
[0055]任何提及“ 一個實施例”、“實施例”、“示意性實施例”等意指結(jié)合該實施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例中。在本說明書各處的該示意性表述不一定指的是相同的實施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點時，所主張的是，結(jié)合其他的實施例實現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。
[0056]盡管參照本發(fā)明的多個示意性實施例對本發(fā)明的【具體實施方式】進行了詳細的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計出多種其他的改進和實施例，這些改進和實施例將落在本發(fā)明原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進，而不會脫離本發(fā)明的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。`
【權(quán)利要求】
1.一種制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，包括邊框架及在所述邊框架上的開口，其特征在于，所述邊框架包括兩組相對共四條對邊并在四條對邊中央形成中空區(qū)域，所述開口為位于四條所述對邊上的長條開口或離散開口 ；所述對邊由內(nèi)邊和外邊構(gòu)成，所述開口位于所述內(nèi)邊和所述外邊之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，其特征在于，所述邊框架是一體成型結(jié)構(gòu)或四條獨立所述對邊拼接形成的結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，其特征在于，所述拼接結(jié)構(gòu)為鉚接或粘結(jié)或螺釘連接結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，其特征在于，所述用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具還包括與所述內(nèi)邊框相連的橫梁和豎梁。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具，其特征在于，所述橫梁和所述豎梁相互垂直。
6.一種用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法，其特征在于，包括: S1:對位步驟，將掩模板貼緊放置在所述輔助治具表面，將所述掩模板的圖形區(qū)域?qū)?yīng)所述輔助治具上的所述中空區(qū)域以及將所述掩模板的邊孔區(qū)域?qū)?yīng)所述輔助治具上的所述長條開口或所述離散開口，并確認(rèn)所述掩模板圖形區(qū)域和所述邊孔區(qū)域不被遮擋； S2:固定步驟，將所述掩模板的四邊緊密連接在所述輔助治具的所述外邊上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法，其特征在于，所述輔助治具使用方法還包括在對位步驟之后且固定步驟之前的繃緊步驟，所述繃緊步驟中，將所述掩模板四邊施力使所述掩模板表面平整。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于`制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法，其特征在于，所述固定步驟中，所述連接是使用粘結(jié)部件進行連接或使用固體連接部件進行連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制作大面積蒸鍍用掩模板的輔助治具使用方法，其特征在于，所述對位步驟中，將所述掩模板和所述輔助治具一對一進行對位，或是所述掩模板和所述輔助治具一對二進行對位，即將所述掩模板置于兩塊所述輔助治具之間。
【文檔編號】C23C14/04GK103866228SQ201210525031
【公開日】2014年6月18日 申請日期:2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月10日
【發(fā)明者】魏志凌, 高小平, 王海峰, 楊志龍 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司