掩模拉伸裝置、掩模片以及包括這些的掩模制造系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開掩模拉伸裝置。根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模拉伸裝置，包括：夾具，支撐布置于掩模框架上的掩模片，以將所述掩模片結(jié)合到所述掩?？蚣苌?；拉伸機(jī)構(gòu)，連接于所述夾具，朝所述夾具施加拉伸力，以將通過所述夾具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夾具沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向排列而支撐所述掩模片。
【專利說明】掩模拉伸裝置、掩模片以及包括這些的掩模制造系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及掩模制造系統(tǒng)，尤其涉及應(yīng)用于有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造中的氣相沉積掩模的掩模拉伸裝置、掩模片以及包括這些的掩模制造系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光顯示裝置包括兩個(gè)電極和設(shè)置在兩個(gè)電極之間的有機(jī)發(fā)光層，從一個(gè)電極注入的電子(electron)和從另一個(gè)電極注入的空穴(hole)在有機(jī)發(fā)光部件結(jié)合而形成激子，該激子(exciton)釋放能量的同時(shí)發(fā)光。
[0003]為了形成這種有機(jī)發(fā)光層，需要將有機(jī)物氣相沉積到基板之上。為此，對(duì)于裝填有有機(jī)物的氣相沉積源進(jìn)行加熱而使有機(jī)物蒸發(fā)并噴射到基板之上。此時(shí)，使用在預(yù)定部位形成開口部而實(shí)現(xiàn)氣相沉積，而剩余的部位通過由金屬材質(zhì)形成的遮斷部進(jìn)行遮掩的氣相沉積掩模，以使蒸發(fā)并噴射的有機(jī)物氣相沉積為預(yù)定圖案。這種氣相沉積掩模根據(jù)制造方法區(qū)分為母板方式的母掩模和分割方式的分割掩模。母板方式是利用設(shè)置在母掩模制造裝置的上下左右的夾具對(duì)母掩模片施加四個(gè)方向的拉伸力之后，將母掩模片熔接到掩?？蚣芏圃鞖庀喑练e掩模的方法，分割方式是利用設(shè)置在分割掩模制造裝置的兩端的夾具對(duì)被分割為單元格單位的分割掩模的兩端部沿兩端方向施加拉伸力之后，將分割掩模片熔接到掩?？蚣芏圃鞖庀喑练e模的方法。
[0004]尤其分割方式由于可以選別出合格品使用，且維修容易，因此主要適用于批量生產(chǎn)。但是，由于現(xiàn)有的分割掩模通過夾具夾住分割掩模片的兩端部并在掩模片兩端部沿掩模片的延伸方向施加拉伸力，因此夾具和拉伸力施加裝置位于掩?？蚣艿膬蓚?cè)，根據(jù)掩?？蚣艿拇笮。瑠A具和拉伸力施加裝置占據(jù)較大的空間。
[0005]尤其,近年來隨著掩?？蚣艿拇笮∽兇螅Y(jié)合分割掩模片的掩?？蚣苄纬蔀榘鄠€(gè)開口，因而當(dāng)需要在各個(gè)開口結(jié)合多個(gè)分割掩模片時(shí)，在掩?？蚣艿膬啥瞬吭O(shè)置夾具和拉伸力施加裝置的狀態(tài)下，存在夾具難以夾住分割掩模片的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明是為了解決前述【背景技術(shù)】的問題而提出的，提供一種能夠節(jié)省用于拉伸掩模片的夾具和拉伸力施加裝置的設(shè)置空間的掩模拉伸裝置、掩模片以及包括這些的掩模制造系統(tǒng)。
[0007]而且，本發(fā)明提供一種能夠在包含多個(gè)開口的掩?？蚣苌先菀椎亟Y(jié)合掩模片的掩模拉伸裝置、掩模片以及包括這些的掩模制造系統(tǒng)。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，提供一種掩模拉伸裝置，包括:夾具，支撐布置于掩?？蚣苌系难谀Ｆ?，以將所述掩模片結(jié)合到所述掩模框架上；拉伸機(jī)構(gòu)，連接于所述夾具，朝所述夾具施加拉伸力，以將通過所述夾具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夾具沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向排列而支撐所述掩模片。
[0009]此時(shí)，所述夾具可結(jié)合于形成在所述掩模片的端部的突出部。[0010]此時(shí)，所述掩模片的突出部可形成于所述掩模片的四個(gè)拐角上。
[0011]此時(shí)，所述拉伸機(jī)構(gòu)可沿所述掩模片的延伸方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝?，或者可沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝Α?br> [0012]此時(shí)，還可以包括朝所述掩?？蚣軅?cè)對(duì)所述掩模片施壓的施壓部件。
[0013]此時(shí)，所述施壓部件可形成為一對(duì)，以對(duì)所述掩模片的兩端部施壓。
[0014]此時(shí)，所述施壓部件可包括對(duì)所述掩模片施壓的施壓面為四方形的塊或所述施壓面為曲面的輥?zhàn)印?br> [0015]根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，提供一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置用掩模片，該掩模片熔接結(jié)合于有機(jī)發(fā)光顯示裝置用掩模框架上，且端部形成有能夠結(jié)合夾具的突出部。
[0016]此時(shí)，所述突出部可形成于所述掩模片的四個(gè)拐角上。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的又一 實(shí)施例，提供一種掩模制造系統(tǒng)，包括掩?？蚣?；布置于所述掩?？蚣苌系难谀Ｆ谎谀＠煅b置；將所述掩模片結(jié)合于所述掩?？蚣苌系慕Y(jié)合裝置，其中，所述掩模拉伸裝置包括:夾具，支撐所述掩模片，以將所述掩膜片結(jié)合到所述掩?？蚣苌?；拉伸機(jī)構(gòu)，連接于所述夾具，朝所述夾具施加拉伸力，以將通過所述夾具固定的所述掩模片固定于所述掩?？蚣?，其中，所述夾具沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向排列而支撐所述掩模片。
[0018]此時(shí)，所述夾具可結(jié)合于形成在所述掩模片的端部的突出部。
[0019]此時(shí)，所述掩模片的突出部可形成于所述掩模片的四個(gè)拐角上。
[0020]此時(shí)，所述拉伸機(jī)構(gòu)可沿所述掩模片的延伸方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝?，或者可沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝Α?br> [0021]此時(shí)，還可以包括朝所述掩?？蚣軅?cè)對(duì)所述掩模片施壓的施壓部件。
[0022]此時(shí)，所述施壓部件可形成為一對(duì)，以對(duì)所述掩模片的兩端部施壓。
[0023]此時(shí)，所述施壓部件可包括對(duì)所述掩模片施壓的施壓面為四方形的塊或所述施壓面為曲面的輥?zhàn)印?br> [0024]此時(shí)，所述掩模框架可包括彼此并排的一對(duì)第一框架和沿垂直于所述第一框架的方向結(jié)合于所述一對(duì)第一框架，并排列成彼此分隔的兩個(gè)以上的第二框架。
[0025]此時(shí)，在由所述掩?？蚣艿乃鲆粚?duì)第一框架和彼此相鄰的兩個(gè)第二框架所形成的一個(gè)開口可結(jié)合多個(gè)掩模片。
[0026]另外，所述結(jié)合裝置可以是熔接裝置，以用于將所述掩模片熔接于所述掩?？蚣堋?br> [0027]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的掩模制造裝置，由于夾具被布置為沿與掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向夾住掩模片，因此夾具和拉伸機(jī)構(gòu)不會(huì)在掩?？蚣艿膬啥瞬可吓c掩模片的延伸方向并排而布置，從而能夠節(jié)省夾具和拉伸裝置的設(shè)置空間。
[0028]而且，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的掩模制造裝置，由于在夾具沿與掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向夾住掩模片之后拉伸掩模片，因此即使掩?？蚣茏兇螅褂糜诮Y(jié)合分割掩模片的開口形成為多個(gè)，也能夠不受掩?？蚣艿母缮娑鴬A住并拉伸掩模片。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1為根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的立體圖。
[0030]圖2為用在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模片的立體圖。[0031]圖3為根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置的立體圖。
[0032]圖4為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置拉伸掩模片的狀態(tài)的剖視圖。
[0033]圖5為示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置拉伸掩模片的狀態(tài)的剖視圖。
[0034]圖6為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置的剖視圖。
[0035]圖7為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置拉伸掩模片的狀態(tài)的剖視圖。
[0036]圖8為示出在根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)中輥?zhàn)訝钍翰考?duì)掩模片施壓的狀態(tài)的剖視圖。
[0037]主要符號(hào)說明
[0038]1、I'、1":掩模制造系統(tǒng)
[0039]2:掩?？蚣?br> [0040]10、10'、10":掩模拉伸裝置
[0041]13:夾具
[0042]14:拉伸機(jī)構(gòu)
[0043]20:掩模片`
[0044]30:結(jié)合裝置
[0045]40:施壓部件
[0046]42:施壓輥?zhàn)?br> 【具體實(shí)施方式】
[0047]以下，參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實(shí)施例，以使本發(fā)明所屬的【技術(shù)領(lǐng)域】里的具有普通知識(shí)的技術(shù)人員能夠容易地實(shí)施。本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)為各種不同的形態(tài)，并不局限于在此說明的實(shí)施例。為了更加清楚地說明本發(fā)明，圖中省略了與說明無關(guān)的部分，在整個(gè)說明書中，對(duì)于相同或類似的構(gòu)成要素使用了相同的標(biāo)記。
[0048]圖1為根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的立體圖。圖2為用在根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模片的立體圖。圖3為根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置的立體圖。圖4為示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置拉伸掩模片的狀態(tài)的剖視圖。
[0049]參照?qǐng)D1，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I包括掩?？蚣?、掩模片20、掩模拉伸裝置10和結(jié)合裝置30。
[0050]掩模框架2是為了形成掩模而結(jié)合掩模片20的構(gòu)成要素。根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，由圖1可知，掩?？蚣?包括沿第一方向延伸且彼此并排的一對(duì)第一框架2a和沿垂直于第一框架2a的第二方向延伸而與第一框架結(jié)合，被排列成相互分隔的兩個(gè)以上，例如三個(gè)的第二框架 2b、2c、2d。
[0051]此時(shí)，由掩?？蚣?的一對(duì)第一框架2a和彼此相鄰的兩個(gè)第二框架2b、2c所形成的開口 3上結(jié)合有多個(gè)掩模片20,從圖1觀察時(shí),多個(gè)掩模片20沿上下方向并排布置。如此，在一個(gè)開口 3上結(jié)合有多個(gè)掩模片20的根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模可以是分割掩模。[0052]結(jié)合于掩?？蚣?的掩模片20包括具備預(yù)定圖案的開口部21的掩模片主體22和突出形成于所述掩模片主體22的兩端部的突出部24。
[0053]此時(shí)，參照?qǐng)D2，掩模片20的突出部24沿與掩模片主體22的延伸方向垂直的方向突出地形成于掩模片主體22的四個(gè)拐角上。突出部24可形成薄的板材狀等能夠安裝到夾具的多種形態(tài)。
[0054]雖然在本實(shí)施例中構(gòu)成為在四邊形掩模片主體22的四個(gè)拐角分別突出形成薄的板材狀突出部24，但只要在掩模片的兩端部，夾具能夠安裝到突出部而拉伸掩模片，則形成于掩模片主體的兩端部的突出部的數(shù)量和形態(tài)可實(shí)現(xiàn)為多種多樣。
[0055]為了將具有這種結(jié)構(gòu)的掩模片20結(jié)合到掩?？蚣?，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I具備掩模拉伸裝置10和結(jié)合裝置30。此時(shí)，用于將掩模片20結(jié)合到掩?？蚣?的結(jié)合裝置30可以是公知的熔接裝置。
[0056]根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例，利用掩模拉伸裝置10將掩模片20固定在掩?？蚣?0上，并利用熔接裝置熔接掩模片20和掩?？蚣?的接合區(qū)域，據(jù)此制作掩模。
[0057]此時(shí)，參照?qǐng)D3，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模拉伸裝置10包括夾具12和拉伸機(jī)構(gòu)14。
[0058]夾具12是為了將掩模片20結(jié)合到掩模框架2而與掩模片20的突出部24結(jié)合，以固定掩模片20的構(gòu)成要素。
[0059]在掩模拉伸裝置10上的夾具12的相反側(cè)結(jié)合有用于向夾具12施加拉伸力的拉伸機(jī)構(gòu)14。夾具12和拉伸機(jī)構(gòu)14之間設(shè)置有拉伸力測量機(jī)構(gòu)13，據(jù)此構(gòu)成為能夠測量施加于夾具的拉伸力。
[0060]此時(shí)，構(gòu)成根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I的掩模拉伸裝置10的夾具、拉伸力測量機(jī)構(gòu)和拉伸機(jī)構(gòu)可使用具有公知結(jié)構(gòu)的夾具、拉伸力測量機(jī)構(gòu)和拉伸機(jī)構(gòu)，因此省略對(duì)其的詳細(xì)說明。
[0061]根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I可包括四個(gè)掩模拉伸裝置10，以在形成于掩模片20的四個(gè)拐角的突出部24上分別結(jié)合一個(gè)夾具12。
[0062]另外，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I中，如圖4所示，掩模拉伸裝置10形成為沿與掩模片20的延伸方向垂直的方向排列，從而使掩模拉伸裝置10的夾具12結(jié)合到掩模片20的突出部24。
[0063]如圖4所示，在掩模片20的突出部24上結(jié)合有夾具12的掩模拉伸裝置10形成為沿掩模片20的延伸方向，即掩模片20的兩側(cè)方向拉伸掩模片20。
[0064]如此，在掩模拉伸裝置10的夾具12在垂直的方向結(jié)合掩模片20的突出部24的狀態(tài)下，掩模拉伸裝置10的拉伸機(jī)構(gòu)沿掩模片20的延伸方向拉伸掩模片20，由此掩模片20接合于掩?？蚣堋?br> [0065]此時(shí)，參照?qǐng)D4，假設(shè)掩?？蚣?的兩個(gè)第二框架2b、2c之間的距離為LI時(shí)，掩模片20的延伸方向長度Lm大于LI,據(jù)此在掩模片20置于掩?？蚣?的兩個(gè)第二框架2b、2c之上的狀態(tài)下，掩模片20的兩端部分別與彼此相鄰的掩?？蚣?的兩個(gè)第二框架2b、2c上側(cè)接觸而置于兩個(gè)第二框架2b、2c之上。
[0066]如此，在掩模片20接觸于掩模框架2的狀態(tài)下，熔接裝置接合掩模片20和掩模框架2的接觸部，由此掩模片20熔接接合于掩?？蚣?。[0067]此時(shí)，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模拉伸裝置10可形成為與固定掩模框架2的基底(未圖示)連接的形態(tài)，或者與設(shè)置掩?？蚣?的基底分離為個(gè)體的形態(tài)。
[0068]根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，由于掩模拉伸裝置10排列在與結(jié)合于掩?？蚣?上的掩模片20垂直的方向，因此掩模拉伸裝置10無需布置在掩?？蚣?的第二框架的最外側(cè)，即，從圖1觀察時(shí)，位于兩側(cè)端部的第二框架2b、2d的外側(cè)，而是可在需要安裝的掩?？蚣?上，位于掩模片20兩端部的上側(cè)。
[0069]由此，現(xiàn)有的掩模拉伸裝置為了在掩?？蚣艿膬蓚?cè)端部朝兩側(cè)方向拉伸掩模片，在掩模框架的兩側(cè)部設(shè)置掩模拉伸裝置，以構(gòu)成掩模拉伸裝置位于掩模框架的兩端部的結(jié)構(gòu)，因此包含掩模拉伸裝置的掩模制造系統(tǒng)在空間上占據(jù)較大空間，與此不同，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I無需為了拉伸掩模片而設(shè)置在掩模框架的兩側(cè)部，因而可以節(jié)省掩模拉伸裝置10的設(shè)置空間。
[0070]而且，根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I的掩模拉伸裝置10由于能夠在位于具備多個(gè)開口的掩?？蚣?的中間部分的第二框架2c上側(cè)與掩模片20的突出部24結(jié)合而拉伸掩模片20，因此即使在掩?？蚣?具備多個(gè)開口的情況下，也可以在各個(gè)掩模框架2的開口容易地接合掩模片20。
[0071]以下，改變圖而說明根據(jù)本發(fā)明其他實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)。
[0072]圖5為示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I'的掩模拉伸裝置拉伸掩模片的狀態(tài)的剖視圖。
[0073]在對(duì)于根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)1’進(jìn)行說明時(shí)，對(duì)于與第一實(shí)施例相同的結(jié)構(gòu)省略詳細(xì)的說明，而僅以區(qū)別于第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)為中心說明根據(jù)第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I,。
[0074]根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)1‘與第一實(shí)施例不同，掩模拉伸裝置10'形成為沿與掩模片20的延伸方向傾斜的方向拉伸掩模片20，而不是沿與掩模片20的延伸方向垂直的方向拉伸掩模片20。
[0075]為此，根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)1’的掩模拉伸裝置1(V中，夾具12沿相對(duì)掩模片20的延伸方向傾斜預(yù)定角度α的方向排列。
[0076]此時(shí)，掩模拉伸裝置10'可排列為掩模拉伸裝置10'本身與掩模片20的延伸方向傾斜，或者可排列為僅使與掩模片20的突出部24結(jié)合的夾具12傾斜。
[0077]此時(shí)，掩模片20的突 出部24也可以形成為相對(duì)掩模片20的延伸方向傾斜，以使掩模拉伸裝置10'相對(duì)掩模片20沿傾斜方向容易地結(jié)合。
[0078]如此，在掩模拉伸裝置1(V沿相對(duì)掩模片20的延伸方向傾斜的方向排列的狀態(tài)下拉伸掩模片20時(shí)，掩模拉伸裝置1(V的拉伸方向可以是與掩模片20的延伸方向平行的方向。
[0079]根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)1‘中，在掩模拉伸裝置1(V沿相對(duì)掩模片20的延伸方向傾斜地與掩模片20的突出部24結(jié)合而拉伸掩模片20的期間，熔接裝置熔接掩?？蚣?和掩模片20的接觸部而制作掩模。
[0080]此時(shí)，掩模拉伸裝置1(V或夾具12相對(duì)于掩模片20的拉伸方向傾斜的角度α可考慮設(shè)置掩模拉伸裝置10'的空間和拉伸掩模片20的拉伸力大小以及掩模拉伸裝置10'的大小等而進(jìn)行選擇。[0081]根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)中，掩模拉伸裝置10的基本結(jié)構(gòu)和數(shù)量等可以與前述的根據(jù)第一實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)類似，因此省略對(duì)其的詳細(xì)說明。
[0082]圖6為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置的剖視圖。圖7為示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)的掩模拉伸裝置拉伸掩模片的狀態(tài)的剖視圖。圖8為示出在根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)中輥?zhàn)訝钍翰考?duì)掩模片施壓的狀態(tài)的剖視圖。
[0083]在對(duì)于根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)進(jìn)行說明時(shí)，對(duì)于與前述實(shí)施例相同的結(jié)構(gòu)，省略詳細(xì)的說明，而僅以區(qū)別于前述實(shí)施例的結(jié)構(gòu)為中心說明根據(jù)第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)。
[0084]參照?qǐng)D6，根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)I"，在根據(jù)第二實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)P中增加了施壓部件40。
[0085]施壓部件40是用于在掩模片20接觸于掩模框架2之上的狀態(tài)下,朝掩?？蚣?側(cè)對(duì)掩模片20施壓的部件。
[0086]施壓部件40形成為如圖7所示的剖面為四方形的塊狀，以使與掩模片20接觸的面形成平面，例如形成四方形平面，或者形成為附圖8所示的摩擦輪(friction roller)42形狀。
[0087]此時(shí)，如圖6所示，施壓部件40形成為與掩模片20形成間隔，從而在掩模拉伸裝置10"離開掩模片20的突出部24狀態(tài)下不會(huì)對(duì)掩模片20施壓。
[0088]如圖7所示，施壓部件形成為，在掩模拉伸裝置10"結(jié)合于掩模片20的突出部24的狀態(tài)下，在掩模片20的兩端部對(duì)第`二框架2b、2c的上部施壓。
[0089]如此，在施壓部件40對(duì)掩模片20施壓的狀態(tài)下，掩模拉伸裝置10"拉伸掩模片20。
[0090]此時(shí)，在施壓部件40對(duì)掩模片20施壓的狀態(tài)下，掩模拉伸裝置10"的拉伸方向可以是與掩模片20的延伸方向平行的方向、與掩模片的延伸方向傾斜的方向或者與掩模片的延伸方向垂直的方向。
[0091]在施壓部件40沒有對(duì)掩模片20施壓的狀態(tài)下，掩模拉伸裝置10"沿與掩模片20的延伸方向垂直的方向拉伸掩模片20時(shí),掩模片20有可能不接觸于掩?？蚣?而被分離，因此可能難以進(jìn)行熔接。
[0092]因此，如本發(fā)明第三實(shí)施例所示，通過施壓部件40對(duì)掩模片20施壓，從而能夠更加容易地使掩模片20接觸于掩?？蚣?。
[0093]此時(shí)，對(duì)掩模片20施壓的施壓部件40的大小、形狀以及施壓程度可考慮掩模片的熔接位置等做出適當(dāng)?shù)倪x擇。
[0094]根據(jù)本發(fā)明的多個(gè)實(shí)施例的掩模制造系統(tǒng)中，包含夾具的掩模拉伸裝置構(gòu)成為在與掩模片的延伸方向不平行的方向移動(dòng)而拉伸掩模，因此能夠避免受到設(shè)置掩模片的掩模框架位置的影響而以分割方式拉伸掩模。
[0095]因此，如此地進(jìn)行拉伸時(shí)，即使在制造如同8G的包含多個(gè)面板的大型尺寸的掩模，掩模片的尺寸也無需變大為整個(gè)8G面板區(qū)域，在進(jìn)行掩模的制造和維修作業(yè)時(shí)，也能夠容易地控制掩模片。
[0096]以上對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施例進(jìn)行了說明，但本發(fā)明的思想并不局限于本說明中舉出的實(shí)施例，理解本發(fā)明的思想的本領(lǐng)域技術(shù)人員可在相同的思想范圍之內(nèi)，通過構(gòu)成要素的增加、變更、刪除等 容易地提出其他實(shí)施例，但這也屬于本發(fā)明的思想范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模拉伸裝置，其特征在于，包括: 夾具，支撐布置于掩?？蚣苌系难谀Ｆ詫⑺鲅谀ＦY(jié)合到所述掩?？蚣?； 拉伸機(jī)構(gòu)，連接于所述夾具，朝所述夾具施加拉伸力，以將通過所述夾具固定的所述掩模片固定于所述掩?？蚣?， 其中，所述夾具沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向排列而支撐所述掩模片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模拉伸裝置，其特征在于，所述夾具結(jié)合于形成在所述掩模片的端部的突出部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模拉伸裝置，其特征在于，所述掩模片的突出部形成于所述掩模片的四個(gè)拐角上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模拉伸裝置，其特征在于，所述拉伸機(jī)構(gòu)沿所述掩模片的延伸方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝?，或者沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝Α?br> 5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模拉伸裝置，其特征在于，還包括朝所述掩模框架側(cè)對(duì)所述掩模片施壓的施壓部件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模拉伸裝置，其特征在于，所述施壓部件形成為一對(duì)，以對(duì)所述掩模片的兩端部施壓。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模拉伸裝置，其特征在于，所述施壓部件包括對(duì)所述掩模片施壓的施壓面為四方形的塊或所述施壓面為曲面的輥?zhàn)印?br> 8.一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置用掩模片，其特征在于，該掩模片熔接結(jié)合于有機(jī)發(fā)光顯示裝置用掩?？蚣苌希叶瞬啃纬捎心軌蚪Y(jié)合夾具的突出部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置用掩模片，其特征在于，所述突出部形成于所述掩模片的四個(gè)拐角上。
10.一種掩|吳制造系統(tǒng)，其特征在于，包括: 掩?？蚣?； 布置于所述掩模框架上的掩模片； 掩模拉伸裝置； 將所述掩模片結(jié)合于所述掩?？蚣苌系慕Y(jié)合裝置， 其中，所述掩模拉伸裝置包括:夾具，支撐所述掩模片，以將所述掩膜片結(jié)合到所述掩模框架；拉伸機(jī)構(gòu)，連接于所述夾具，朝所述夾具施加拉伸力，以將通過所述夾具固定的所述掩模片固定于所述掩?？蚣?， 其中，所述夾具沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向排列而支撐所述掩模片。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述夾具結(jié)合于形成在所述掩模片的端部的突出部。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模片的突出部形成于所述掩模片的四個(gè)拐角上。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述拉伸機(jī)構(gòu)沿所述掩模片的延伸方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝?，或者沿與所述掩模片的延伸方向垂直或傾斜的方向?qū)λ鲅谀Ｆ┘永炝Α?br> 14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，還包括朝所述掩?？蚣軅?cè)對(duì)所述掩模片施壓的施壓部件。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述施壓部件形成為一對(duì)，以對(duì)所述掩模片的兩端部施壓。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述施壓部件包括對(duì)所述掩模片施壓的施壓面為四方形的塊或所述施壓面為曲面的輥?zhàn)印?br> 17.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模框架包括彼此并排的一對(duì)第一框架和沿垂直于所述第一框架的方向結(jié)合于所述一對(duì)第一框架，且排列成彼此分隔的兩個(gè)以上的第二框架。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，在由所述掩模框架的所述一對(duì)第一框架和彼此相鄰的兩個(gè)第二框架所形成的一個(gè)開口能夠結(jié)合多個(gè)掩模片。
19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的掩模制造系統(tǒng)，其特征在于，所述結(jié)合裝置是熔接裝置，以用于將所述掩模片熔接于 所述掩?？蚣堋?br> 【文檔編號(hào)】C23C16/04GK103451597SQ201210454557
【公開日】2013年12月18日 申請(qǐng)日期:2012年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月31日
【發(fā)明者】姜澤教 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司