專利名稱：用于掩模組件間接對位的系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及掩模組件對位技術(shù)，尤其涉及一種用于掩模組件間接對位的系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
有機電致發(fā)光元件(OLED )因其視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率高及自備發(fā)光等特點，備受關(guān)注，并被視為使下一代的平面顯示器新興應用技術(shù)。在制造有機電致發(fā)光元件的真空蒸鍍裝置方面，在底部設置盛放有機材料的坩堝，在坩堝的外面設置使用有機材料加熱、蒸發(fā)的加熱器。在蒸鍍裝置中，設置與坩堝相對配置的夾頭以及包夾玻璃基板的絕緣部件而使該基板安裝保持在夾頭的底面的基板夾具。夾頭是用于維持玻璃基板為平面狀的平板，在基板夾中設置升降機構(gòu)，并在升降機構(gòu)上設有夾具，通過夾具固定掩?？蚣?，使其相對于基板的位置偏差控制在一定范圍內(nèi)，具有局限性。升降夾具，使掩模組件靠近基板。而且在制造有機發(fā)光元件時，在基板上，每IOum寬度的像素必須將紅、綠、藍的發(fā)光部并列，各像素的位置精度必須為±5um的程度；又由于蒸鍍過程中，溫度不斷升高，受板材受熱膨脹的影響，掩模組件會相對于基板產(chǎn)生位置偏差，因此對真空蒸鍍裝置掩模的位置精度要求很高。掩模組件上蒸鍍設備時是通過掩模板上的對位點與基板進行對位，由于掩?？蚣艿奈恢谜{(diào)試范圍存在局限性，掩模板又焊接在掩?？蚣苌?，使得僅僅通過掩模板對位點與基板進行對位無法滿足位置精度要求，因此必須保證掩模板與掩?？蚣艿奈恢闷钜惨刂圃谝欢ǚ秶鷥?nèi)。在掩模板與掩?？蚣苓M行對位時，一般米用在掩模板03及掩?？蚣?2上分別制作Mark (對位點)A、B的方法，通過C⑶對A、B的位置圖像進行捕捉，如圖1所示，使A、B
二者中心重合，完成二者的對位。由于掩模組件上蒸鍍設備時是通過掩模板03上的對位點A與基板進行對位，為了避免掩?？蚣?2上的Mark點B對掩模板03上的Mark點產(chǎn)生遮擋，就要求掩模板03上的Mark點A的直徑要小于掩?？蚣?2上的Mark點B的直徑，這樣才能保證蒸鍍對位時掩模板03上的Mark點A完全為通孔，對比度明顯，從而使得掩模板03與基板的對位精度高。然而，在掩模板與掩?？蚣苓M行對位時，通過CXD對A、B進行位置圖形捕捉，CXD視角自上而下，首先捕捉到A的位置圖像，如果B的直徑大于A的直徑，CCD較難捕捉到B的位置圖像，這樣就給掩模板03與掩?？蚣?2的對位帶來了難度，以致影響掩模板與掩?？蚣艿膶ξ痪取?br>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種能夠確保掩模板與掩?？蚣軠蚀_對位的間接對位系統(tǒng)。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明公開了一種用于掩模組件間接對位的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括:對位基臺，具有至少兩個對位銷釘以定位水平放置在對位基臺上的掩模框架；掩模板，具有滿足蒸鍍要求的開口圖形區(qū)域以及處于對角位置且在開口圖形區(qū)域外的至少兩個對位孔；掩?？蚣?，其邊框上與掩模板對位孔相對應的位置上具有對位孔，且掩?？蚣軐ξ豢椎闹睆酱笥谙鄬难谀０鍖ξ豢椎闹睆?；對位輔助板，其尺寸與掩模板的尺寸相同且其對位孔與掩模板對位孔的相對位置相同，其中對位輔助板對位孔的直徑與掩?？蚣苌舷鄬恢锰幍膶ξ豢椎闹睆较嗤?；以及CCD，自上而下捕捉對位輔助板對位孔或掩模板對位孔與相應的掩?？蚣軐ξ豢椎奈恢脠D像以檢測對位。本發(fā)明的這種間接對位系統(tǒng)確保了當掩模板的Mark點A的直徑小于掩?？蚣艿腗ark點B的直徑時使掩模板能夠與掩模框架準確對位。


圖1示出掩模板與掩?？蚣苤苯訉ξ粫r兩者的對位孔(mark)的示意圖,其中A-掩模板上的對位孔
B-掩?？蚣艿膶ξ豢?；
圖2示出掩模組件在基臺上直接對位的一個示意圖，其中
01-對位基臺 02-掩?？蚣?br> 03-掩模板
04A-掩模板對位孔 O 5A-掩模板對位孔 06 08-微調(diào)銷釘；
圖3示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的間接對位系統(tǒng)中的對位輔助板在基臺上與掩模框架間接對位的示意圖，其中
01-對位基臺
02-掩?？蚣? (MA1-對位板對位孔 05Ar對位板對位孔 06 08-微調(diào)銷釘 11-對位輔助板；
圖4示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的間接對位系統(tǒng)的間接對位示意圖，其中 A「對位輔助板對位孔 B-掩模框架對位孔
L-對位輔助板對位孔與掩?？蚣軐ξ豢椎奈恢闷?；
圖5示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的間接對位系統(tǒng)中的對位輔助板的示意圖，其中04A「對位輔助板對位孔05Ar對位輔助板對位孔 111 114掛孔；以及
圖6示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的間接對位系統(tǒng)的一個示例，其中
Ol-對位基臺
04A「對位輔助板對位孔
05Ar對位輔助板對位孔
11-對位輔助板
111 114掛孔
121-掛鉤。
具體實施例方式以下將討論本發(fā)明的各個較佳實施例。但本領(lǐng)域技術(shù)人員應當理解，此處的詳細說明并不作為對本發(fā)明保護范圍的限制，本發(fā)明還可通過以下各實施例的變型或其它等同方式得以實現(xiàn)。本發(fā)明涉及一種用于掩模組件間接對位的系統(tǒng)。在本發(fā)明的一個實施例中，這種系統(tǒng)可包括對位基臺、掩?？蚣堋⒀谀０?、對位輔助板以及CCD等。

對位基臺用于放置掩?？蚣堋Ｇ覍ξ换_具有至少兩個對位銷釘，用以定位水平放置于其上的掩?？蚣堋Ｑ谀０宓陌迕嫔暇哂袧M足蒸鍍要求的開口圖形區(qū)域以及至少兩個對位Mark點A。Mark點A處于對角位置,且在開口圖形區(qū)域之外。在一個示例中，掩模板Mark點A是通孔，且其直徑不大于0.5mm。掩?？蚣艿倪吙蛏吓c掩模板Mark點A相對應的位置上具有Mark點B。在一個示例中，掩?？蚣躆ark點B是通孔，其直徑大于相對應的掩模板Mark點A的直徑。優(yōu)選地，Mark點B直徑為2 3mm。CXD用于自上而下捕捉對位輔助板Mark點A1或掩模板Mark點A與相應的掩?？蚣躆ark點B的位置圖像以檢測對位。對位輔助板的尺寸可與掩模板的尺寸相同，且對位輔助板Mark點A1與所要對位的掩模板的Mark點A在板面上的相對位置也可相同。在其它實施例中，對位輔助板的其他特征也可與掩模板相同，例如對位輔助板可具有與所要對位的掩模板尺寸、位置以及形狀相同的掛孔。與掩模板不同的是，對位輔助板不具有滿足蒸鍍要求的開口圖形。另外，對位輔助板的Mark點A1的直徑大于相對應的掩模板Mark點A的直徑，但是對位輔助板Mark點A1與所要對位的掩?？蚣艿腗ark點B直徑是相同的，以利于掩模框架與對位板的位置對位。在一個示例中，對位輔助板Mark點A1的直徑為2 3mm，優(yōu)選為2.5mm。對位輔助板的板面包括對位Mark點和掛孔。對位Mark點至少有兩個,例如Mark點04仏和05八1。在一個示例中，這些對位Mark點可處于對位輔助板的對角位置。掛孔至少有兩個。由于對位輔助板的尺寸大于掩?？蚣艿某叽?，當對位輔助板放置在基臺上時其掛孔與基臺上的掛鉤配合，以將對位輔助板固定在基臺上。掛孔的形狀可以是圓形、方形、半圓形中的一種。
使用根據(jù)本發(fā)明一個實施例的間接對位系統(tǒng)，進行掩模板與掩?？蚣艿拈g接對位的方法如下:
51、如圖5所示將掩?？蚣芩椒胖迷趯ξ换_01上，并將掩?？蚣芫o貼對位銷釘06 08放置，即與這些對位銷釘對齊；
52、將對位板11水平放置在掩?？蚣?2上且使兩者緊貼，使對位板11與對位基臺01相對固定，并使對位板與掩模框架兩者相應的Mark點相對應；
53、通過CXD自上而下捕捉對位板11及掩?？蚣?2上Mark點的位置圖像，并通過圖形測量對位板Mark點A1與掩?？蚣躆ark點B的相對位置偏差L ；
54、調(diào)整對位基臺上的對位銷釘06 08的位置，以對與對位銷釘貼緊的掩?？蚣苓M行微調(diào)，使得對位板Mark點A1與掩?？蚣躆ark點B的相對位置偏差LSlSym;
55、當掩?？蚣?2與對位板11的Mark點的相對位置偏差LS15μπι后，將對位板從對位基臺上取下，再將掩模板03水平放置在掩?？蚣?2上且使之固定在對位基臺01上；以及
56、通過CXD自上而下捕捉掩模板Mark點A與掩?？蚣艿腗ark點B的位置圖像，檢測Mark點A是否被掩?？蚣艿腗ark點B的邊緣所遮擋，若被遮擋則重復步驟S2 S6，直至Mark點A完全為通孔。其中，如果在對掩?？蚣苓M行微調(diào)之前L < 15 μ m，則不需進行步驟S4，而是直接進行后續(xù)步驟；如果微調(diào)一次無法做到L < 15 μ m，則需重復步驟S4直至達到L < 15 μ m。通過本發(fā)明的這種間接對位系統(tǒng)，確保了在掩模板的Mark點A直徑小于掩?？蚣艿腗ark點B直徑的同時，使掩模板能夠與掩`?？蚣軠蚀_對位。
權(quán)利要求
1.一種用于掩模組件間接對位的系統(tǒng)，包括: 對位基臺，具有至少兩個對位銷釘以定位水平放置在對位基臺上的掩?？蚣?； 掩模板，具有滿足蒸鍍要求的開口圖形區(qū)域以及處于對角位置且在開口圖形區(qū)域外的至少兩個對位孔； 掩模框架，其邊框上與掩模板對位孔相對應的位置上具有對位孔，且掩?？蚣軐ξ豢椎闹睆酱笥谙鄬难谀０鍖ξ豢椎闹睆?； 對位輔助板，其尺寸與掩模板的尺寸相同且其對位孔與掩模板對位孔的相對位置相同，其中對位輔助板對位孔的直徑與掩?？蚣苌舷鄬恢锰幍膶ξ豢椎闹睆较嗤?；以及 CCD,自上而下捕捉對位輔助板對位孔或掩模板對位孔與相應的掩模框架對位孔的位置圖像以檢測對位。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，掩模板對位孔的直徑不大于0.5mm。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，掩模板框架對位孔的直徑為2 3mm。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，對位輔助板的尺寸大于掩?？蚣艿某叽?，且對位輔助板具有至少兩個掛孔以與對位基臺上的掛鉤配合來固定對位輔助板。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，對位輔助板的掛孔可以是圓形、方形、半圓形中的一種形狀。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，對位輔助板的掛孔與掩模板掛孔的尺寸、位置以及形狀相同。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于掩模組件間接對位的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括對位基臺，具有對位銷釘以定位其上放置的掩?？蚣?；掩模板，具有開口圖形區(qū)域以及至少兩個對位孔；掩?？蚣?，其邊框上與掩模板對位孔相對應的位置上具有對位孔，且掩?？蚣軐ξ豢椎闹睆酱笥谘谀０鍖ξ豢椎闹睆?；對位輔助板，其尺寸與掩模板的尺寸相同且其對位孔與掩模板對位孔的相對位置相同，其中對位輔助板對位孔的直徑與掩?？蚣軐ξ豢椎闹睆较嗤?；以及CCD，自上而下捕捉對位輔助板對位孔或掩模板對位孔與相應的掩模框架對位孔的位置圖像以檢測對位。
文檔編號C23C14/04GK103205670SQ201210010670
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月16日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 孫倩 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司