專利名稱：金剛石磨盤排水裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及金剛石磨盤改進(jìn)技術(shù)，具體涉及ー種金剛石磨盤排水裝置。
背景技術(shù)：
金剛石磨盤在使用過(guò)程中其表面會(huì)覆蓋ー層磨屑，影響進(jìn)一歩加工質(zhì)量，為提高加工質(zhì)量就需要對(duì)磨屑進(jìn)行消除工作，而現(xiàn)有磨盤沒(méi)有此功能。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型針對(duì)目前現(xiàn)有狀況存在的問(wèn)題和不足，提出一種金剛石磨盤排水裝置。本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案一種金剛石磨盤排水裝置，包括磨盤和磨盤蓋，磨盤中心設(shè)置圓形凹槽，磨盤蓋固定在該凹槽中心，磨盤蓋的外徑與磨盤中心凹槽的內(nèi)徑之間形成環(huán)形水槽，該環(huán)形水槽上側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管，沿環(huán)形水槽的內(nèi)緣向磨盤外緣設(shè)置有均布的徑向排水孔。排水孔的外側(cè)出水ロ高度低于內(nèi)側(cè)出水ロ高度。排水孔的數(shù)量為均布的三個(gè)、或者四個(gè)、或者五個(gè)、或者六個(gè)，以及其他數(shù)量滿足均勻排布的形式。本實(shí)用新型的積極效果通過(guò)在磨盤上設(shè)置徑向排水孔的方式進(jìn)行清除磨屑，磨盤高速旋轉(zhuǎn)使內(nèi)側(cè)水沿徑向向外噴射，從而對(duì)磨盤起到清洗作用。另外利用排水結(jié)構(gòu)還可以起到對(duì)磨盤降溫的作用。


圖I是本實(shí)用新型俯視結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖I的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖中標(biāo)號(hào)I為磨盤,2為磨盤蓋,3為排水孔,4為環(huán)形水槽,5為出水口。
具體實(shí)施方式
參見圖I和圖2，該金剛石磨盤排水裝置是在磨盤I中心設(shè)置圓形凹槽，磨盤蓋2 固定在該凹槽中心，磨盤蓋2的外徑與磨盤中心凹槽的內(nèi)徑之間形成環(huán)形水槽4，該環(huán)形水槽4上側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管，沿環(huán)形水槽4的內(nèi)緣向磨盤I外緣設(shè)置有均布的徑向排水孔3。并且，排水孔3的外側(cè)出水ロ高度低于內(nèi)側(cè)出水ロ高度。排水孔的數(shù)量為均布的三個(gè)。另外，排水孔的數(shù)量也可以為四個(gè)、或者五個(gè)、或者六個(gè)等滿足均勻排布的其他數(shù)量。
權(quán)利要求1.一種金剛石磨盤排水裝置，包括磨盤和磨盤蓋，磨盤中心設(shè)置圓形凹槽，磨盤蓋固定在該凹槽中心，其特征是磨盤蓋的外徑與磨盤中心凹槽的內(nèi)徑之間形成環(huán)形水槽，該環(huán)形水槽上側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管，沿環(huán)形水槽的內(nèi)緣向磨盤外緣設(shè)置有均布的徑向排水孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的金剛石磨盤排水裝置，其特征是排水孔的外側(cè)出水ロ高度低于內(nèi)側(cè)出水ロ高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的金剛石磨盤排水裝置，其特征是排水孔的數(shù)量為均布的三個(gè)、或者四個(gè)、或者五個(gè)、或者六個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種金剛石磨盤排水裝置，包括磨盤和磨盤蓋，磨盤中心設(shè)置圓形凹槽，磨盤蓋固定在該凹槽中心，磨盤蓋的外徑與磨盤中心凹槽的內(nèi)徑之間形成環(huán)形水槽，該環(huán)形水槽上側(cè)設(shè)置有進(jìn)水管，沿環(huán)形水槽的內(nèi)緣向磨盤外緣設(shè)置有均布的徑向排水孔。本實(shí)用新型通過(guò)在磨盤上設(shè)置徑向排水孔的方式進(jìn)行清除磨屑，磨盤高速旋轉(zhuǎn)使內(nèi)側(cè)水沿徑向向外噴射，從而對(duì)磨盤起到清洗作用。另外利用排水結(jié)構(gòu)還可以起到對(duì)磨盤降溫的作用。
文檔編號(hào)B24D7/00GK202336811SQ20112048462
公開日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2011年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月29日
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