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鍍膜件及其制備方法

文檔序號:3413771閱讀:334來源:國知局
專利名稱:鍍膜件及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鍍膜件及其制備方法。
背景技術(shù)
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩,目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等工藝制備裝飾涂層。相比這些傳統(tǒng)工藝,PVD鍍膜技術(shù)更加綠色環(huán)保?,F(xiàn)有技術(shù)中,利用PVD鍍膜技術(shù)于基材表面形成裝飾膜層,裝飾膜層的質(zhì)感及觸感主要依賴對基材的表面處理,該表面處理的方式目前主要為拋光、噴砂、拉絲等。在經(jīng)上述表面處理的基材表面PVD鍍裝飾膜層,可使裝飾膜層呈現(xiàn)不同的質(zhì)感和觸感。然而,對于 一些要求有特殊觸感,如絨毛般觸感的產(chǎn)品,如果只是通過對基材的表面處理則較難實現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種具有絨毛般觸感的鍍膜件。另外,還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。一種鍍膜件,其包括基材及形成于基材表面的復(fù)合層,該復(fù)合層包括氧化鋅層和氧化鈦層,所述氧化鋅層與所述基材直接相結(jié)合;所述氧化鈦層中顆粒的粒徑為O.
且氧化鈦層的顆粒上附著有粒徑為8 20nm的球狀突起。一種鍍膜件的制備方法,其包括如下步驟
提供基材;
采用濺射法在該基材的表面形成金屬鋅層;
對金屬鋅層進行熱氧化處理形成氧化鋅層;
采用濺射法在該氧化鋅層的表面形成金屬鈦層;
對該金屬鈦層進行熱氧化處理形成氧化鈦層,所述氧化鋅層和氧化鈦層形成一復(fù)合層,該氧化鈦層中顆粒的粒徑為O. 且氧化鈦層的顆粒上附著有粒徑為8 20nm的球狀關(guān)起。本發(fā)明所述鍍膜件采用PVD鍍膜技術(shù)與熱氧化處理相結(jié)合的方式在基材表面形成復(fù)合層,所述復(fù)合層可使所述鍍膜件具有藍色的外觀,且該復(fù)合層不同于常規(guī)的光面,噴砂,拉絲面效果,可使所述鍍膜件具有絨毛般的觸感。該方法工藝簡單,易于操作,綠色環(huán)保。


圖I為本發(fā)明一較佳實施例鍍膜件的剖視 圖2為本發(fā)明一較佳實施例氧化鋅層的掃描電鏡圖(放大倍數(shù)2萬);
圖3為本發(fā)明一較佳實施例氧化鈦層的掃描電鏡圖(放大倍數(shù)2萬);
圖4為本發(fā)明一較佳實施例氧化鈦層的掃描電鏡圖(放大倍數(shù)5萬);
圖5為本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的俯視示意圖。
主要元件符號說明
權(quán)利要求
1.一種鍍膜件,其包括基材及形成于基材表面的復(fù)合層,其特征在于該復(fù)合層包括氧化鋅層和氧化鈦層,所述氧化鋅層與所述基材直接相結(jié)合;所述氧化鈦層中顆粒的粒徑為O. 5 lMm,且氧化鈦層的顆粒上附著有粒徑為8 20nm的球狀突起。
2.如權(quán)利要求I所述的鍍膜件,其特征在于該基材的材質(zhì)為玻璃或不銹鋼。
3.如權(quán)利要求I所述的鍍膜件,其特征在于該氧化鋅層的厚度為Γ2ΜΠ1。
4.如權(quán)利要求I所述的鍍膜件,其特征在于該氧化鋅層中顆粒的粒徑為3(T80nm。
5.如權(quán)利要求I所述的鍍膜件,其特征在于該氧化鈦層的厚度為30(T700nm。
6.如權(quán)利要求I所述的鍍膜件,其特征在于該復(fù)合層呈現(xiàn)藍色,其于CIELab表色系統(tǒng)顯示的L*坐標介于15 18之間,a*坐標介于11 16之間,b*坐標介于-37 -42之間。
7.一種鍍膜件的制備方法,其包括如下步驟 提供基材; 采用濺射法在該基材的表面形成金屬鋅層; 對金屬鋅層進行熱氧化處理形成氧化鋅層; 采用濺射法在該氧化鋅層的表面形成金屬鈦層; 對該金屬鈦層進行熱氧化處理形成氧化鈦層,所述氧化鋅層和氧化鈦層形成一復(fù)合層,該氧化鈦層中顆粒的粒徑為O. 且氧化鈦層的顆粒上附著有粒徑為8 20nm的球狀關(guān)起。
8.如權(quán)利要求7所述的鍍膜件的制備方法,其特征在于所述基材為不銹鋼或玻璃。
9.如權(quán)利要求7所述的鍍膜件的制備方法,其特征在于形成所述金屬鋅層的具體工藝參數(shù)為使用鋅靶,鋅靶的功率為2. 5^4kff,以氬氣為工作氣體,氬氣流量為20(T500SCCm,濺射溫度為5(Tl00 °C,施加于基材的偏壓為(T-100V,鍍膜時間為6(Tl20min。
10.如權(quán)利要求7所述的鍍膜件的制備方法,其特征在于所述熱氧化處理金屬鋅層的工藝參數(shù)為氧氣流量為10(T300sccm,處理溫度為40(T60(TC,處理時間為3(T60min。
11.如權(quán)利要求7所述的鍍膜件的制備方法,其特征在于該氧化鋅層中顆粒的粒徑為30 80nm。
12.如權(quán)利要求7所述的鍍膜件的制備方法,其特征在于形成所述金屬鈦層的具體工藝參數(shù)為使用鈦靶,設(shè)定鈦靶的功率為3 4kW,施加于基材的偏壓為-10(T-200V,濺射溫度為8(Tl50°C,以氬氣為工作氣體,氬氣流量為15(T300sccm,鍍膜時間為3(T60min。
13.如權(quán)利要求7所述的鍍膜件的制備方法,其特征在于所述熱氧化處理金屬鈦層的工藝參數(shù)為氧氣流量為8(T200sccm,處理溫度為40(T600°C,處理時間為3(T60min。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鍍膜件,其包括基材及形成于基材表面的復(fù)合層,該復(fù)合層包括氧化鋅層和氧化鈦層,所述氧化鋅層與所述基材直接相結(jié)合;所述氧化鈦層中顆粒的粒徑為0.5~1μm,且氧化鈦層的顆粒上附著有粒徑為8~20nm的球狀突起。所述復(fù)合層呈現(xiàn)藍色且具有絨毛般的觸感。本發(fā)明還提供一種上述鍍膜件的制備方法。
文檔編號C23C14/34GK102732829SQ20111009133
公開日2012年10月17日 申請日期2011年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月13日
發(fā)明者張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士, 黃嘉 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司
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