專(zhuān)利名稱(chēng)：金屬混合真空濺射合金靶材材料及其制作方法及用途的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及金屬混合真空濺射合金靶材材料及其制作方法及用途，特別是一種用 于不可逆藍(lán)光記錄存儲(chǔ)的無(wú)機(jī)介質(zhì)材料及其制作方法及用途，屬于金屬混合真空濺射合金 靶材材料及其制作方法及用途的創(chuàng)新技術(shù)。
背景技術(shù)：
目前，在信息存儲(chǔ)行業(yè)普遍采用紙張，磁帶，磁盤(pán)，小容量光盤(pán)等節(jié)制進(jìn)行存儲(chǔ)，但 都面臨容量小，截止不能防修改，壽命不符合規(guī)定等問(wèn)題，在信息社會(huì)越來(lái)越需要一個(gè)大容 量介質(zhì)來(lái)滿(mǎn)足需求，而大容量光存儲(chǔ)是其中一個(gè)最好的選擇，具有容量大，數(shù)據(jù)不可修改， 壽命長(zhǎng)的特點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于考慮上述問(wèn)題而提供一種降低制作成本，提高光盤(pán)使用壽命， 提升光盤(pán)片的刻錄和數(shù)據(jù)穩(wěn)定性能的金屬混合真空濺射合金靶材材料。本發(fā)明的另一目的在于提供一種方便實(shí)用的金屬混合真空濺射合金靶材材料的 制作方法。本發(fā)明的再一目的在于提供一種用于替代傳傳統(tǒng)光盤(pán)生產(chǎn)中所用材料，用于通過(guò) 真空磁控濺射制造不可逆光存儲(chǔ)光盤(pán)的金屬混合真空濺射合金靶材材料的用途。本發(fā)明的技術(shù)方案是本發(fā)明的金屬混合真空濺射合金靶材材料，由以下物質(zhì)按 重量百分比構(gòu)成銅90%-95%，鋁1%-6%，鉻1%-3%，鈦1%-3%。上述銅、鋁、鉻、鈦原料為粉末材料，晶粒尺寸為微米級(jí)，純度超過(guò)99. 99%。上述銅、鋁、鉻、鈦原料為粉末材料，成份精準(zhǔn)度超過(guò)99. 99%。上述銅、鋁、鉻、鈦原料為粉末材料，化學(xué)潔凈度超過(guò)99. 99%。本發(fā)明金屬混合真空濺射合金靶材材料的制作方法，包括如下步驟
1)將銅、鋁、鉻、鈦原料按重量百分比充分混合；
2)把混合粉末通過(guò)粉末冶金的方法燒結(jié)成靶材。上述燒結(jié)而成的靶材通過(guò)焊接工藝結(jié)合在銅或鉬的背板上。本發(fā)明金屬混合真空濺射合金靶材材料的用途，用于通過(guò)真空磁控濺射制造不可 逆光存儲(chǔ)光盤(pán)。上述不可逆光存儲(chǔ)光盤(pán)為不可逆大容量光存儲(chǔ)光盤(pán)，光存儲(chǔ)光盤(pán)的容量大于25G。本發(fā)明由銅、鋁、鉻、鈦四種金屬混合制作真空濺射合金靶材材料，該材料通過(guò)真 空磁控濺射制造不可逆大容量光存儲(chǔ)光盤(pán)，容量大于25G。本發(fā)明的復(fù)合靶材可提高該類(lèi)型 光盤(pán)片的使用壽命達(dá)100年以上，同時(shí)降低制作成本，提升光盤(pán)片的刻錄和數(shù)據(jù)穩(wěn)定性能。 本發(fā)明的復(fù)合材料的用途用于替代現(xiàn)有光盤(pán)片生產(chǎn)中所用的靶材。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1
本發(fā)明的金屬混合真空濺射合金靶材材料，由以下物質(zhì)按重量百分比構(gòu)成銅90%，鋁 6%,鉻 3%,鈦 1%。上述銅、鋁、鉻、鈦原料為粉末材料，晶粒尺寸為微米級(jí)，純度超過(guò)99. 99%。上述銅、鋁、鉻、鈦原料為粉末材料，成份精準(zhǔn)度超過(guò)99. 99%。上述銅、鋁、鉻、鈦原料為粉末材料，化學(xué)潔凈度超過(guò)99. 99%。本發(fā)明金屬混合真空濺射合金靶材材料的制作方法，包括如下步驟
1)將銅、鋁、鉻、鈦原料按重量百分比充分混合；
2)把混合粉末通過(guò)粉末冶金的方法燒結(jié)成靶材。上述燒結(jié)而成的靶材通過(guò)焊接工藝結(jié)合在銅或鉬的背板上。本發(fā)明金屬混合真空濺射合金靶材材料的用途，用于通過(guò)真空磁控濺射制造不可 逆光存儲(chǔ)光盤(pán)。上述不可逆光存儲(chǔ)光盤(pán)為不可逆大容量光存儲(chǔ)光盤(pán)，光存儲(chǔ)光盤(pán)的容量大于25G。實(shí)施例2
本發(fā)明與實(shí)施例1的不同在于金屬混合真空濺射合金靶材材料由以下物質(zhì)按重量百 分比構(gòu)成銅95%，鋁1%，鉻1%，鈦3%。實(shí)施例3
本發(fā)明與實(shí)施例1的不同在于金屬混合真空濺射合金靶材材料，由以下物質(zhì)按重量百 分比構(gòu)成銅92%，鋁3%，鉻2%，鈦3%。實(shí)施例4
本發(fā)明與實(shí)施例1的不同在于金屬混合真空濺射合金靶材材料，由以下物質(zhì)按重量百 分比構(gòu)成銅94%，鋁4%，鉻1%，鈦1。實(shí)施例5
本發(fā)明與實(shí)施例1的不同在于金屬混合真空濺射合金靶材材料，由以下物質(zhì)按重量百 分比構(gòu)成銅93%，鋁3%，鉻2%，鈦2%。實(shí)施例6
本發(fā)明與實(shí)施例1的不同在于金屬混合真空濺射合金靶材材料，由以下物質(zhì)按重量百 分比構(gòu)成銅91%，鋁4%，鉻2%，鈦3%。
權(quán)利要求
1.一種金屬混合真空濺射合金靶材材料，其特征在于由以下物質(zhì)按重量百分比構(gòu)成 銅 90%-95%，鋁 1%-6%，鉻 1%-3%，鈦 1%-3%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料，其特征在于上述銅、鋁、 鉻、鈦原料為粉末材料，晶粒尺寸為微米級(jí)，純度超過(guò)99. 99%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料，其特征在于上述銅、鋁、 鉻、鈦原料為粉末材料，成份精準(zhǔn)度超過(guò)99. 99%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料，其特征在于上述銅、鋁、 鉻、鈦原料為粉末材料，化學(xué)潔凈度超過(guò)99. 99%。
5.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料的制作方法，其特征在 于包括如下步驟1)將銅、鋁、鉻、鈦原料按重量百分比充分混合；2)把混合粉末通過(guò)粉末冶金的方法燒結(jié)成靶材。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料的制作方法，其特征在于上 述燒結(jié)而成的靶材通過(guò)焊接工藝結(jié)合在銅或鉬的背板上。
7.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料的用途，其特征在于用 于通過(guò)真空磁控濺射制造不可逆光存儲(chǔ)光盤(pán)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬混合真空濺射合金靶材材料，其特征在于上述不可逆光 存儲(chǔ)光盤(pán)為不可逆大容量光存儲(chǔ)光盤(pán)，光存儲(chǔ)光盤(pán)的容量大于25G。
全文摘要
本發(fā)明涉及金屬混合真空濺射合金靶材材料及其制作方法及用途。本發(fā)明的材料由以下物質(zhì)按重量百分比構(gòu)成銅90%-95%，鋁1%-6%，鉻1%-3%，鈦1%-3%。本發(fā)明材料的制作方法，包括如下步驟1)將銅、鋁、鉻、鈦原料按重量百分比充分混合；2)把混合粉末通過(guò)粉末冶金的方法燒結(jié)成靶材。上述燒結(jié)而成的靶材通過(guò)焊接工藝結(jié)合在銅或鉬的背板上。本發(fā)明材料的用途用于通過(guò)真空磁控濺射制造不可逆光存儲(chǔ)光盤(pán)。本發(fā)明的金屬混合真空濺射合金靶材材料可降低制作光盤(pán)的成本，提高光盤(pán)使用壽命，提升光盤(pán)片的刻錄和數(shù)據(jù)穩(wěn)定性能。本發(fā)明材料的制作方法方便實(shí)用。本發(fā)明的材料的用途用于替代傳傳統(tǒng)光盤(pán)生產(chǎn)中所用材料。
文檔編號(hào)C23C14/34GK102061405SQ20111000629
公開(kāi)日2011年5月18日 申請(qǐng)日期2011年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月13日
發(fā)明者羅鐵威, 鄭穆 申請(qǐng)人:羅鐵威, 鄭穆