專利名稱：一種真空磁控鍍膜工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜工藝技術(shù)領(lǐng)域，特指一種真空磁控鍍膜工藝。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的真空磁控鍍膜和離子鍍膜技術(shù)，如專利公開(kāi)號(hào)為“CN1137572”、專利名稱為 “柱形靶電弧汽相淀積裝置及方法”的中國(guó)專利，以及專利公開(kāi)號(hào)為“CN101182634”、專利名 稱為“一種真空多弧離子鍍膜機(jī)智能一體化控制器”的中國(guó)專利所示，現(xiàn)有技術(shù)中，利用空 磁控鍍膜和離子鍍膜技術(shù)只能夠把靶材的材料原原本本的鍍到產(chǎn)品表面，色彩單一，鍍膜 效果較差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種真空磁控鍍膜工藝，本發(fā)明工藝 簡(jiǎn)單，易于實(shí)施，成本低，能夠用一種單純的靶材而達(dá)到五顏六色的鍍膜效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的 一種真空磁控鍍膜工藝，包括以下步驟
選用多弧離子磁控鍍膜機(jī)，選用金屬靶材進(jìn)行鍍膜； 將產(chǎn)品放入多弧離子磁控鍍膜機(jī)的真空室；
多弧離子磁控鍍膜機(jī)對(duì)真空室進(jìn)行抽真空，在真空室的真空度達(dá)到10X10_2Pa 2 X10_2Pa后，關(guān)閉光柵閥；
向真空室充入至少一種放電介質(zhì)氣體，使真空室的真空度達(dá)到1 5Pa ； 進(jìn)行鍍膜，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的放電介質(zhì)氣體的成分、比例或流量 而使同一種金屬靶材鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果； 鍍膜時(shí)間為10 50分鐘； 完成鍍膜，取出產(chǎn)品。所述金屬靶材選用鈦靶、不銹鋼靶、鉻靶、鎳靶、鈦合金靶中的一種。所述放電介質(zhì)氣體為惰性氣體和非惰性氣體的混合氣體或者單一惰性氣體。所述放電介質(zhì)氣體為氬氣，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣的流量而 使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。所述放電介質(zhì)氣體為氬氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室 內(nèi)的氬氣和氮?dú)獾谋壤?、流量而使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。所述放電介質(zhì)氣體為氬氣和氧氣的混合氣體，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室 內(nèi)的氬氣和氧氣的比例、流量而使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。在鍍膜過(guò)程中，真空室內(nèi)的壓力為3-5Kg/cm2，溫度為200 350°C。在向真空室充入放電介質(zhì)氣體前，真空室的真空度達(dá)到5X10_2Pa。在向真空室充入放電介質(zhì)氣體后，真空室的真空度達(dá)到2Pa。所述鍍膜時(shí)間為15 45分鐘。
本發(fā)明的有益效果本發(fā)明利用多弧離子磁控鍍膜機(jī)進(jìn)行鍍膜，鍍膜過(guò)程中通過(guò) 調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的放電介質(zhì)氣體的成分、比例或流量而使同一種金屬靶材鍍覆在產(chǎn)品 表面的鍍膜具有不同的色彩效果；本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單，易于實(shí)施，成本低，能夠用一種單純的 靶材而達(dá)到五顏六色的鍍膜效果。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例一。一種真空磁控鍍膜工藝，包括以下步驟
選用多弧離子磁控鍍膜機(jī)，選用金屬靶材進(jìn)行鍍膜；于較佳實(shí)施方式中，金屬靶材選用 99. 99%的鈦靶；
當(dāng)然，金屬靶材亦可以選用不銹鋼靶、鉻靶、鎳靶、鈦合金靶中的一種。選用不同類型的 金屬靶材可以得到不同色彩效果的鍍膜。將產(chǎn)品放入多弧離子磁控鍍膜機(jī)的真空室。多弧離子磁控鍍膜機(jī)對(duì)真空室進(jìn)行抽真空，在真空室的真空度達(dá)到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，關(guān)閉光柵閥；
于較佳實(shí)施方式中，在向真空室充入放電介質(zhì)氣體前，真空室的真空度的較佳值為 8\10-牛3 4\10-牛3，真空室的真空度的最佳值為5X10_2Pa。向真空室充入至少一種放電介質(zhì)氣體，放電介質(zhì)氣體為惰性氣體和非惰性氣體的 混合氣體或者單一惰性氣體；
惰性氣體包括氖、氬、氙和氡等； 非惰性氣體包括氧和氮等。向真空室充入放電介質(zhì)氣體，使真空室的真空度達(dá)到1 5Pa ；
于較佳實(shí)施方式中，在向真空室充入放電介質(zhì)氣體后，真空室的真空度的較佳值為 2 4 Pa，真空室的真空度的最佳值為2Pa。進(jìn)行鍍膜，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的放電介質(zhì)氣體的成分、比例或 流量而使同一種金屬靶材鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。本發(fā)明的工藝既可以是在對(duì)同一個(gè)產(chǎn)品的鍍膜過(guò)程中調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的放 電介質(zhì)氣體的成分、比例或流量，使產(chǎn)品上鍍有五顏六色的鍍膜，亦可以針對(duì)不同的產(chǎn)品調(diào) 節(jié)充入到真空室內(nèi)的放電介質(zhì)氣體的成分、比例或流量，使不同的產(chǎn)品具有不同顏色的鍍 膜。鍍膜時(shí)間為10 50分鐘；
其中，較佳的鍍膜時(shí)間為15 45分鐘，最佳鍍膜時(shí)間為20 25分鐘； 在鍍膜過(guò)程中，真空室內(nèi)的壓力為3-5Kg/cm2，溫度為200 350°C。完成鍍膜，鍍膜完成后按照標(biāo)準(zhǔn)的停機(jī)程序停機(jī)即可，取出產(chǎn)品。本發(fā)明是在現(xiàn)有真空磁控鍍的基礎(chǔ)上，利用輝光放電的原理，通過(guò)改變放電介質(zhì) 氣體的成分和比例來(lái)達(dá)到合鍍膜具有各種不同的色彩效果，能夠用一種單純的靶材而達(dá)到 五顏六色的鍍膜效果。本發(fā)明的工藝能夠做出傳統(tǒng)鍍膜無(wú)法達(dá)到的效果，而且成本低廉，能 夠廣泛應(yīng)用與各種金屬產(chǎn)品、玻璃制品和塑膠制品。實(shí)施例二。
一種真空磁控鍍膜工藝，包括以下步驟
選用多弧離子磁控鍍膜機(jī)，多弧離子磁控鍍膜機(jī)選用1. 2米直徑真空鍍膜機(jī)，選用 99. 99%的鈦靶。將產(chǎn)品放入多弧離子磁控鍍膜機(jī)的真空室。多弧離子磁控鍍膜機(jī)對(duì)真空室進(jìn)行抽真空，在真空室的真空度達(dá)到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，關(guān)閉光柵閥。向真空室充入放電介質(zhì)氣體，放電介質(zhì)氣體為氬氣，使真空室的真空度達(dá)到1 5Pa，放電介質(zhì)氣體的流量在100-400ml/s，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣的 流量而使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。 鍍膜時(shí)間為15 45分鐘；
在鍍膜過(guò)程中，真空室內(nèi)的壓力為3-5Kg/cm2，溫度為200 350°C。溫度的變化尤其 對(duì)五金類產(chǎn)品有影響，溫度的選擇有利于覆加鍍膜在產(chǎn)品上的附著力，特別是對(duì)于鋁、不銹 鋼、碳素鋼、合金鋼等產(chǎn)品，溫度為200 350°C能進(jìn)一步提高鍍膜的附著力。完成鍍膜，取出產(chǎn)品。實(shí)施例三。一種真空磁控鍍膜工藝，包括以下步驟
選用多弧離子磁控鍍膜機(jī)，多弧離子磁控鍍膜機(jī)選用1. 2米直徑真空鍍膜機(jī)，選用 99. 99%的鈦靶。將產(chǎn)品放入多弧離子磁控鍍膜機(jī)的真空室。多弧離子磁控鍍膜機(jī)對(duì)真空室進(jìn)行抽真空，在真空室的真空度達(dá)到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，關(guān)閉光柵閥。向真空室充入放電介質(zhì)氣體，放電介質(zhì)氣體為氬氣和氧氣的混合氣體，放電介質(zhì) 氣體的流量在50-300ml/s，于較佳實(shí)施方式中，兩種氣體的比例從2 :1至1 :3之間的范圍 內(nèi)選擇；隨著氧氣比例的增加，顏色由灰白色向綠色，紫色變化。鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣和氧氣的比例、流量而使鍍覆在產(chǎn)品 表面的鍍膜具有不同的色彩效果。鍍膜時(shí)間為15 45分鐘；
在鍍膜過(guò)程中，真空室內(nèi)的壓力為3-5Kg/cm2，溫度為200 350°C。溫度的變化尤其 對(duì)五金類產(chǎn)品有影響，溫度的選擇有利于覆加鍍膜在產(chǎn)品上的附著力，特別是對(duì)于鋁、不銹 鋼、碳素鋼、合金鋼等產(chǎn)品，溫度為200 350°C能進(jìn)一步提高鍍膜的附著力。完成鍍膜，取出產(chǎn)品。實(shí)施例四。一種真空磁控鍍膜工藝，包括以下步驟
選用多弧離子磁控鍍膜機(jī)，多弧離子磁控鍍膜機(jī)選用1. 2米直徑真空鍍膜機(jī)，選用 99. 99%的鈦靶。將產(chǎn)品放入多弧離子磁控鍍膜機(jī)的真空室。多弧離子磁控鍍膜機(jī)對(duì)真空室進(jìn)行抽真空，在真空室的真空度達(dá)到IOX 10_2Pa 2 X10_2Pa后，關(guān)閉光柵閥。向真空室充入放電介質(zhì)氣體，放電介質(zhì)氣體為氬氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w，放電介質(zhì)氣體的流量在50-300ml/s，于較佳實(shí)施方式中，兩種氣體的比例從2 :1至1 :3之間的范圍 內(nèi)選擇，隨著氮?dú)獗壤脑黾樱伾苫野咨螯S色，金色變化。鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣和氮?dú)獾谋壤?、流量而使鍍覆在產(chǎn)品 表面的鍍膜具有不同的色彩效果。鍍膜時(shí)間為15 45分鐘；
在鍍膜過(guò)程中，真空室內(nèi)的壓力為3-5Kg/cm2，溫度為200 350°C。溫度的變化尤其 對(duì)五金類產(chǎn)品有影響，溫度的選擇有利于覆加鍍膜在產(chǎn)品上的附著力，特別是對(duì)于鋁、不銹 鋼、碳素鋼、合金鋼等產(chǎn)品，溫度為200 350°C能進(jìn)一步提高鍍膜的附著力。完成鍍膜，取出產(chǎn)品。以上內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，依據(jù)本發(fā)明的 思想，在具體實(shí)施方式
及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，本說(shuō)明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明 的限制。
權(quán)利要求
一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于包括以下步驟選用多弧離子磁控鍍膜機(jī)，選用金屬靶材進(jìn)行鍍膜；將產(chǎn)品放入多弧離子磁控鍍膜機(jī)的真空室；多弧離子磁控鍍膜機(jī)對(duì)真空室進(jìn)行抽真空，在真空室的真空度達(dá)到10×10 2Pa～2×10 2Pa后，關(guān)閉光柵閥；向真空室充入至少一種放電介質(zhì)氣體，使真空室的真空度達(dá)到1～5Pa；進(jìn)行鍍膜，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的放電介質(zhì)氣體的成分、比例或流量而使同一種金屬靶材鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果；鍍膜時(shí)間為10～50分鐘；完成鍍膜，取出產(chǎn)品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于所述金屬靶材選用鈦 靶、不銹鋼靶、鉻靶、鎳靶、鈦合金靶中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于所述放電介質(zhì)氣體為 惰性氣體和非惰性氣體的混合氣體或者單一惰性氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于所述放電介質(zhì)氣體為 氬氣，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣的流量而使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有 不同的色彩效果。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于所述放電介質(zhì)氣體為 氬氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣和氮?dú)獾谋壤⒘髁?而使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于所述放電介質(zhì)氣體為 氬氣和氧氣的混合氣體，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的氬氣和氧氣的比例、流量 而使鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于在鍍膜過(guò)程 中，真空室內(nèi)的壓力為3-5Kg/cm2，溫度為200 350°C。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于在向真空室充入放電 介質(zhì)氣體前，真空室的真空度達(dá)到5X10_2Pa。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于在向真空室充入放電 介質(zhì)氣體后，真空室的真空度達(dá)到2Pa。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種真空磁控鍍膜工藝，其特征在于所述鍍膜時(shí)間為 15 45分鐘。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種真空磁控鍍膜工藝，本發(fā)明利用多弧離子磁控鍍膜機(jī)進(jìn)行鍍膜，鍍膜過(guò)程中通過(guò)調(diào)節(jié)充入到真空室內(nèi)的放電介質(zhì)氣體的成分、比例或流量而使同一種金屬靶材鍍覆在產(chǎn)品表面的鍍膜具有不同的色彩效果；本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單，易于實(shí)施，成本低，能夠用一種單純的靶材而達(dá)到五顏六色的鍍膜效果。
文檔編號(hào)C23C14/35GK101974731SQ20101056629
公開(kāi)日2011年2月16日 申請(qǐng)日期2010年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月30日
發(fā)明者黃偉雄 申請(qǐng)人:東莞星暉真空鍍膜塑膠制品有限公司