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高頻加熱裝置的冷卻裝置的制作方法

文檔序號(hào):3364753閱讀:177來源:國(guó)知局
專利名稱:高頻加熱裝置的冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)長(zhǎng)條狀的被加熱物進(jìn)行移動(dòng)淬火的高頻加熱裝置所具備的冷卻裝置。
背景技術(shù)
淬火前的鋼鐵材料(被加熱物)呈現(xiàn)為稱作鐵素體(ferrite)及珠光體 (pearlite)的金屬組織。淬火是指對(duì)鋼鐵材料進(jìn)行加熱使其從珠光體變化(相變)為奧氏體(austenite),之后進(jìn)行冷卻使其從奧氏體變化(相變)為馬氏體(martensite)的過程。對(duì)鋼鐵材料進(jìn)行淬火時(shí),將加熱至淬火溫度(奧氏體相變溫度,稱為Al相變點(diǎn),約攝氏730°C以上)的鋼鐵材料急冷到約攝氏250°C。于是,開始進(jìn)行從奧氏體向馬氏體的相變。然后,在該溫度以下使鋼鐵材料慢冷。由此,鋼鐵材料內(nèi)的奧氏體能夠良好地相變?yōu)轳R氏體,并且,能夠防止淬裂。即,淬火后的鋼鐵材料能夠得到良好的強(qiáng)度。但是,這種理想的操作比較困難,因此,實(shí)際上多采用將加熱至淬火溫度以上的鋼鐵材料急冷到攝氏500°C左右(臨界溫度),在攝氏500°C以下慢冷的方法。即,需要將加熱到淬火溫度以上的鋼鐵材料急冷到臨界溫度,且能夠在臨界溫度以下慢冷的冷卻裝置。

發(fā)明內(nèi)容
在現(xiàn)有的實(shí)施移動(dòng)淬火的高頻加熱裝置中,存在例如日本國(guó)特開平11-140536號(hào)公報(bào)中公開的那樣的裝置。同一公報(bào)中的高頻淬火裝置的冷卻裝置不能夠變更冷卻液的噴射量。因此,在同一公報(bào)中記載有通過是否噴射冷卻液來調(diào)整冷卻速度的情況。例如,熟練者通過憑感覺調(diào)整冷卻液的噴射時(shí)間等,進(jìn)行鋼鐵材料的溫度調(diào)整。由此,在采用了同一公報(bào)中公開的冷卻裝置的高頻淬火裝置中,如果不依賴熟練者的感覺,就難以使鋼鐵材料內(nèi)的奧氏體的殘余量減少,進(jìn)而難以防止鋼鐵材料從奧氏體向馬氏體相變時(shí)的開裂。另外,在同一公報(bào)中也進(jìn)行了公開,在實(shí)施移動(dòng)淬火的高頻淬火裝置中,冷卻裝置與加熱裝置相鄰配置。因此,從冷卻裝置大量地噴射冷卻水時(shí),其一部分有可能向加熱裝置側(cè)飛散,沿著鋼鐵材料將正在被加熱升溫的部位冷卻,使該部位的溫度降低。進(jìn)而,冷卻裝置是環(huán)狀結(jié)構(gòu)時(shí),從鋼鐵材料的上側(cè)噴射的冷卻水沿著鋼鐵材料的表面向下側(cè)移動(dòng),阻礙從鋼鐵材料的下側(cè)噴射的冷卻水噴射到鋼鐵材料的下側(cè)。其結(jié)果是, 被加熱物20周圍的冷卻不均勻,導(dǎo)致螺旋狀痕跡(AiAt)的產(chǎn)生。于是,本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)⒏袘?yīng)加熱的長(zhǎng)條狀的被加熱物良好地冷卻的高頻加熱裝置的冷卻裝置。為解決上述課題,本發(fā)明的第一方面提供一種具有加熱導(dǎo)體和冷卻裝置的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其在實(shí)施淬火時(shí),冷卻裝置沿長(zhǎng)條狀的被加熱物的長(zhǎng)度方向與加熱導(dǎo)體相鄰配置,冷卻裝置與加熱導(dǎo)體一起沿被加熱物的長(zhǎng)度方向相對(duì)于被加熱物進(jìn)行相對(duì)移動(dòng),冷卻裝置包括具有多種冷卻液噴射模式的冷卻液噴射部,冷卻液噴射模式至少包括強(qiáng)烈地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷的第一模式、較弱地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行慢冷的第二模式。在本發(fā)明的第一方面中,冷卻裝置包括具有多種冷卻液噴射模式的冷卻液噴射部,因此,通過適當(dāng)?shù)剡x定冷卻液噴射模式,就能夠?qū)σ虮桓袘?yīng)加熱而升溫了的部位適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行冷卻。冷卻液噴射模式至少包括強(qiáng)烈地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷的第一模式、較弱地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行慢冷的第二模式,因此,通過區(qū)分使用第一模式和第二模式,能夠良好地實(shí)施被加熱物的淬火。從被加熱物的上側(cè)向下側(cè)移動(dòng)的冷卻水,利用第一模式,通過冷卻液強(qiáng)烈地噴射而被吹飛。其結(jié)果是,低溫的冷卻水也與被加熱物的下部接觸,與被加熱物進(jìn)行熱交換。由此,被加熱物的周圍的冷卻均勻,能夠防止螺旋狀的痕跡的產(chǎn)生。也能夠具備多個(gè)第二模式。即,也可以在利用第一模式對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷后,以多個(gè)第二模式進(jìn)行慢冷。對(duì)于本發(fā)明的第二方面,其第一模式為將升溫到淬火溫度的被加熱物急冷到規(guī)定溫度區(qū)域的噴射模式,第二模式為將利用第一模式冷卻到規(guī)定溫度的被加熱物進(jìn)一步慢冷到低溫度區(qū)域的噴射模式。在本發(fā)明的第二方面中,能夠?qū)⑸郎氐酱慊饻囟鹊募訜岵课焕玫谝荒J郊崩涞揭?guī)定溫度區(qū)域。之后,能夠利用第二模式花費(fèi)時(shí)間進(jìn)一步冷卻到低的溫度。即,適當(dāng)選定由第一模式所急冷到的規(guī)定溫度區(qū)域,另外也適當(dāng)選定由第二模式所慢冷到的溫度,由此,能夠?qū)Ω袘?yīng)加熱后的被加熱物良好地冷卻。對(duì)于本發(fā)明的第三方面,利用第一模式被冷卻到的規(guī)定溫度為攝氏500°C附近的溫度。在第三方面中,被加熱物利用第一模式被冷卻到的規(guī)定溫度為攝氏500°C附近的溫度。由此,利用第一模式能夠?qū)⒈患訜嵛锛崩涞脚R界溫度附近,被加熱物的溫度快速接近從奧氏體向馬氏體相變的溫度。其結(jié)果是,在被加熱物內(nèi)不會(huì)從奧氏體部分地生成珠光體及索氏體,能夠在被加熱物整體(被感應(yīng)加熱的部位)生成馬氏體。此外,被加熱物利用第二模式從攝氏500°C附近或其以下的溫度慢冷,因此,能夠確保從奧氏體向馬氏體相變的時(shí)間。另外,被加熱物利用第二模式被冷卻到的溫度為攝氏500°C以下,因此,能夠良好地除去被加熱物內(nèi)的應(yīng)力。即,即使在被加熱物從奧氏體向馬氏體相變時(shí)呈現(xiàn)微小的膨脹現(xiàn)象,由于被加熱物被慢冷,因此也會(huì)隨著膨脹而變形,能夠防止由相變應(yīng)力導(dǎo)致的淬裂。其結(jié)果是,被加熱物的強(qiáng)度達(dá)到所希望的強(qiáng)度。對(duì)于本發(fā)明的第四方面,冷卻液噴射部具有第一模式用的噴射噴嘴和第二模式用的噴射噴嘴,第一模式用的噴射噴嘴配置為比第二模式用的噴射噴嘴更接近對(duì)被加熱物進(jìn)行感應(yīng)加熱的加熱導(dǎo)體。在第四方面中,通過區(qū)分使用第一模式用噴射噴嘴和第二模式用噴射噴嘴,能夠?qū)Ρ患訜嵛镞M(jìn)行急冷、慢冷。被加熱物沿長(zhǎng)度方向進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)。由此,在第四方面中,以加熱導(dǎo)體進(jìn)行感應(yīng)加熱的部位最初用從第一模式用的噴射噴嘴噴射的冷卻液冷卻。即,加熱到淬火溫度的被加熱物的加熱部位用從第一模式用的噴射噴嘴噴射的冷卻液急冷。然后,接著,用第一模式用的噴射噴嘴急冷的部位,用從第二模式用的噴射噴嘴噴射的冷卻液慢冷。其結(jié)果是,長(zhǎng)條狀的被加熱物,在遍及全長(zhǎng)地被感應(yīng)加熱后,良好地被冷卻。本發(fā)明的第五方面的高頻加熱裝置的冷卻裝置,具有阻止冷卻液向加熱導(dǎo)體側(cè)飛散的遮蔽部件。在第五方面中,能夠通過遮蔽部件阻止冷卻液向加熱導(dǎo)體側(cè)飛散。其結(jié)果是,能夠避免將被加熱物的感應(yīng)加熱中的感應(yīng)加熱部位冷卻的情況。對(duì)于本發(fā)明的第六方面,高頻加熱裝置對(duì)以水平狀態(tài)被支承的長(zhǎng)條狀的被加熱物進(jìn)行淬火,上述冷卻裝置具有容納被加熱物的因被加熱而升高了溫度的部位的冷卻區(qū)域、 阻止冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻液向加熱機(jī)構(gòu)側(cè)飛散的遮蔽部件,在上述冷卻區(qū)域中由冷卻液噴射部供給有冷卻液,被加熱物能夠浸漬在貯存于冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻液中。在第六方面中,能夠?qū)⒈患訜嵛锝n在貯存于冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻液中。由此,通過使被加熱物的加熱部位浸漬于冷卻液,能夠良好地對(duì)加熱部位進(jìn)行急冷。本發(fā)明第七方面提供一種高頻加熱裝置的冷卻裝置,具有加熱導(dǎo)體和冷卻裝置, 其中,冷卻裝置沿以水平狀態(tài)被支承的長(zhǎng)條狀的被加熱物的長(zhǎng)度方向與加熱導(dǎo)體相鄰配置,加熱導(dǎo)體對(duì)被加熱物進(jìn)行感應(yīng)加熱,冷卻裝置與加熱導(dǎo)體一起在被加熱物的長(zhǎng)度方向相對(duì)于被加熱物進(jìn)行相對(duì)移動(dòng),上述冷卻裝置具有容納被加熱物的因被加熱而升高了溫度的部位的冷卻區(qū)域、向上述冷卻區(qū)域供給冷卻液的冷卻液供給機(jī)構(gòu)、阻止冷卻液向加熱機(jī)構(gòu)側(cè)飛散的遮蔽部件,被加熱物在冷卻區(qū)域被浸漬于冷卻液中。在第七方面中,以水平狀態(tài)支承的長(zhǎng)條狀的被加熱物在冷卻裝置的冷卻區(qū)域中被浸漬于冷卻液中,因此,被加熱物良好地被冷卻。另外,具有抑制冷卻液向加熱裝置側(cè)飛散的遮蔽部件,因此,被加熱物的感應(yīng)加熱中的部位不會(huì)被冷卻。由此,能夠良好地實(shí)施被加熱物的感應(yīng)加熱,之后,加熱到淬火溫度的被加熱物的加熱部位在冷卻區(qū)域良好地被冷卻。其結(jié)果是,被加熱物被良好地淬火。對(duì)于本發(fā)明的第八方面,冷卻液供給機(jī)構(gòu)在冷卻區(qū)域內(nèi)向著被加熱物噴射冷卻液。在第八方面中,冷卻液供給機(jī)構(gòu)在冷卻區(qū)域內(nèi)向著被加熱物噴射冷卻液,因此,被加熱物良好地被冷卻。即,將被加熱物浸漬于貯存的冷卻液中時(shí),被加熱物周圍的冷卻液與被加熱物進(jìn)行熱交換而溫度上升。于是,通過向著被加熱物噴射低溫的冷卻液,高溫的冷卻液與低溫的冷卻液進(jìn)行替換,低溫的冷卻液與被加熱物接觸,能夠良好地冷卻被加熱物。本發(fā)明的第九方面,具備多個(gè)冷卻液供給機(jī)構(gòu),上述多個(gè)冷卻液供給機(jī)構(gòu)從接近加熱導(dǎo)體的一側(cè)向遠(yuǎn)離加熱導(dǎo)體的一側(cè)按順序配置,配置于接近加熱導(dǎo)體的一側(cè)的冷卻液供給機(jī)構(gòu)強(qiáng)烈地噴射冷卻液,配置于遠(yuǎn)離加熱導(dǎo)體的一側(cè)的冷卻液供給機(jī)構(gòu)較弱地噴射冷卻液。在第九方面中,被加熱物的剛剛被感應(yīng)加熱后的部位通過配置于冷卻區(qū)域的接近加熱導(dǎo)體的一側(cè)的冷卻液供給機(jī)構(gòu)被急冷,進(jìn)而,被加熱物的感應(yīng)加熱部位通過配置于冷卻區(qū)域的遠(yuǎn)離加熱導(dǎo)體的一側(cè)的冷卻液供給機(jī)構(gòu)被慢冷。其結(jié)果是,被加熱物良好地被冷卻。對(duì)于本發(fā)明的第十方面,冷卻區(qū)域?yàn)椴?,在槽?nèi)設(shè)置有兩個(gè)能夠?qū)⒈患訜嵛锏谋患訜徇^的部位配置于槽內(nèi)、且使同一被加熱物同時(shí)貫通的貫通部,冷卻液供給機(jī)構(gòu)使槽內(nèi)的液位上升,并且向著槽內(nèi)的被加熱物噴射冷卻液。在第十方面中,在配置有被加熱物的加熱部位的槽內(nèi),冷卻液供給機(jī)構(gòu)噴射冷卻液使槽內(nèi)的液位上升,因此,浸漬加熱部位。進(jìn)而,冷卻液供給機(jī)構(gòu)向著加熱部位噴射冷卻液,因此,在加熱部位的周圍總是被供給低溫的冷卻液。其結(jié)果是,加熱部位被良好地冷卻。對(duì)于本發(fā)明的第十一方面,冷卻區(qū)域具有冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻液容易從冷卻區(qū)域內(nèi)流出的流出結(jié)構(gòu),流出結(jié)構(gòu)設(shè)置于配置有加熱導(dǎo)體一側(cè)的相反側(cè)。在第十一方面中,在冷卻區(qū)域的配置有加熱導(dǎo)體的一側(cè)的相反側(cè)設(shè)置有使冷卻液流出的流出結(jié)構(gòu),因此,冷卻液不易向加熱導(dǎo)體側(cè)流出。因此,利用加熱導(dǎo)體加熱中的加熱部位不會(huì)被冷卻。由此,能夠不阻礙感應(yīng)加熱地,通過浸漬而對(duì)水平狀態(tài)的長(zhǎng)條狀的被加熱物良好地進(jìn)行冷卻。另外,從冷卻區(qū)域按順序排出升溫了的冷卻液,低溫的冷卻液由冷卻液供給機(jī)構(gòu)向冷卻區(qū)域內(nèi)供給,因此,能夠提高被加熱物的加熱部位的冷卻效率。對(duì)于本發(fā)明的第十二方面,使配置有加熱導(dǎo)體的一側(cè)的相反側(cè)的側(cè)壁的高度,比配置有加熱導(dǎo)體的一側(cè)的槽的側(cè)壁的高度低。在第十二方面中,使槽內(nèi)的升溫了的冷卻液溢出配置有加熱導(dǎo)體的一側(cè)的相反側(cè)的側(cè)壁而依次排出,能夠提高冷卻效率。另外,由于冷卻水不會(huì)從配置有加熱導(dǎo)體的一側(cè)的槽的側(cè)壁溢出,因此,不會(huì)對(duì)被加熱物的感應(yīng)加熱中的部位進(jìn)行冷卻。發(fā)明效果在本發(fā)明中,通過至少區(qū)分使用強(qiáng)烈地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷的第一模式、和較弱地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行慢冷的第二模式,能夠良好地實(shí)施被加熱物的淬火。即,能夠根據(jù)情況對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷或慢冷。另外,根據(jù)本發(fā)明,以水平狀態(tài)被支承的長(zhǎng)條狀的被加熱物在冷卻裝置的冷卻區(qū)域被浸漬于冷卻液中,因此,被加熱物被良好地冷卻。另外,具有抑制冷卻液向加熱機(jī)構(gòu)側(cè)飛散的遮蔽部件,因此,被加熱物的感應(yīng)加熱中的部位不會(huì)被冷卻。由此,被加熱物的感應(yīng)加熱得以良好地實(shí)施,之后,加熱到淬火溫度的被加熱物的加熱部位在冷卻區(qū)域被良好地冷卻。其結(jié)果是,被加熱物被良好地淬火。


圖1是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的高頻淬火裝置的冷卻水噴射部和加熱導(dǎo)體的部分立體圖,表示正在對(duì)被加熱物的端部附近進(jìn)行感應(yīng)加熱的狀態(tài);圖2是本發(fā)明的第一實(shí)施方式的高頻淬火裝置的冷卻水噴射部和加熱導(dǎo)體的部分立體圖,圖1的被加熱物沿箭頭A所示的方向輸送,表示圖1中被感應(yīng)加熱的部位配置于冷卻水噴射部的狀態(tài);圖3是本發(fā)明的實(shí)施方式的高頻淬火裝置的結(jié)構(gòu)圖;圖4是本發(fā)明的實(shí)施方式的高頻淬火裝置的加熱裝置的系統(tǒng)圖;圖5(a)是本發(fā)明的實(shí)施方式的高頻淬火裝置的冷卻裝置的配管系統(tǒng)圖,表示從第一冷卻水噴射部噴射冷卻水時(shí)的狀態(tài);(b)表示從第二冷卻水噴射部噴射冷卻水時(shí)的狀態(tài);(C)表示從任何噴射部都不噴射冷卻水時(shí)的狀態(tài)。(d)是與(a) (C)不同的配管系統(tǒng)圖,是對(duì)第一冷卻水噴射部和第二冷卻水噴射部的噴射或噴射停止分別控制時(shí)的配管系統(tǒng)圖;圖6是本發(fā)明的第二實(shí)施方式的高頻淬火裝置的冷卻裝置的立體圖;圖7是表示用本發(fā)明的第二實(shí)施方式的高頻淬火裝置對(duì)長(zhǎng)條狀的被加熱物進(jìn)行感應(yīng)加熱及冷卻的狀態(tài)的部分立體圖;圖8是表示在圖7中從冷卻裝置供給的冷卻水從水槽漏泄的狀態(tài)的立體圖;圖9 (a) (e)分別是圖6的冷卻裝置的截面圖;(f)表示還設(shè)有另外的冷卻裝置的狀態(tài)的截面圖;圖10是冷卻裝置的水槽的平面圖。
具體實(shí)施例方式(第一實(shí)施例)圖1所示的高頻淬火裝置21是對(duì)長(zhǎng)條狀的被加熱物20(鋼鐵材料)進(jìn)行淬火的裝置。第一實(shí)施例的高頻淬火裝置21包括冷卻裝置1、加熱裝置2、加熱導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)裝置16 (圖 3)、被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17(圖3)、控制裝置18(圖3)。分別具備如下的結(jié)構(gòu)。首先,對(duì)加熱裝置2進(jìn)行說明。如圖4所示,加熱裝置2具有高頻電源3、變壓器6、加熱導(dǎo)體7 (感應(yīng)線圈)。高頻電源3由交流電源4和高頻發(fā)送器5構(gòu)成。而且,用高頻發(fā)送器5將由交流電源3提供的交流電高頻化,向變壓器6輸出。變壓器6具有一次側(cè)線圈6a、二次側(cè)線圈6b。一次側(cè)線圈6a與高頻電源3側(cè)的電路連接。另外,二次側(cè)線圈6b與后述的加熱導(dǎo)體7以能夠通電的方式連接。加熱導(dǎo)體7(感應(yīng)線圈)用由銅及銅合金等良導(dǎo)體構(gòu)成的中空的導(dǎo)線構(gòu)成。從圖中未表示的配管向加熱導(dǎo)體7的中空部分供給冷卻水。該冷卻水防止加熱導(dǎo)體7自身過熱燒損。加熱導(dǎo)體7的兩端經(jīng)由未圖示的連接部件與變壓器6的二次側(cè)線圈6b連接。加熱導(dǎo)體7與被加熱物20的外形形狀相配合而彎曲及屈曲。即,在圖1中觀察,以與圓柱狀的被加熱物20的圓周的上半部分相對(duì)的方式形成。由此,加熱導(dǎo)體7不與被加熱物20的下半部分相對(duì)。另外,高頻淬火裝置21具備圖3所示的加熱導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)裝置16。加熱導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)裝置16通過未圖示的支承機(jī)構(gòu)將加熱裝置2具備的加熱導(dǎo)體7以能夠沿水平方向及上下方向移動(dòng)的方式支承。由此,被加熱物20配置于規(guī)定的場(chǎng)所時(shí),加熱導(dǎo)體7通過加熱導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)裝置16移動(dòng),與被加熱物20相對(duì)配置。其次,冷卻裝置1具有如圖5(a) (c)或圖5(d)所示的結(jié)構(gòu)。即冷卻裝置1具有冷卻水供給源10、開閉閥11(總開關(guān))、開閉閥12a、12b、第一冷卻水噴射部8、第二冷卻水噴射部9。關(guān)于圖5(d)所示的冷卻裝置將在后面進(jìn)行表述。冷卻水使用由未圖示的泵加壓后的淬火水。即,冷卻水供給源10能夠供給加壓后的淬火水。冷卻裝置1包括環(huán)繞被加熱物20的周圍的環(huán)狀結(jié)構(gòu)的第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9。在此,也可以代替環(huán)狀結(jié)構(gòu)的第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9,而采用分為兩半狀(半割狀)的噴射部。即,以與圓柱狀的被加熱物20的圓周的上半部分相對(duì)的方式形成第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9。由此,能夠使被加熱物20 向半徑方向移動(dòng),使被加熱物20與分為兩半狀的噴射部接近及分離。冷卻水供給源10連接有配管19的一端。在配管19的中途設(shè)置有開閉閥11。另外,配管19的另一端分叉,一方經(jīng)由配管13與第一冷卻水噴射部8連接,另一方經(jīng)由配管 14與第二冷卻水噴射部9連接。如圖1所示,第一冷卻水噴射部8具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)。在第一冷卻水噴射部8的內(nèi)部形成有容納冷卻水的室(未圖示)。另外,在環(huán)狀的內(nèi)周面設(shè)置有多個(gè)噴射口 8a。噴射口 8a由與未圖示的室和外部(半徑方向內(nèi)側(cè))連通的孔構(gòu)成,以等間隔設(shè)置在環(huán)狀內(nèi)壁的圓周上。而且,經(jīng)由配管13供給的冷卻水充滿第一冷卻水噴射部8的內(nèi)部(室)時(shí),加壓的冷卻水從各噴射口 8a噴射。如圖2所示,被加熱物20被感應(yīng)加熱時(shí),感應(yīng)加熱部位配置于第一冷卻水噴射部8的環(huán)狀的內(nèi)部,由此,從各噴射口 8a噴射冷卻水時(shí),從被加熱物20 的圓周全方向(等間隔)噴射供給冷卻水。其次,第二冷卻水噴射部9大致具有與第一冷卻水噴射部8相同的結(jié)構(gòu)。但是,在環(huán)狀的內(nèi)周面設(shè)置有多個(gè)噴射口 9a。第二冷卻水噴射部9的噴射口 9a的個(gè)數(shù)比第一冷卻水噴射部8的噴射口 8a的個(gè)數(shù)多。即,第二冷卻水噴射部9的冷卻水的噴射壓力比第一冷卻水噴射部8的小,但能夠噴射大量的冷卻水。這些第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9與加熱導(dǎo)體7相鄰配置。S卩,如圖1所示,第一冷卻水噴射部8與加熱導(dǎo)體7相鄰,在第二冷卻水噴射部9與加熱導(dǎo)體7之間配置有第一冷卻水噴射部8。在圖1及圖2中,描繪為加熱導(dǎo)體7與第一冷卻水噴射部8 之間分離開相當(dāng)程度的方式,但實(shí)際上兩者接近。在圖1及圖2所示的冷卻裝置1 (第一冷卻水噴射部8)與加熱裝置2 (加熱導(dǎo)體 7)之間,也可以設(shè)置遮蔽板。具體而言,在加熱裝置2側(cè)具備遮蔽板。通過該遮蔽板防止從第一冷卻水噴射部8噴射的冷卻水(淬火水)附著于加熱導(dǎo)體7、被加熱物20的感應(yīng)加熱中的部位。由此,能夠防止被加熱物20的感應(yīng)加熱中的部位被冷卻。另外,在冷卻裝置1中也可以具備多個(gè)第二冷卻水噴射部9。即,被加熱物20連續(xù)地(以一定速度)從加熱裝置2側(cè)向冷卻裝置1側(cè)移動(dòng),因此,也可以在移動(dòng)的下游側(cè)同時(shí)設(shè)置(併設(shè))多個(gè)第二冷卻水噴射部9,對(duì)被加熱物20進(jìn)行慢冷。被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17通過未圖示的機(jī)構(gòu)以能夠旋轉(zhuǎn)的方式支承被加熱物20(鋼鐵材料),而且,向規(guī)定的場(chǎng)所(淬火實(shí)施場(chǎng)所)移動(dòng)。即,被加熱物20通過被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17,一端用卡盤結(jié)構(gòu)把持,另一端用中心銷支承。而且,被加熱物20在水平方向及上下方向移動(dòng)而被配置于規(guī)定的場(chǎng)所(淬火實(shí)施場(chǎng)所)。下面,與控制裝置18 —起,對(duì)高頻淬火裝置21的動(dòng)作進(jìn)行說明。如圖3所示,控制裝置18控制高頻電源3、加熱導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)裝置16、被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17、冷卻裝置1的動(dòng)作。在實(shí)施淬火時(shí),控制裝置18向被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17發(fā)出指令信號(hào),旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)被加熱物20。然后,控制裝置18將高頻電源3設(shè)定為ON時(shí),在加熱導(dǎo)體7中流過高頻電流。其結(jié)果是,在被加熱物20的與加熱導(dǎo)體7相對(duì)的部位(圖1中的端部附近),高頻電流被激勵(lì),該部位被感應(yīng)加熱。另一方面,被加熱物20通過被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17能夠向箭頭A所示的方向移動(dòng)。 由此,被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位(升溫到淬火溫度的部位)向冷卻裝置1的第一冷卻水噴射部8的內(nèi)部移動(dòng)。該被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17的動(dòng)作由控制裝置18控制??刂蒲b置18例如在感應(yīng)加熱時(shí)間經(jīng)過數(shù)秒時(shí),通過被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17將被加熱物20向箭頭A 方向移送規(guī)定距離(感應(yīng)加熱部位的長(zhǎng)度)。其結(jié)果是,被加熱物20的感應(yīng)加熱部位配置于冷卻裝置1的第一冷卻水噴射部8 的環(huán)狀的內(nèi)部。然后,控制裝置18向冷卻裝置1發(fā)出指令信號(hào),向著被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位噴射供給冷卻水。即,如圖5(a)所示,通過控制裝置18開啟圖5所示的總開關(guān)11(開閉閥)和開閉閥12a,從第一冷卻水噴射部8的各噴射口 8a噴射冷卻水。從該噴射口 8a噴射的冷卻水比第二冷卻水噴射部9的噴射口 9a的噴射壓力高,噴射量少。由此, 在被加熱物20的表面進(jìn)行熱交換而將達(dá)到高溫的冷卻水的膜破壞,低溫的冷卻水到達(dá)被加熱物20的表面。其結(jié)果是,被加熱物20的感應(yīng)加熱部位被急速冷卻??傞_關(guān)11是根據(jù)需要而設(shè)置的開閉閥,不是必須的,但是,從安全方面考慮優(yōu)選設(shè)置。被加熱物20的感應(yīng)加熱部位從淬火溫度冷卻到臨界溫度(約攝氏500°C左右)的時(shí)間,預(yù)先通過實(shí)驗(yàn)求取。而且,其時(shí)間數(shù)據(jù)存儲(chǔ)于未圖示的存儲(chǔ)器。當(dāng)?shù)谝焕鋮s水噴射部 8進(jìn)行的冷卻時(shí)間達(dá)到存儲(chǔ)于該存儲(chǔ)器中的時(shí)間時(shí),控制裝置18判定為被加熱物20的感應(yīng)加熱部位(冷卻部位)的溫度降低到了臨界溫度。然后,控制裝置18通過被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17使被加熱物20向箭頭A方向移動(dòng)。 其結(jié)果是,達(dá)到臨界溫度的感應(yīng)加熱部位配置于第二冷卻水噴射部9的環(huán)狀的內(nèi)部??刂蒲b置18如圖5(b)所示關(guān)閉開閉閥12a,并且,開啟開閉閥12b,從第二冷卻水噴射部9的多個(gè)噴射口 9a噴射冷卻水,使達(dá)到臨界溫度的感應(yīng)加熱部位進(jìn)一步慢冷。S卩,在達(dá)到臨界溫度的感應(yīng)加熱部位的表面進(jìn)行熱交換形成升溫了的冷卻水的膜,從噴射口 9a噴射的低溫的冷卻水不能夠到達(dá)被加熱物的表面。這是因?yàn)楦鲊娚淇?9a的口徑比第一冷卻水噴射部 8的噴射口 8a的口徑大,噴射壓力低。但是,從各噴射口 9a噴射的冷卻水的噴射量比從噴射口 8a噴射的冷卻水的噴射量多。其結(jié)果是,環(huán)繞被加熱物20的表面的高溫的冷卻水的膜從外側(cè)通過大量低溫的冷卻水被冷卻。而且,被加熱物20的表面,因高溫的冷卻水被冷卻,而緩慢地被冷卻。感應(yīng)加熱的實(shí)施時(shí)期和加熱時(shí)間(通電時(shí)間)、以及第一冷卻水噴射部8、第二冷卻水噴射部9進(jìn)行的冷卻的實(shí)施時(shí)期和冷卻時(shí)間(冷卻水的噴射時(shí)間)通過控制裝置18 適當(dāng)控制。在此,如圖5 (d)所示,也可以通過將冷卻水供給源10與第一冷卻水噴射部8及第二冷卻水噴射部9進(jìn)行配管連接,從第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9同時(shí)噴射冷卻水。即,用配管13連接冷卻水供給源10和第一冷卻水噴射部8。而且,在配管13的中途設(shè)置總開關(guān)lla(開閉閥)和開閉閥12a。同樣地,用配管14連接冷卻水供給源10和第二冷卻水噴射部9。而且,在配管14的中途設(shè)置總開關(guān)lib和開閉閥12b。控制裝置18能夠個(gè)別地開閉總開關(guān)lla、llb、開閉閥12a、12b。對(duì)于圖5(d)所示的冷卻裝置la,第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9利用各自的配管13、14與冷卻水供給源10連接。其結(jié)果是,能夠一邊與圖5(a)的冷卻裝置1同樣地從第一冷卻水噴射部8以規(guī)定的噴射壓力(高壓)噴射冷卻水,一邊與圖5 (b)的冷卻裝置1同樣地從第二冷卻水噴射部9以規(guī)定的噴射壓力(低壓)噴射冷卻水。由此,能夠分別對(duì)被加熱物20的各個(gè)部位實(shí)施加熱裝置2的感應(yīng)加熱、冷卻水噴射部8的冷卻(急冷)、冷卻水噴射部9的冷卻(慢冷)。即,能夠使被加熱物20向箭頭A方向移動(dòng)、連續(xù)地實(shí)施感應(yīng)加熱、急冷和慢冷。另外,在圖5(a) (c)中,開閉閥1 和12b也能夠采用調(diào)節(jié)閥。S卩,通過配管 13、配管14中通水的冷卻水的量和開閉閥12a、12b的開度進(jìn)行調(diào)節(jié)。由此,能夠?qū)牡谝焕鋮s水噴射部8噴射的冷卻水的噴射壓力設(shè)定為較大的壓力。另外,在圖5(d)所示的例中,能夠個(gè)別地設(shè)定從第一冷卻水噴射部8和第二冷卻水噴射部9分別噴射的冷卻水的噴射壓力和噴射量。(第二實(shí)施例)下面,參照?qǐng)D6 圖9對(duì)第二實(shí)施例進(jìn)行說明。如圖6所示,冷卻裝置25包括水槽沈、遮蔽板3la、3lb、冷卻水噴射噴嘴37a、37b。在水槽沈的側(cè)壁26a上設(shè)置有缺口部27a。缺口部27a從側(cè)壁^a的上部開始設(shè)置到側(cè)壁26a的中途。缺口部27a的底部2 呈現(xiàn)為比被加熱物20的直徑大若干的大小及形狀。即,其意圖并不是在被加熱物20與底部2 之間形成漏水的間隙,但是,在相對(duì)于水槽26使被加熱物20進(jìn)行移動(dòng)時(shí),以被加熱物20不與底部2 接觸的方式,形成底部
22 ο在水槽沈的內(nèi)側(cè),缺口部27a的兩側(cè)設(shè)置有導(dǎo)引部^aJ9b。導(dǎo)引部29a具有從側(cè)壁26a立起的立起部32a、與立起部3 連接的平行部33a。另外,導(dǎo)引部29a在下部具有底部34a (圖9(a))。底部3 與側(cè)壁^a、立起部3 及平行部33a正交。而且,用側(cè)壁 26a和導(dǎo)引部29a構(gòu)成槽35a。導(dǎo)引部29b與導(dǎo)引部29a左右向相反,但是結(jié)構(gòu)相同。即,導(dǎo)引部29b具有立起部 32b、平行部33b、底部34b。而且,用導(dǎo)引部29b和側(cè)壁26a構(gòu)成槽35b。另外,在水槽沈的側(cè)壁26b上也設(shè)置有缺口部27b。而且,在缺口部27b的兩側(cè) (水槽沈的內(nèi)側(cè))設(shè)置有導(dǎo)引部30a、30b。導(dǎo)引部30a、30b的結(jié)構(gòu)與導(dǎo)引部四^四13的結(jié)構(gòu)一樣。缺口部27a、27b在配置了被加熱物20時(shí),在與被加熱物20之間形成為能夠具有間隙36 (圖7)的大小。水槽沈的側(cè)壁26b設(shè)定為比側(cè)壁26a低。S卩,水槽沈內(nèi)的水位M上升時(shí),水槽 26內(nèi)的冷卻水從側(cè)壁26b溢出,向水槽沈的外部流出。在此,也可以使側(cè)壁26c或側(cè)壁26d 比側(cè)壁26a低。即,以在水槽26的四個(gè)側(cè)壁中,僅側(cè)壁26a比另外三個(gè)側(cè)壁26b、26c、26d 高的方式構(gòu)成水槽26也可以。即使形成為這樣的結(jié)構(gòu),從水槽26溢出的冷卻水也不會(huì)流向加熱導(dǎo)體7側(cè)。而且,遮蔽板31a的左右兩端從導(dǎo)引部的槽35a、35b的上方嵌入。遮蔽板31b也同樣從導(dǎo)引部30a、30b的槽(無符號(hào))的上方嵌入。遮蔽板31a、31b為相同的結(jié)構(gòu)。在遮蔽板31a的下部,以能夠沿被加熱物20的上部配置的方式設(shè)置有分為兩半狀的凹陷 39a。向水槽沈安裝遮蔽板31a時(shí),遮蔽板31a的兩端的下部與導(dǎo)引部的底部 34a,34b抵接而停止。其結(jié)果是,在被加熱物20的下側(cè)存在水槽沈的缺口部27a的底部 22a,在被加熱物20的上側(cè),高度不同地配置有遮蔽板31a的凹陷39a。被加熱物20能夠與遮蔽板31a的凹陷39a和缺口部27a的底部2 不接觸而向箭頭A所示的方向順利地移動(dòng)。下面,對(duì)冷卻水噴射噴嘴37a、37b進(jìn)行說明。冷卻水噴射噴嘴37a、37b為相同的結(jié)構(gòu),因此,下面對(duì)冷卻水噴射噴嘴37a的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明,省略重復(fù)的說明。冷卻水噴射噴嘴37a連接有配管40a。冷卻水噴射噴嘴37a配置于水槽沈內(nèi),配管40a將設(shè)置于水槽沈的側(cè)壁^d的孔28b保持水密封地貫通。另外,冷卻水噴射噴嘴 37a具有在內(nèi)部容納冷卻水的內(nèi)部空間(未圖示)。而且,在冷卻水噴射噴嘴37a的連接配管40a側(cè)的相反側(cè)的側(cè)面,開設(shè)有多個(gè)噴射口 38a。S卩,噴射口 38a為連通水槽沈內(nèi)和未圖示的內(nèi)部空間的孔。在水槽沈內(nèi),冷卻水噴射噴嘴37a以開設(shè)噴射口 38a的側(cè)面朝向水槽 26的側(cè)壁^c的方式配置。冷卻水噴射噴嘴37a在水槽沈內(nèi)的設(shè)置高度為,在配置被加熱物20時(shí),能夠直接向被加熱物20噴射冷卻水的高度。即,冷卻水噴射噴嘴37a的上下方向的中央高度優(yōu)選與被加熱物20的中央高度一致。冷卻水噴嘴37b以與冷卻水噴射噴嘴37a相對(duì)的方式配置。而且,通過這些冷卻水噴射噴嘴37a、37b能夠向水槽沈內(nèi)供給冷卻水。在圖6 圖8所示的例中,僅設(shè)置有一組冷卻水噴射噴嘴37a、37b,但也能夠設(shè)置多組冷卻水噴射噴嘴37a、37b。S卩,在與側(cè)壁^c的孔28a相同的高度,且在孔^a的靠近側(cè)壁26a側(cè)和側(cè)壁26b側(cè)各設(shè)置1個(gè)與孔^a同樣的孔。其結(jié)果是,在側(cè)壁26c沿水平方向排列設(shè)置有3個(gè)孔。而且,在這些孔插通與配管40b同樣的配管。在各配管的端部設(shè)置有與冷卻水噴射噴嘴37a同樣的噴嘴。由此,在水槽沈內(nèi),以相同高度排列配置有3個(gè)冷卻水噴射噴嘴。在側(cè)壁26d側(cè)也同樣。即,在水槽沈內(nèi)相對(duì)配置有3組冷卻水噴射噴嘴。 將從各冷卻水噴射噴嘴噴射的冷卻水的噴射量和噴射壓力設(shè)定為相同也可以,但也可以設(shè)定為不同。也可以將接近側(cè)壁26a側(cè)的冷卻水噴射噴嘴的噴射量和噴射壓力設(shè)定為相對(duì)較大,將接近側(cè)壁26b側(cè)的冷卻水噴射噴嘴的噴射量和噴射壓力設(shè)定為相對(duì)較小。由此,被加熱物20的剛剛被感應(yīng)加熱之后的部位進(jìn)入水槽沈內(nèi)時(shí),最初被噴射壓力高的水流急冷 (第一模式),進(jìn)一步移動(dòng)到下游側(cè)被噴射壓力低的水流慢冷(第二模式)。下面,參照?qǐng)D9 (a) (e)說明冷卻裝置25的使用方法。圖9(a)所示的淬火作業(yè)前,在水槽沈內(nèi)未放入冷卻水,為空的狀態(tài)。然后,如圖 9(b)所示,將遮蔽板31a、31b安裝于水槽沈。接著,如圖9(c)所示,將被加熱物20配置于水槽26的附近能夠與加熱導(dǎo)體7接近的位置。這時(shí),以被加熱物驅(qū)動(dòng)裝置17的卡盤機(jī)構(gòu)把持被加熱物20的未圖示的一端(右側(cè)的端部)。然后,如圖9 (c)所示,使中心銷23從左方浸入水槽26的內(nèi)部。即,使中心銷23從缺口部27b側(cè)浸入水槽沈內(nèi)。然后,進(jìn)一步使中心銷23的前端從缺口部27a向水槽沈的外部突出,與被加熱物20的另一端(左側(cè)的端部)抵接。在被加熱物20的左端設(shè)置有卡合中心銷23的前端的圓錐狀的凹陷(未圖示)。 由此,被加熱物20的兩端用未圖示的卡盤機(jī)構(gòu)和中心銷23以能夠旋轉(zhuǎn)的方式支承。而且,通過加熱導(dǎo)體驅(qū)動(dòng)裝置16 (圖幻,加熱導(dǎo)體7從被加熱物20的上方接近配置,成為圖9(d)所示的狀態(tài)。在此,通過冷卻水噴射噴嘴37a、37b開始向水槽沈內(nèi)噴射冷卻水。在圖9(d)所示的狀態(tài)下,水位M為未到達(dá)中心銷23的高度。水位M快速上升,被加熱物20從左端部開始按順序被感應(yīng)加熱,在被感應(yīng)加熱的部位浸入水槽沈內(nèi)時(shí),水位M 如圖9(e)所示達(dá)到能夠完全淹沒被加熱物20的高度。另外,這時(shí)依靠貯存在水槽沈內(nèi)的冷卻水的水壓,遮蔽板31a被推壓向水槽沈的側(cè)壁^a。由此,側(cè)壁26a與遮蔽板31a的抵接部位密合,冷卻水變得難以向水槽沈之外流出。側(cè)壁^b與遮蔽板31b的抵接部位也同樣。然后,在加熱導(dǎo)體7中通過高頻電流,開始進(jìn)行被加熱物20的感應(yīng)加熱。被加熱物20的與加熱導(dǎo)體7相對(duì)的部分被感應(yīng)加熱。然后,在圖9(d)中被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位被向左方移送,配置于水槽沈內(nèi)。在圖9(e)中,描繪了被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位被配置于水槽26內(nèi)的狀態(tài)。這時(shí)的水槽沈內(nèi)的水位M成為淹沒中心銷23 和被加熱物20的程度的高度。即,如圖9(e)所示,淹沒了被加熱物20的加熱部位。在此,除了中心銷23的尖細(xì)的部分之外的部分的直徑與被加熱物20的直徑相同時(shí),具有如下優(yōu)點(diǎn)。即,將中心銷23的直徑設(shè)定為與被加熱物20的直徑相同時(shí),如圖9(c) 所示,在中心銷23和缺口部27b的底部22b之間形成間隙36。該間隙36作為使水槽沈內(nèi)的升溫了的冷卻水向水槽26的外部流出的流出結(jié)構(gòu)發(fā)揮功能。假設(shè)中心銷23的直徑比被加熱物20的直徑小,則圖9(c)所示的間隙36變得更大。因此,水槽沈內(nèi)的冷卻水從這個(gè)大的間隙大量流出,水位M難以上升。其結(jié)果是,使被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位淹沒在水槽沈內(nèi)需要花費(fèi)時(shí)間,對(duì)該部位進(jìn)行急冷是困難的。但是,將中心銷23的直徑設(shè)定為與被加熱物20的直徑相同時(shí),在被加熱物20的左端到達(dá)水槽沈的側(cè)壁26b之前,能夠通過中心銷23抑制貯存于水槽沈內(nèi)的冷卻水的不必要的流出。如果貯存于水槽沈內(nèi)的冷卻水不向外部流出,水槽沈內(nèi)的冷卻水的溫度上升,與被加熱物20的熱交換的效率降低。由此,需要向外部排出水槽沈內(nèi)的升溫了的冷卻水。但是,使冷卻水從水槽26的側(cè)壁26a側(cè)溢出時(shí),冷卻水會(huì)附著于感應(yīng)加熱中的被加熱物20。 其結(jié)果是,阻礙感應(yīng)加熱中的被加熱物20的溫度上升。于是,將水槽沈的側(cè)壁26b側(cè)的高度設(shè)定為比側(cè)壁26a側(cè)的高度低。S卩,水位M 上升,超過側(cè)壁26b的高度時(shí),水槽沈內(nèi)的冷卻水越過側(cè)壁^b向外部流出,但是,水位M 不會(huì)超過側(cè)壁26a。由此,通過將側(cè)壁26b側(cè)設(shè)定為比側(cè)壁26a側(cè)低,構(gòu)成冷卻水的流出結(jié)構(gòu)。其結(jié)果是,與被加熱物20進(jìn)行熱交換而升溫了的冷卻水從側(cè)壁26b側(cè)向外部排出,新的低溫的冷卻水從冷卻水噴射噴嘴37a、37b噴射供給。圖10為水槽沈的平面圖。在圖10 中,省略了被加熱物20的描繪。如圖10中箭頭所示,水槽沈內(nèi)的升溫了的冷卻水從側(cè)壁 26b側(cè)向外部排出。在側(cè)壁26a側(cè),在缺口部27a與被加熱物20之間也產(chǎn)生若干間隙。在遮蔽板31a與被加熱物20之間也同樣產(chǎn)生間隙。由此,從側(cè)壁26a側(cè)也泄漏若干冷卻水。 但是,該泄漏很少,不會(huì)對(duì)被加熱物20的感應(yīng)加熱中的部位進(jìn)行冷卻。另外,在水槽沈的下方設(shè)置有回收從水槽26流出的冷卻水的回收槽(未圖示)。被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位向水槽沈內(nèi)移動(dòng),由水槽沈內(nèi)的冷卻水遍及整個(gè)周圍而均勻地冷卻。另外,從冷卻水噴射噴嘴37a、37b朝向被感應(yīng)加熱了的部位噴射供給低溫的冷卻水,因此,能夠促進(jìn)被感應(yīng)加熱了的部位的冷卻。其結(jié)果是,能夠防止在被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位的螺旋狀的痕跡的產(chǎn)生。由此,淬火后的被加熱物20的外觀良好。如圖9(f)所示,也能夠設(shè)置與冷卻裝置25相鄰的冷卻裝置45。冷卻裝置45為與圖1所示的第二冷卻水噴射部9同樣的結(jié)構(gòu)。即,用冷卻裝置25對(duì)被加熱物20進(jìn)行急冷, 然后使被加熱物20的被感應(yīng)加熱了的部位向左方移動(dòng),移出水槽沈的外部,配置于環(huán)狀的冷卻裝置45內(nèi)。然后,通過冷卻裝置45對(duì)加熱部位進(jìn)行慢冷。由此,加熱部位從奧氏體良好地變化(相變)為馬氏體,并且,能夠防止加熱部位的相變應(yīng)力導(dǎo)致的淬裂。
權(quán)利要求
1.一種具有加熱導(dǎo)體和冷卻裝置的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于在實(shí)施淬火時(shí),冷卻裝置沿長(zhǎng)條狀的被加熱物的長(zhǎng)度方向與加熱導(dǎo)體相鄰配置,冷卻裝置與加熱導(dǎo)體一起在被加熱物的長(zhǎng)度方向相對(duì)于被加熱物進(jìn)行相對(duì)移動(dòng), 所述冷卻裝置包括具有多種冷卻液噴射模式的冷卻液噴射部, 冷卻液噴射模式至少包括強(qiáng)烈地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷的第一模式、較弱地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行慢冷的第二模式。
2.如權(quán)利要求1所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于第一模式為將升溫到淬火溫度的被加熱物急冷到規(guī)定溫度區(qū)域的噴射模式, 第二模式為將利用第一模式冷卻到規(guī)定溫度的被加熱物進(jìn)一步慢冷到低溫度區(qū)域的噴射模式。
3.如權(quán)利要求2所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于 利用第一模式被冷卻到的規(guī)定溫度為攝氏500°C附近的溫度。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于 冷卻液噴射部具有第一模式用的噴射噴嘴和第二模式用的噴射噴嘴,第一模式用的噴射噴嘴配置為比第二模式用的噴射噴嘴更接近對(duì)被加熱物進(jìn)行感應(yīng)加熱的加熱導(dǎo)體。
5.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于,包括 阻止冷卻液向加熱導(dǎo)體側(cè)飛散的遮蔽部件。
6.如權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于 高頻加熱裝置對(duì)以水平狀態(tài)被支承的長(zhǎng)條狀的被加熱物進(jìn)行淬火,所述冷卻裝置具有容納被加熱物的因被加熱而升高了溫度的部位的冷卻區(qū)域、向所述冷卻區(qū)域供給冷卻液的冷卻液供給機(jī)構(gòu)、阻止冷卻液向加熱裝置側(cè)飛散的遮蔽部件, 被加熱物在冷卻區(qū)域能夠浸漬在冷卻液中。
7.一種具有加熱導(dǎo)體和冷卻裝置的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于冷卻裝置沿以水平狀態(tài)被支承的長(zhǎng)條狀的被加熱物的長(zhǎng)度方向與加熱導(dǎo)體相鄰配置, 加熱導(dǎo)體對(duì)被加熱物進(jìn)行感應(yīng)加熱,且冷卻裝置與加熱導(dǎo)體一起在被加熱物的長(zhǎng)度方向相對(duì)于被加熱物進(jìn)行相對(duì)移動(dòng),所述冷卻裝置具有容納被加熱物的因被加熱而升高了溫度的部位的冷卻區(qū)域、向所述冷卻區(qū)域供給冷卻液的冷卻液供給機(jī)構(gòu)、阻止冷卻液向加熱機(jī)構(gòu)側(cè)飛散的遮蔽部件, 被加熱物在冷卻區(qū)域被浸漬于冷卻液中。
8.如權(quán)利要求7所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于 冷卻液供給機(jī)構(gòu)在冷卻區(qū)域內(nèi)向著被加熱物噴射冷卻液。
9.如權(quán)利要求8所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于具備多個(gè)冷卻液供給機(jī)構(gòu),所述多個(gè)冷卻液供給機(jī)構(gòu)從接近加熱導(dǎo)體的一側(cè)向遠(yuǎn)離加熱導(dǎo)體的一側(cè)按順序配置,配置于接近加熱導(dǎo)體的一側(cè)的冷卻液供給機(jī)構(gòu)強(qiáng)烈地噴射冷卻液,配置于遠(yuǎn)離加熱導(dǎo)體的一側(cè)的冷卻液供給機(jī)構(gòu)較弱地噴射冷卻液。
10.如權(quán)利要求7所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于所述冷卻區(qū)域?yàn)椴?,在所述槽?nèi)設(shè)置有兩個(gè)能夠?qū)⒈患訜嵛锏谋患訜徇^的部位配置于槽內(nèi)、且使同一被加熱物同時(shí)貫通的貫通部,冷卻液供給機(jī)構(gòu)使槽內(nèi)的液位上升,并且向著槽內(nèi)的被加熱物噴射冷卻液。
11.如權(quán)利要求7 10中任一項(xiàng)所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于 在冷卻區(qū)域具有冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻液容易從冷卻區(qū)域內(nèi)流出的流出結(jié)構(gòu),所述流出結(jié)構(gòu)設(shè)置于冷卻區(qū)域中未配置加熱導(dǎo)體的一側(cè)。
12.如權(quán)利要求10所述的高頻加熱裝置的冷卻裝置,其特征在于 配置有加熱導(dǎo)體的一側(cè)的槽的側(cè)壁的高度比其他側(cè)壁的高度高。
全文摘要
本發(fā)明提供一種高頻加熱裝置的冷卻裝置,其能夠?qū)Ρ桓袘?yīng)加熱了的長(zhǎng)條狀的被加熱物良好地冷卻。在實(shí)施淬火時(shí),冷卻裝置(1)沿長(zhǎng)條狀的被加熱物(20)的長(zhǎng)度方向與加熱導(dǎo)體(7)相鄰配置,且冷卻裝置(1)與加熱導(dǎo)體(7)一起沿被加熱物(20)的長(zhǎng)度方向相對(duì)于被加熱物(20)進(jìn)行相對(duì)移動(dòng),冷卻裝置(1)包括具有多種冷卻液噴射模式的冷卻液噴射部(8)、(9),冷卻液噴射模式至少包括強(qiáng)烈地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行急冷的第一模式、較弱地噴射冷卻液對(duì)被加熱物進(jìn)行慢冷的第二模式。而且,最初利用第一模式對(duì)被加熱到淬火溫度的被加熱物(20)進(jìn)行急冷,接著利用第二模式對(duì)被加熱物(20)進(jìn)行慢冷。
文檔編號(hào)C21D1/10GK102242244SQ20101025390
公開日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2010年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月10日
發(fā)明者宇田川彰, 巳之上潤(rùn)二, 渡邊弘子 申請(qǐng)人:富士電子工業(yè)株式會(huì)社
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