專利名稱：磁瓦表面研磨機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種專用的研磨設(shè)備，尤其是一種磁瓦表面研磨機。
背景技術(shù)：
我國是世界上稀土礦藏最多的國家，占世界上已探明的稀土礦藏的70% 以上，原來我國一直是以出口礦石為主，近年來我國為了保護(hù)國有資源， 最大限度的合理開發(fā)利用稀土礦藏，已經(jīng)明文規(guī)定控制稀土礦石的出口， 并以加工成品出口為主，鼓勵企業(yè)將稀土材料加工成品出口，這樣，我國 的稀土材料加工行業(yè)呈現(xiàn)了前所未有的蓬勃發(fā)展的局面。
磁瓦是應(yīng)用于電機上的具有磁性的瓦片，是由稀土材料壓鑄并經(jīng)研磨 制成，經(jīng)充磁形成磁瓦，磁瓦需研磨的分別有十個表面，現(xiàn)在我國的磁瓦 研磨一般是手工操作，靠手工操作在砂輪上研磨磁瓦的各處表面；也有部 分廠家使用了半自動化的設(shè)備在生產(chǎn)， 一次完成磁瓦的幾處表面的研磨， 這些加工方法存在產(chǎn)品合格率低、 一致性差、環(huán)境污染、工人勞動強度大 和能源浪費等問題。 發(fā)明內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能將磁瓦的所要求加工研 磨的十個面在一臺設(shè)備上一次加工完成，實現(xiàn)機器化作業(yè)生產(chǎn)，解決目前 手工加工或半自動加工所造成的產(chǎn)品合格率低、 一致性差、環(huán)境污染、工 人勞動強度大和能源浪費等缺陷。
本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是 一種磁瓦表面研磨 機，用于對磁瓦的內(nèi)凹面、外凸面、兩側(cè)面和兩端面的研磨，具有機體，機體上設(shè)置有與磁瓦軸線同向的允許磁瓦在上部滑動的導(dǎo)軌，在導(dǎo)軌側(cè)邊 的機體上分別設(shè)置有內(nèi)凹面磨頭、外凸面磨頭、兩側(cè)面磨頭和兩端面磨頭， 每個磨頭上都安裝有與所需研磨表面形狀相吻合的定型砂輪；在所述的機 體上還設(shè)置有驅(qū)動磁瓦在導(dǎo)軌上滑動的送進(jìn)裝置。
具體的說所述的導(dǎo)軌為兩根并排設(shè)置的導(dǎo)桿，所述的磁瓦在導(dǎo)桿上 的狀態(tài)為內(nèi)凹面朝上，所述的驅(qū)動磁瓦在導(dǎo)軌上滑動的裝置為由電機驅(qū)動 的上下設(shè)置的壓輪。
進(jìn)一步的，所述的兩端面磨頭設(shè)置在最終的加工工位處，在兩端面磨 頭與前道磨頭之間的位置處設(shè)置有將磁瓦從內(nèi)凹面朝上的軸線水平狀態(tài)撥 成內(nèi)凹面朝向側(cè)面的軸線垂直狀態(tài)并將磁瓦推向兩端面磨頭的撥推裝置。
為了延長定型砂輪的使用壽命和提高加工精度，所述的內(nèi)凹面磨頭、 外凸面磨頭、兩側(cè)面磨頭和兩端面磨頭上還分別設(shè)置有冷卻裝置。
具體的說所述的冷卻裝置為具有噴頭、接水槽、循環(huán)水箱和水泵的 裝置。
為了防止研磨后的粉塵、污水的飛揚和飛濺，所述的機體上還設(shè)置有
圍士 草殼。
本實用新型的有益效果是，本實用新型提供了一種能將磁瓦的所要求 加工研磨的十個面在一臺設(shè)備上一次加工完成，實現(xiàn)了機器化作業(yè)生產(chǎn)， 解決了目前手工加工或半自動加工所造成的產(chǎn)品合格率低、 一致性差、環(huán) 境污染、工人勞動強度大和能源浪費等缺陷。以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明。


圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是
圖1的A-A剖視圖。 圖3是
圖1的B向視圖。
圖中1.磁瓦，2.導(dǎo)軌，3.內(nèi)凹面磨頭，4.外凸面磨頭，5.兩側(cè)面磨頭 6.兩端面磨頭，7.送進(jìn)裝置，8.撥推裝置。。
具體實施方式
如
圖1至3所示的本實用新型的磁瓦表面研磨機的結(jié)構(gòu)示意圖，用于 對磁瓦1的內(nèi)凹面、外凸面、兩側(cè)面和兩端面的研磨，具有機體，機體上 設(shè)置有與磁瓦軸線同向的允許磁瓦在上部滑動的導(dǎo)軌2，在導(dǎo)軌2側(cè)邊的機 體上分別設(shè)置有內(nèi)凹面磨頭3、外凸面磨頭4、兩側(cè)面磨頭5和兩端面磨頭 6，每個磨頭上都安裝有與所需研磨表面形狀相吻合的定型砂輪；在機體上 還設(shè)置有驅(qū)動磁瓦1在導(dǎo)軌2上滑動的送進(jìn)裝置7;導(dǎo)軌2為兩根并排設(shè)置 的導(dǎo)桿，所述的磁瓦l在導(dǎo)桿上的狀態(tài)為內(nèi)凹面朝上，送進(jìn)裝置7為由電 機驅(qū)動的上下設(shè)置的壓輪；兩端面磨頭6設(shè)置在最終的加工工位處，在兩 端面磨頭6與前道磨頭之間的位置處設(shè)置有將磁瓦1從內(nèi)凹面朝上的軸線 水平狀態(tài)撥成內(nèi)凹面朝向側(cè)面的軸線垂直狀態(tài)并將磁瓦1推向兩端面磨頭 6的撥推裝置8;內(nèi)凹面磨頭3、外凸面磨頭4、兩側(cè)面磨頭5和兩端面磨 頭6上還分別設(shè)置有冷卻裝置；冷卻裝置為具有噴頭、接水槽、循環(huán)水箱 和水泵的裝置；機體上還設(shè)置有罩殼，罩殼和冷卻裝置在附圖上沒有繪出， 另外，本實用新型的磁瓦表面研磨機還應(yīng)設(shè)置有控制裝置，控制裝置在附 圖上也沒有繪出。
由于外凸面磨頭4設(shè)置在與內(nèi)凹面磨頭3和兩側(cè)面磨頭5的相對于導(dǎo)軌2的另一側(cè)，所以，在外凸面磨頭4位置處的導(dǎo)軌2處于斷開狀態(tài)，在 外凸面磨頭4的對應(yīng)位置還專門設(shè)置有壓輪。
為了保證磁瓦1在導(dǎo)軌2上移動狀態(tài)穩(wěn)定，在磁瓦1的兩側(cè)還可以設(shè) 置導(dǎo)向塊。
如附圖具體結(jié)構(gòu)的本實用新型的使用過程是這樣的-
將磁瓦1內(nèi)凹面朝上順序放置在導(dǎo)軌2上，由送進(jìn)裝置7送進(jìn)，磁瓦 經(jīng)兩側(cè)面磨頭5、內(nèi)凹面磨頭3和外凸面磨頭4的順序完成磁瓦1的兩側(cè)面、 內(nèi)凹面和外凸面的研磨，再經(jīng)撥推裝置8將磁瓦1撥成軸線垂直的狀態(tài)， 并被撥推裝置8推進(jìn)兩端面磨頭6的磨削位置，從而完成磁瓦1所有需要 研磨表面的加工。
權(quán)利要求1.一種磁瓦表面研磨機，用于對磁瓦(1)的內(nèi)凹面、外凸面、兩側(cè)面和兩端面的研磨，其特征是具有機體，機體上設(shè)置有與磁瓦軸線同向的允許磁瓦在上部滑動的導(dǎo)軌(2)，在導(dǎo)軌(2)側(cè)邊的機體上分別設(shè)置有內(nèi)凹面磨頭(3)、外凸面磨頭(4)、兩側(cè)面磨頭(5)和兩端面磨頭(6)，每個磨頭上都安裝有與所需研磨表面形狀相吻合的定型砂輪；在所述的機體上還設(shè)置有驅(qū)動磁瓦(1)在導(dǎo)軌(2)上滑動的送進(jìn)裝置(7)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁瓦表面研磨機，其特征是所述的導(dǎo)軌(2) 為兩根并排設(shè)置的導(dǎo)桿，所述的磁瓦(1)在導(dǎo)桿上的狀態(tài)為內(nèi)凹面朝上， 所述的送進(jìn)裝置(7)為由電機驅(qū)動的上下設(shè)置的壓輪。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁瓦表面研磨機，其特征是所述的兩端面 磨頭(6)設(shè)置在最終的加工工位處，在兩端面磨頭(6)與前道磨頭之間 的位置處設(shè)置有將磁瓦(1)從內(nèi)凹面朝上的軸線水平狀態(tài)撥成內(nèi)凹面朝向 側(cè)面的軸線垂直狀態(tài)并將磁瓦(1)推向兩端面磨頭(6)的撥推裝置(8)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁瓦表面研磨機，其特征是所述的內(nèi)凹面 磨頭(3)、外凸面磨頭(4)、兩側(cè)面磨頭(5)和兩端面磨頭(6)上還分 別設(shè)置有冷卻裝置。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁瓦表面研磨機，其特征是所述的冷卻裝 置為具有噴頭、接水槽、循環(huán)水箱和水泵的裝置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁瓦表面研磨機，其特征是所述的機體上 還設(shè)置有罩殼。
專利摘要本實用新型涉及一種專用的研磨設(shè)備，尤其是一種磁瓦表面研磨機。用于對磁瓦的內(nèi)凹面、外凸面、兩側(cè)面和兩端面的研磨，克服目前沒有實現(xiàn)磁瓦研磨加工在一臺機器上完成所有研磨工序的問題，解決現(xiàn)有研磨方法的勞動強度大和環(huán)境污染的不足；設(shè)備具有機體，機體上設(shè)置有與磁瓦軸線同向的允許磁瓦在上部滑動的導(dǎo)軌，在導(dǎo)軌側(cè)邊的機體上分別設(shè)置有內(nèi)凹面磨頭、外凸面磨頭、兩側(cè)面磨頭和兩端面磨頭，每個磨頭上都安裝有與所需研磨表面形狀相吻合的定型砂輪；在所述的機體上還設(shè)置有驅(qū)動磁瓦在導(dǎo)軌上滑動的送進(jìn)裝置。
文檔編號B24B19/26GK201132287SQ20072004334
公開日2008年10月15日 申請日期2007年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月19日
發(fā)明者呂景文 申請人:呂景文