專利名稱：高真空電子束熱處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明為電子束熱處理領(lǐng)域。
技術(shù)背景 目前電子束強(qiáng)化與激光表面改性相比，電子束表面改性的最大優(yōu)點(diǎn)是電子束的能量利用率更高，可以達(dá)到95％。激光由于在材料表面的反射率高達(dá)85％～95％，具有較低的能量利用率。電子束的有效功率可比激光大一個(gè)數(shù)量級(jí)，在真空中進(jìn)行表面改性時(shí)，電子束的工作效率要比激光高得多。
技術(shù)內(nèi)容 高真空電子束熱處理是在高真空的工作室內(nèi)進(jìn)行的。其工作室的壓力可保持在1.33×10-1～1.33×10-4Pa范圍內(nèi)。高的真空度對(duì)電子束的物理性能和工件的熱處理有很大的影響。
具體實(shí)施方法 ①工件室的壓力可保持在1.33×10-1～1.33×10-4Pa范圍內(nèi)。電子槍工作室可用一套真空機(jī)組抽真空，也可用兩套機(jī)組分別對(duì)電子槍和真空室單獨(dú)抽真空。為防止擴(kuò)散泵油污染工作室，可采用離子鏡，電子槍室與工作室道口設(shè)有隔離閥。
②加速電壓范圍一般為15～175kV。其可調(diào)節(jié)范圍很寬。因而適合于各種金屬材料的熱處理要求。
③電子束在工作室的最大傳輸距離很大，可以高達(dá)1000mm。這特別適合于大型工件的熱處理以及形狀復(fù)雜的小型零件的熱處理。
④電子束處理在高真空室內(nèi)，其電子散射小，功率密度高。因而其電子束斑可以很大，例如20mm×20mm。這特別有利電子束的大面積表面硬化，避免了束斑多道搭接所帶來(lái)的一系列問(wèn)題，例如二次加熱回火軟化。
權(quán)利要求
1.工作室的壓力可保持在1.33×10-1～1.33×10-4Pa范圍內(nèi)。高的真空度對(duì)電子束的物理性能和工件的熱處理有很大的影響。為防止擴(kuò)散泵油污染工作室，可采用離子鏡，電子槍室與工作室道口設(shè)有隔離閥。
全文摘要
本發(fā)明為電子束熱處理領(lǐng)域。目前電子束強(qiáng)化與激光表面改性相比，電子束表面改性的最大優(yōu)點(diǎn)是電子束的能量利用率更高，可以達(dá)到95％。激光由于在材料表面的反射率高達(dá)85％～95％，具有較低的能量利用率。高真空電子束熱處理是在高真空的工作室內(nèi)進(jìn)行的。其工作室的壓力可保持在1.33×10-1～1.33×10-4Pa范圍內(nèi)。高的真空度對(duì)電子束的物理性能和工件的熱處理有很大的影響。
文檔編號(hào)C21D1/06GK101157967SQ20071013553
公開(kāi)日2008年4月9日 申請(qǐng)日期2007年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月13日
發(fā)明者肖文進(jìn) 申請(qǐng)人:吳江市天地人真空爐業(yè)有限公司