專利名稱：：只寫一次信息記錄媒體及其記錄層的形成方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及一種記錄媒體及其記錄層的形成方法，尤其涉及一種只寫一次信息記錄媒體及其記錄層的形成方法。
背景技術：
：隨著信息與多媒體世代的來臨，計算機、通信、消費性電子產(chǎn)品對于信息記錄媒體需求強勁。在各種信息記錄媒體中，光記錄媒體因為其容量大、畫質佳、存取速度快、體積小易攜帶，以及保存時間長這些優(yōu)點，使得光記錄媒體成為時下信息記錄媒體的主流。光記錄媒體，主要是利用激光去執(zhí)行讀取和寫入的動作。記錄所用的載體為盤片。通過激光聚焦于盤片中的記錄層，與其中的記錄材料反應，形成記錄點(recordedmarks)，將數(shù)字信息寫入記錄層。讀取盤片時，再根據(jù)激光掃瞄盤片時，有記錄點和無記錄點區(qū)域激光反射光量強弱的不同，判讀盤片上的數(shù)字信息。根據(jù)光記錄媒體讀寫性質的不同，可區(qū)分為只讀(readonly)盤片，如CD、DVD，只寫一次(write-once)盤片，如CD-R，以及重復讀寫(rewritable)盤片，如CD-RW。其中，只寫一次(write-once)盤片因為激光寫入盤片記錄層，形成記錄點的反應為不可逆反應。故僅能寫入一次，而無法重復讀寫。只寫一次(write-once)盤片的記錄材料一般為有機染料。有機染料因為合成和純化工藝復雜，所以成本較高，而且有機染料的填充性及膜層均勻性也不佳。此外，新一代的藍光盤片因為盤片的記錄容量更大，故所用的激光波長更短，可預期的是適用的有機染料的選擇將更少，合成的難度將更高。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明所要解決的技術問題在于提供一種只寫一次信息記錄媒體，其所用的無機記錄材料，具有良好的填充性和膜層均勻性，故數(shù)據(jù)記錄密度高。并且此無機記錄材料耐光和耐候度高，不容易質變，故在數(shù)據(jù)的保存上安全性更高，保存期限更長。并且此無機記錄材料吸收光區(qū)廣，除了可應用于目前的CD-R、DVD-R外，還可以用于未來的藍光盤片。本發(fā)明的又一目的是提供一種記錄層的形成方法，此記錄層的材質為無機材料，故無有機材料工藝復雜的問題。使用此種形成方法，工藝簡單又快速，適宜大量生產(chǎn)。為實現(xiàn)上述目的，提出一種只寫一次信息記錄媒體，其包含第一基板、記錄層、第一介電層和第二基板。記錄層位于第一基板上，包含一種無機記錄材料，此無機記錄材料為碲鈀氧氮化物，化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲(Te)、鈀(Pd)、氧(O)和氮(N)在無機記錄材料中所占的摩爾百分比。記錄層的形成方法可為反應性濺鍍法、蘋果派靶共濺鍍法或合金靶濺鍍法。上述的第一介電層位于記錄層上，第二基板位于第一介電層上。而且，為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種記錄層的形成方法，記錄層位于只寫一次信息記錄媒體中，包含無機記錄材料碲鈀氧氮化物，化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲(Te)、鈀(Pd)、氧(O)和氮(N)在無機記錄材料中所占的摩爾百分比，記錄層的形成方法為濺鍍法。適合的濺鍍法包含反應性濺鍍法、蘋果派靶共濺鍍法或合金靶濺鍍法。由上述可知，在本發(fā)明的只寫一次信息記錄媒體，利用碲鈀氧氮化物作為記錄層的記錄材料，因為碲鈀氧氮化物為無機材料，故不會有有機染料工藝復雜的問題。而且，無機材料的吸收光區(qū)較有機染料寬廣，因此，此無機記錄材料除了可應用于目前的CD-R、DVD-R外，還可以用于未來的藍光盤片。以下結合附圖和具體實施例對本發(fā)明進行詳細描述，但不作為對本發(fā)明的限定。圖1為依照本發(fā)明一較佳實施例的一種只寫一次信息記錄媒體的剖面示意圖；圖2至圖5為依照本發(fā)明其它較佳實施例的一種只寫一次信息記錄媒體的剖面示意圖；圖6為依照本發(fā)明一較佳實施例的藍光盤片的動態(tài)觀察圖。其中，附圖標記100第一基板110記錄層120第一介電層130第二基板140反射層150第二介電層160保護層具體實施方式圖1為依照本發(fā)明一較佳實施例的一種只寫一次信息記錄媒體的剖面示意圖。如圖所示，只寫一次信息記錄媒體從下至上依序包含第一基板100、記錄層110、第一介電層120和第二基板130。在較佳實施例中，第一基板100的材質為玻璃、聚碳酸酯樹脂或聚甲基丙烯酸甲脂(PolyMethylMethacrylate，PMMA)。第二基板130的材質與第一基板100的材質相同，也為玻璃、聚碳酸酯樹脂或聚甲基丙烯酸甲脂。記錄層110的厚度較佳約為5nm到60nm，其主要由一種無機記錄材料所組成。此無機記錄材料為碲鈀氧氮化物，化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲(Te)、鈀(Pd)、氧(O)和氮(N)在無機記錄材料中所占的摩爾百分比。第一介電層120的厚度較佳約為10nm到200nm。第一介電層120的材質較佳為氮硅化物(SiNx)、硫化鋅-氧化硅(ZnS-SiO2)、氮硅化物(AlNx)、碳化硅(SiC)、氮鍺化物(GeNx)、氮鈦化物(TiNx)、氧化鉭(TaOx)或氧化釔(YOx)。只寫一次信息記錄媒體主要是利用記錄層110中無機記錄材料碲鈀氧氮化物來記錄信息。碲鈀氧氮化物具有良好的填充性和膜層均勻性，故數(shù)據(jù)記錄密度高。并且碲鈀氧氮化物的耐光和耐候度高，不容易質變，故在數(shù)據(jù)的保存上安全性更高，保存期限更長。另外，碲鈀氧氮化物的吸收光區(qū)廣，除了可應用于目前的CD-R、DVD-R外，還可以用于新一代的藍光盤片。在寫入信息時，激光會穿透第一基板100，聚焦于記錄層110中的無機記錄材料碲鈀氧氮化物上，碲鈀氧氮化物會吸收激光的能量，形成記錄點。在讀取信息時，激光會穿透第一基板100，掃瞄記錄層110。通過有記錄點和無記錄點區(qū)域激光反射光量強弱的不同，判讀盤片上的數(shù)字信息。只寫一次信息記錄媒體除了圖1所示的結構外，還可以有其它的結構。圖2至圖4所示為只寫一次信息記錄媒體的其它結構。在圖2的結構中，多了一層反射層140，位于第一介電層120和第二基板130間。此層反射層140能增強激光反射的信號，提升讀取的信號噪聲比。反射層140的材質較佳為銀、金、鋁、鈦、鉛、鉻、鉬、鎢、鉭或上述的合金，厚度較佳約為20nm到200nm。在圖1和圖2的結構中，可以在第一基板100和記錄層110間，加入一層第二介電層150，分別如圖3和圖4所示。第二介電層150的功用為保護記錄層110，其材質同第一介電層120，較佳為氮硅化物、硫化鋅-氧化硅、氮硅化物、碳化硅、氮鍺化物、氮鈦化物氧化鉭或氧化釔。在反射層140和第二基板130間，還可以加入一層保護層160，如圖5所示。保護層160的功用為保護反射層140。只寫一次信息記錄媒體中記錄層110的形成方法較佳是采濺鍍法。適用的濺鍍法包含反應性濺鍍法、蘋果派靶共濺鍍法、合金靶濺鍍法。反應性濺鍍法是使用碲鈀氧化物(Tex’Pdy’Oz’)合金作靶材，其中15＜x’＜55，2＜y’＜25，25＜z’＜60，x’、y’和z’為碲(Te)、鈀(Pd)和氧(O)在碲鈀氧化物(Tex’Pdy’Oz’)合金中所占的摩爾百分比。在執(zhí)行濺渡的過程中，需要通入氮氣和氬氣作反應氣體。其中氬氣用以形成濺鍍所需的電漿，而氮氣在被電漿解離產(chǎn)生氮原子之后，氮原子會和被電漿轟擊出的碲鈀氧化物合金反應，在待沉積的基板上形成碲鈀氮氧化物(TexPdyOzNα)。蘋果派靶共濺鍍法則是用碲(Te)、鈀(Pd)作靶材，依據(jù)碲、鈀在碲鈀氮氧化物(TexPdyOzNα)中所占的比例，分配碲、鈀在靶材上的面積，因為各金屬在靶材上分配區(qū)域的形狀像蘋果派，故稱蘋果派靶共濺鍍法。在執(zhí)行蘋果派靶共濺鍍的過程中，通入固定比例的氮氣、氧氣和氬氣，讓氮氣和氧氣會和轟擊出的碲和鈀反應，在待沉積的基板上形成碲鈀氮氧化物。合金靶濺鍍法則是直接使用碲鈀氮氧化物(TexPdyOzNα)的合金靶作靶材，經(jīng)由濺鍍，在待沉積的基板上形成碲鈀氮氧化物。圖6為依照本發(fā)明一較佳實施例的藍光盤片的動態(tài)觀察圖(Eyepattern)。測試用的藍光盤片的結構請參照圖4。藍光盤片的架構依序為第一基板100、第二介電層150、記錄層110、第一介電層120、反射層140和第二基板130。第一基板100為HDDVD基板，軌距0.4μm。第二介電層150與第一介電層120的材質為硫化鋅-氧化硅，厚度則分別為25nm與20nm。記錄層110包含厚度為20nm無機記錄材料碲鈀氧氮化物，且其形成方式是采反應性濺鍍法。反射層140的材質為鋁鈦合金，厚度為100nm。測試條件如下表所示在圖6中，在反應濺鍍中通入的氬氣固定在36sccm時，當?shù)獨馔ㄈ肓吭?~10sccm時，盤片的部分反應信號噪聲比(PRSNR)高，顯示盤片具有不錯的記錄特性，特別是在充氮量4sccm，記錄層中碲鈀氧氮化物TexPdyOzNα的x為39，y為11，z為42，α為8時，部分反應信號噪聲比達到一個最大值23.5。上述結果顯示在充氮量4sccm時，反應濺鍍所形成的記錄層有較佳的記錄特性。上述本發(fā)明較佳實施例可知，應用本發(fā)明具有下列優(yōu)點。(1)本發(fā)明的無機記錄材料具有良好的填充性和膜層均勻性，故數(shù)據(jù)記錄密度高。(2)本發(fā)明的無機記錄材料的耐光和耐候度高，不容易質變，故在數(shù)據(jù)的保存上安全性更高，保存期限更長。(3)本發(fā)明的無機記錄材料吸收光區(qū)廣，可用于新一代的藍光盤片。當然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質的情況下，熟悉本領域的技術人員當可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本發(fā)明所附的權利要求的保護范圍。權利要求1.一種只寫一次信息記錄媒體，其特征在于，包含一第一基板；一記錄層位于該第一基板上，其中該記錄層包含一無機記錄材料，該無機記錄材料為碲鈀氧氮化物，化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲、鈀、氧和氮在該無機記錄材料中所占的摩爾百分比；一第一介電層位于該記錄層上；以及一第二基板位于該第一介電層上。2.根據(jù)權利要求1所述的只寫一次信息記錄媒體，其特征在于，還包含一反射層介于該第一介電層和該第二基板間。3.根據(jù)權利要求1所述的只寫一次信息記錄媒體，其特征在于，還包含一第二介電層介于該第一基板和該記錄層間。4.根據(jù)權利要求1所述的只寫一次信息記錄媒體，其特征在于，該記錄層的形成方法為反應性濺鍍法，使用的反應氣體為氮氣和氬氣，使用的靶材為碲鈀氧化物合金，該碲鈀氧化物化學式為Tex’Pdy’Oz’，其中15＜x’＜55，2＜y’＜25，25＜z’＜60，x’、y’和z’為碲、鈀和氧在該碲鈀氧化物合金中所占的摩爾百分比。5.根據(jù)權利要求1所述的只寫一次信息記錄媒體，其特征在于，該記錄層的形成方法為蘋果派靶共濺鍍法，使用的反應氣體為氮氣、氧氣和氬氣，使用的靶材為碲和鈀，依據(jù)碲、鈀在碲鈀氮氧化物中所占的比例，分配碲、鈀在靶材上的面積。6.根據(jù)權利要求1所述的只寫一次信息記錄媒體，其特征在于，該記錄層的形成方法為合金靶濺鍍法，使用的靶材為碲鈀氧氮化物，該碲鈀氧氮化物化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲、鈀、氧和氮在碲鈀氧氮化物中所占的摩爾百分比。7.一種記錄層的形成方法，其特征在于，該記錄層位于一只寫一次信息記錄媒體中，該記錄層包含一無機記錄材料，該無機記錄材料為碲鈀氧氮化物，化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲、鈀、氧和氮在該無機記錄材料中所占的摩爾百分比，該記錄層的形成方法為濺鍍法。8.根據(jù)權利要求7所述的記錄層的形成方法，其特征在于，該記錄層的形成方法為反應性濺鍍法，使用的反應氣體為氮氣和氬氣，使用的靶材為碲鈀氧化物合金，該碲鈀氧化物化學式為Tex’Pdy’Oz’，其中15＜x’＜55，2＜y’＜25，25＜z’＜60，x’、y’和z’為碲、鈀和氧在碲鈀氧化物合金中所占的摩爾百分比。9.根據(jù)權利要求7所述的記錄層的形成方法，其特征在于，該記錄層的形成方法為蘋果派靶共濺鍍法，使用的反應氣體為氮氣、氧氣和氬氣，使用的靶材為碲和鈀，依據(jù)碲、鈀在碲鈀氮氧化物中所占的比例，分配碲、鈀在靶材上的面積。10.根據(jù)權利要求7所述的記錄層的形成方法，其特征在于，該記錄層的形成方法為合金靶濺鍍法，使用的靶材為碲鈀氧氮化物，化學式為TexPdyOzNα，其中15＜x＜55，2＜y＜25，25＜z＜60，5＜α＜15，x、y、z和α為碲、鈀、氧和氮在碲鈀氧氮化物中所占的摩爾百分比。全文摘要本發(fā)明公開一種只寫一次信息記錄媒體及其記錄層的形成方法，該記錄媒體由下至上依序包含第一基板、記錄層、第一介電層和第二基板。記錄層主要包含一種無機記錄材料，此無機記錄材料為碲鈀氧氮化物，其化學式為Te文檔編號C23C14/34GK101038766SQ20061006530公開日2007年9月19日申請日期2006年3月17日優(yōu)先權日2006年3月17日發(fā)明者陳種發(fā),吳正吉,王威翔申請人:錸德科技股份有限公司