專利名稱：冷卻裝置、使用了該裝置的圖像顯示面板的制造裝置以及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及例如在圖像顯示面板或者半導(dǎo)體裝置等電子和電氣設(shè)備的制造工藝中，在把在該電子和電氣設(shè)備中使用的基板加熱處理后的冷卻中所使用的冷卻裝置、使用了該裝置的圖像顯示面板的制造裝置以及圖像顯示面板的制造方法。更詳細(xì)地講，涉及使冷卻板與上述電子和電氣設(shè)備用的被加熱的基板相對(duì)用該冷卻板吸收放射熱冷卻基板的冷卻裝置、使用了該裝置的圖像顯示面板的制造裝置以及圖像顯示面板的制造方法。
背景技術(shù)：
以往，在圖像顯示面板或者半導(dǎo)體的制造工藝等中，在真空狀態(tài)下把基板加熱處理后進(jìn)行冷卻。通過(guò)吸收來(lái)自基板的放射熱(輻射熱)進(jìn)行該加熱了的基板在真空環(huán)境下的冷卻。例如，在特開(kāi)平7-216550號(hào)公報(bào)中，公開(kāi)了這樣的構(gòu)成，即在半導(dǎo)體制造中的基板的冷卻時(shí)，與基板平行設(shè)置金屬板，通過(guò)在該金屬板的與基板相對(duì)的面上形成輻射吸熱層，用輻射吸收層吸收從基板發(fā)出的輻射熱，把所吸收的熱量熱傳遞到金屬板上，進(jìn)而，能夠經(jīng)過(guò)金屬板把該熱量排放。
然而，在上述以往的冷卻中存在以下的問(wèn)題。
第1，供冷卻的基板的溫度從表里面和側(cè)端面放射熱的周端邊緣，特別是角部開(kāi)始下降，隨著基板尺寸增大，基板的中心部分與端緣的距離增大，難以進(jìn)行迅速的熱傳導(dǎo)，因此在易于進(jìn)行冷卻的周緣部分和難以進(jìn)行冷卻的中心部分中容易產(chǎn)生很大的溫差。伴隨著冷卻的溫度分布成為基板的畸變或者破損的原因。
第2，在加熱以后需要進(jìn)行冷卻的基板中，例如，像把電子源基板與熒光體基板相對(duì)配置的圖像顯示面板中的圖像顯示面板用的基板(電子源基板或者熒光體基板)那樣，有不少在基板表面的一部分中，設(shè)置了放射率與基板自身不同的部件(例如，布線或者熒光體等)的情況。進(jìn)而，如果以圖像顯示面板用的基板為例進(jìn)行說(shuō)明，則通常由于基板是放射率比較高的玻璃，布線是放射率比較低的金屬，因此由冷卻板進(jìn)行的冷卻從偏離布線的形成區(qū)域的基板邊角部分附近開(kāi)始進(jìn)行，也存在易于發(fā)生成為基板的畸變或者破損原因的溫度分布的問(wèn)題。特別是，如果布線集中在基板的中央附近，則將進(jìn)一步增大起因于上述第1理由的溫度分布，成為產(chǎn)生基板斷裂的原因。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的第1個(gè)目的在于在使冷卻板與加熱了的基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻時(shí)，能夠容易地抑制在板材的中心部分與周緣部分之間產(chǎn)生的溫度分布變化。另外，本發(fā)明的第2個(gè)目的在于在基板的至少一個(gè)面的一部分上具有放射率與該基板不同的異放射率部件的情況下，能夠容易地抑制由基板與異放射率部件之間的放射率差異在基板中產(chǎn)生的溫度分布。進(jìn)而，本發(fā)明的第3個(gè)目的在于在伴隨著圖像顯示面板用的基板的加熱和冷卻的圖像顯示面板的制造時(shí)，能夠容易地抑制冷卻時(shí)在基板中產(chǎn)生的溫度分布。
本發(fā)明的冷卻裝置，使冷卻板與基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻，特征是在上述冷卻板中，以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板進(jìn)行冷卻時(shí)在基板中產(chǎn)生的溫度分布的圖案，設(shè)置放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
另外，本發(fā)明的冷卻裝置，使冷卻板與具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域的基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻，特征是上述冷卻板具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的放射率比其它的(冷卻板的)區(qū)域高的區(qū)域。
另外，本發(fā)明的圖像顯示面板的制造裝置，具備把在基板的至少一方面的一部分上，設(shè)置了放射率與該基板不同的異放射率部件的圖像顯示面板用的基板進(jìn)行加熱的加熱裝置；使冷卻板與用該加熱裝置加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的冷卻裝置，特征是上述冷卻裝置的冷卻板以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由于上述基板與上述異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，具備放射率與冷卻板其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
另外，本發(fā)明的圖像顯示面板的制造裝置，具備對(duì)具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域圖像顯示用的基板進(jìn)行加熱的加熱裝置；使冷卻板與用該加熱裝置加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的冷卻裝置，特征是上述冷卻裝置的冷卻板具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比冷卻板的其它的區(qū)域高的區(qū)域。
另外，本發(fā)明的圖像顯示面板的制造方法，具備在對(duì)基板的至少單面的一部分上設(shè)置了放射率與該基板不同的異放射率部件的圖像顯示面板用的基板進(jìn)行加熱以后，使冷卻板與該加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的工藝，特征是將以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由于上述基板與上述異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，具有放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域的冷卻板用作為上述冷卻板。
另外，本發(fā)明的圖像顯示面板的制造方法，具有在對(duì)具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域的圖像顯示用的基板進(jìn)行加熱以后，使冷卻板與該加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的工藝，特征是將具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比其它的(冷卻板的)區(qū)域高的區(qū)域的冷卻板用作為上述冷卻板。


圖1是表示作為圖像顯示面板的制造裝置的一部分使用的具有本發(fā)明的冷卻裝置的加熱和冷卻裝置的第1例的、正在加熱基板的狀態(tài)的模式說(shuō)明圖。
圖2是表示用圖1的加熱和冷卻裝置正在冷卻基板的狀態(tài)的模式說(shuō)明圖。
圖3是作為處理對(duì)象的一個(gè)例子的單面具有布線的基板的平面圖。
圖4表示與圖3所示的基板具有的布線形成區(qū)域大致相對(duì)應(yīng)設(shè)置的異放射率區(qū)域的圖案。
圖5表示異放射率區(qū)域的其它圖案。
圖6表示異放射率區(qū)域的又一個(gè)圖案。
圖7是表示作為圖像顯示面板的制造裝置的一部分使用的具有本發(fā)明的冷卻裝置的加熱和冷卻裝置的第2例的模式說(shuō)明圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明提供冷卻裝置，該冷卻裝置使冷卻板與基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻，特征是在上述冷卻板中，以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板進(jìn)行冷卻時(shí)在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，設(shè)置放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
另外，本發(fā)明提供圖像顯示面板的制造裝置，該圖像顯示面板的制造裝置具備把在基板的至少一方面的一部分上，設(shè)置了放射率與該基板不同的異放射率部件的圖像顯示面板用的基板進(jìn)行加熱的加熱裝置；使冷卻板與用該加熱裝置加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的冷卻裝置，特征是上述冷卻裝置的冷卻板以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由上述基板與上述異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，具有放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
進(jìn)而，本發(fā)明提供圖像顯示面板的制造方法，該圖像顯示面板的制造方法在對(duì)基板的至少單面的一部分上設(shè)置了放射率與該基板不同的異放射率部件的圖像顯示面板用的基板進(jìn)行加熱以后，使冷卻板與該加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的工藝，特征是將以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由于上述基板與上述異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，具有放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域的冷卻板作為上述冷卻板。
另外，本發(fā)明提供冷卻裝置，該冷卻裝置使冷卻板與具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域的基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻，特征是上述冷卻板具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比其它的(冷卻板的)區(qū)域高的區(qū)域。
另外，本發(fā)明提供圖像顯示面板的制造裝置，該圖像顯示面板的制造裝置具備對(duì)具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域圖像顯示用的基板進(jìn)行加熱的加熱裝置；使冷卻板與用該加熱裝置加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的冷卻裝置，特征是上述冷卻裝置的冷卻板具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的放射率比冷卻板的其它的區(qū)域高的區(qū)域。
另外，本發(fā)明提供圖像顯示面板的制造方法，該圖像顯示面板的制造方法具有在對(duì)具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域的圖像顯示用的基板進(jìn)行加熱以后，使冷卻板與該加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的工藝，特征是將具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比其它的(冷卻板的)區(qū)域高的區(qū)域的冷卻板用作為上述冷卻板。
另外，在本說(shuō)明書(shū)中，所謂放射率指的是來(lái)自相同溫度的試樣的放射量對(duì)于來(lái)自黑體的放射量之比。能夠用黑體爐和分光放射測(cè)定器的組合進(jìn)行測(cè)定。
如果依據(jù)本發(fā)明，則根據(jù)設(shè)置在冷卻板中的異放射率區(qū)域，能夠控制基板面的冷卻溫度，能夠在整個(gè)面以幾乎均勻的速度進(jìn)行冷卻，因此能夠抑制發(fā)生成為基板畸變或者損傷的原因的溫度分布。
另外，如果依據(jù)本發(fā)明，由于還通過(guò)設(shè)置在冷卻板中的異放射率區(qū)域，控制基板面的冷卻溫度，因此即使在例如設(shè)置了布線等放射率與基板不同的異放射率部件的情況下，也能夠減輕以此為原因而發(fā)生的基板的溫度分布，能夠高成品率地進(jìn)行圖像顯示面板的制造。
下面，以把圖像顯示面板用的基板作為處理對(duì)象的情況為例，根據(jù)附圖更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
圖1是表示作為圖像顯示面板的制造裝置的一部分使用的具有本發(fā)明的冷卻裝置的加熱和冷卻裝置的第1例的正在加熱基板的狀態(tài)的模式說(shuō)明圖。圖2是表示用圖1的加熱和冷卻裝置正在冷卻基板的狀態(tài)的模式說(shuō)明圖。圖3是作為處理對(duì)象的一個(gè)例子的單面具有布線的基板的平面圖。圖4表示與圖3所示的基板具有的布線形成區(qū)域大致相對(duì)應(yīng)設(shè)置的異放射率區(qū)域的圖案。
如圖1以及圖2所示，本第1例的加熱和冷卻裝置在內(nèi)部保持為真空環(huán)境的真空腔1內(nèi)，分別設(shè)置加熱裝置2和冷卻裝置3，在加熱裝置2與冷卻裝置3之間設(shè)置導(dǎo)向器4，沿著該導(dǎo)向器4設(shè)置在真空腔1內(nèi)移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)單元5。另外，作為處理對(duì)象的圖像顯示面板用的基板6由從驅(qū)動(dòng)單元5延伸出的支撐臂7水平支撐，通過(guò)驅(qū)動(dòng)單元5的移動(dòng)，在加熱裝置2與冷卻裝置3之間傳送。
加熱裝置2成為具備上下一對(duì)板形的加熱器8a、8b，包圍兩個(gè)加熱器8a、8b的反射板9和在基板6的搬入和搬出時(shí)開(kāi)閉的隔門10的結(jié)構(gòu)。反射板9以及隔門10在表里面都用以銅為代表的低放射率的材料構(gòu)成，通過(guò)提高基板6的加熱效率的同時(shí)，抑制向加熱區(qū)域以外的放熱，使得能夠減少在用冷卻裝置3的冷卻過(guò)程中熱向基板6的移動(dòng)。
通過(guò)打開(kāi)隔門10，把由支撐臂7支撐了基板6的驅(qū)動(dòng)單元5導(dǎo)入到反射板9內(nèi)以后迅速地關(guān)閉隔門10，如圖1所示，使基板6位于兩個(gè)加熱器8a、8b之間，通過(guò)來(lái)自分別與基板6的上下面相對(duì)的兩個(gè)加熱器8a、8b的輻射熱進(jìn)行上述加熱裝置2對(duì)于基板6的加熱。
例如在將設(shè)置了多個(gè)電子放射元件以及用于驅(qū)動(dòng)該電子放射元件的矩陣布線等的電子源基板與設(shè)置了通過(guò)來(lái)自該電子源基板的電子射線的照射形成圖像的熒光體的熒光體基板相對(duì)配置的圖像顯示面板中，圖像顯示面板用的基板6用作為上述電子源基板或者熒光體基板，為了形成布線或者電子放射元件的結(jié)構(gòu)部件、形成熒光體、去除附著成分等，其加熱通常直到圖像顯示面板的制造結(jié)束為止進(jìn)行多次。另外，如上所述，受到了加熱處理的基板6為了下一道工序中的處理，通常暫時(shí)冷卻。
在如上述那樣進(jìn)行了加熱裝置2的加熱以后，打開(kāi)隔門10，把驅(qū)動(dòng)單元5取出到反射板9的外面以后，迅速地關(guān)閉隔門10的同時(shí)，把由支撐臂7支撐了基板6的驅(qū)動(dòng)單元5移動(dòng)到冷卻裝置3中進(jìn)行本例的加熱和冷卻裝置中的基板6的冷卻。
冷卻裝置3與上述加熱裝置2相同地收容在真空腔1內(nèi)，分別與傳送來(lái)的基板6的上下面相對(duì)，成為具備分別具有比基板6更寬的相對(duì)面的冷卻板11a、11b的結(jié)構(gòu)。冷卻板11a、11b用鋁或者銅等為代表的熱傳導(dǎo)率良好的材料構(gòu)成，在其內(nèi)部具備用于使冷卻水等冷卻劑循環(huán)的冷卻通道12a、12b。
而本例的作為處理對(duì)象的圖像顯示面板用的基板6是圖像顯示面板的電子源基板，如圖3所示，在其一個(gè)面上，縱橫地密集形成多條布線13。基板6用放射率高的玻璃等絕緣性物質(zhì)構(gòu)成，布線13用放射率比基板6低的銀等金屬構(gòu)成。即，布線13成為放射率與基板6自身不同的異放射率部件。另外，基板6的另一個(gè)面成為放射率高的玻璃等絕緣性物質(zhì)露出的放射率幾乎均勻的面。
用加熱裝置2加熱的上述基板6如上所述，通過(guò)驅(qū)動(dòng)單元5的驅(qū)動(dòng)向冷卻裝置3的冷卻板11a、11b之間傳送，通過(guò)與上下面相對(duì)的冷卻板11a、11b對(duì)放射熱的吸收進(jìn)行冷卻。吸收了來(lái)自基板6的放射熱的冷卻板11a、11b通過(guò)分別沿著所設(shè)置的冷卻通道12a、12b內(nèi)流動(dòng)的冷卻劑進(jìn)行冷卻。
把圖3所示的具有作為異放射率部件的布線13的基板6用相對(duì)面為均勻的放射率的冷卻板11a、11b冷卻的情況下，密集地形成了作為放射率比其它區(qū)域低的異放射率部件的布線13的區(qū)域的冷卻變得緩慢，另一方面，放射率高的玻璃基板6的面大量露出的基板6的四個(gè)角迅速冷卻，從而易于在基板6中產(chǎn)生很大的溫度分布。
因此，在本例的冷卻裝置3中的冷卻板11a、11b與基板6的相對(duì)面上如圖4所示，與布線13的形成區(qū)域相對(duì)應(yīng)，設(shè)置放射率與其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域14，使得能夠減輕該面是均勻放射率時(shí)在基板6中產(chǎn)生的溫度分布。具體地講，由于本例中的作為異放射率部件的布線13與基板6相比較放射率低，布線13的形成區(qū)域的冷卻變得緩慢，因此做成易于吸收該布線13的形成區(qū)域的熱，提高冷卻速度的本例中的異放射率區(qū)域14例如通過(guò)實(shí)施陶瓷涂層等，形成為放射率比與基板6的相對(duì)面中的其它區(qū)域高的區(qū)域。另外該異放射率區(qū)域14如圖4所示，大致形成為十字形，由于在冷卻板11a、11b的四個(gè)角使雖然作為冷卻板11a、11b的基本材料的鋁或者銅的熱傳導(dǎo)率高但是由于放射率比異放射率區(qū)域14低的材料的表面露出，因此抑制來(lái)自與其相對(duì)的基板6的布線13形成面中的四個(gè)角(基板6的露出區(qū)域)的熱的吸收，在提高上述布線13的形成區(qū)域的冷卻速度方面起作用，抑制發(fā)生伴隨冷卻對(duì)于基板6的溫度分布。
另外，如本例這樣，在作為冷卻對(duì)象的基板6是玻璃的情況下，由于玻璃具有僅進(jìn)行5μ～20μ這樣的被限定的波長(zhǎng)的放射(吸收)的特性，因此當(dāng)然把作為與其同等程度的波長(zhǎng)區(qū)的5μ～20μ分光放射率ελ作為放射率。另外，放射率能夠用作為工藝溫度的常溫～400℃的范圍中的任意溫度測(cè)定。
上述異放射率區(qū)域14可以形成為與作為異放射率部件的布線13的形成區(qū)域一致，而由于與基板6的中央部分相比較，周緣部分更易于冷卻，因此最好是形成為比布線13的形成區(qū)域小，獲得平衡。
上述的例子是異放射率部件(上述的例子中是布線13)的放射率比基板6低的情況，而對(duì)于通過(guò)設(shè)置放射率比基板6低的異放射率部件，在基板6中產(chǎn)生溫度分布的情況，通過(guò)把異放射率區(qū)域14做成放射率比其它區(qū)域高的區(qū)域能夠進(jìn)行對(duì)應(yīng)。
異放射率區(qū)域14最好分別設(shè)置在與圖像顯示面板用基板6的上下面(表里面)分別相對(duì)的冷卻板12a、12b上，而也可以僅設(shè)置在一方。僅設(shè)置在一方的情況下，最好設(shè)置在與設(shè)置了異放射率部件的基板6的面相對(duì)一側(cè)的冷卻板12a或12b上。
當(dāng)希望進(jìn)一步降低冷卻板12a、12b的與基板6的相對(duì)面中的異放射率區(qū)域14以外的區(qū)域的放射率時(shí)，通過(guò)對(duì)該區(qū)域進(jìn)行研磨處理，能夠降低放射率。
而圖像顯示面板用的基板6在圖像顯示面板的制造過(guò)程中，在各種狀態(tài)下受到加熱以及冷卻處理。例如，在上述電子源基板或者熒光體基板的制造時(shí)，在設(shè)置電子放射元件、布線13、熒光體等之前，在基板6單獨(dú)的狀態(tài)下，受到用于去除附著性成分的稱為烘焙的加熱處理后進(jìn)行冷卻。該基板6單獨(dú)的狀態(tài)是表里面的放射率都是幾乎均勻的狀態(tài)。在基板6單獨(dú)的狀態(tài)下，在冷卻板12a、12b的與基板6相對(duì)的面的中央部分中，最好以圖5所示的圓形或者圖6所示的橢圓形，設(shè)置與其它區(qū)域相比較放射率高的異放射率區(qū)域14。通過(guò)這樣做，與熱放射面經(jīng)過(guò)擴(kuò)展易于冷卻的基板6的周緣部分相比較，能夠促進(jìn)冷卻緩慢的基板6的中央部分的冷卻，能夠抑制伴隨著冷卻在基板6中產(chǎn)生的溫度分布。圓形的異放射率區(qū)域14適合于基板6是大致正方形的情況，橢圓形的異放射率區(qū)域14適合于基板6是長(zhǎng)方形的情況。
另外，在圖像顯示面板用的基板6是電子源基板的情況下，有時(shí)與布線13一起，在布線13的形成區(qū)域內(nèi)在突出設(shè)置玻璃等隔離件(未圖示)的狀態(tài)下接受處理。由于該隔離件很細(xì)，熱容量非常小，因此冷卻時(shí)被急速地冷卻。從而，如果隔離件被急速冷卻，與基板6的溫差增大，則由于熱膨脹的差異在隔離件中易于產(chǎn)生斷裂。
于是，在基板6中與布線13一起這樣設(shè)置了隔離件的圖像顯示面板用的基板6的冷卻中，與布線13的形成區(qū)域大致相對(duì)應(yīng)設(shè)置的放射率高的上述異放射率區(qū)域14最好采用與基板6的背面相對(duì)的冷卻板11b，而不是與設(shè)置了布線13和隔離件的基板6的面相對(duì)的冷卻板11a，冷卻板11a采用不具有該放射率高的異放射率14的構(gòu)件。
下面，根據(jù)圖7說(shuō)明作為圖像顯示面板的制造裝置的一部分使用的具有本發(fā)明的冷卻裝置的加熱和冷卻裝置的第2例。
本例的加熱和冷卻裝置把圖1以及圖2所示的加熱裝置2和冷卻裝置3構(gòu)成為一體，成為在具有用于裝卸圖像顯示面板用的基板6的隔門70的真空腔71內(nèi)，具備用于大致水平支撐基板6的支撐銷72、在與用該支撐銷72支撐了的基板6的上下面相對(duì)的位置分別設(shè)置的冷卻板73a、73b、在基板6與冷卻板73a、73b之間分別隔開(kāi)間隔并排設(shè)置的線或者棒形的加熱器74a、74b的結(jié)構(gòu)。另外，冷卻板73a、73b分別具有冷卻通道75a、75b。
本例中的冷卻板73a、73b與上述第1例中的冷卻板11a、11b相同，成為根據(jù)基板6的狀態(tài)，具有異放射率區(qū)域14(參照?qǐng)D4～圖6)的結(jié)構(gòu)。
通過(guò)打開(kāi)隔門70，在把基板6在加熱器74a、74b之間(冷卻板73a、73b之間)由支撐銷72支撐了以后，在關(guān)閉了隔門70的狀態(tài)下使加熱器74動(dòng)作進(jìn)行本例的加熱和冷卻裝置的加熱。另外，不必使基板6移動(dòng)而在保持不動(dòng)的狀態(tài)下停止加熱器74a、74b，使冷卻劑在冷卻通道75a、75b中流動(dòng)，如在第1例中說(shuō)明過(guò)的那樣，由設(shè)置在冷卻板73a、73b中的異放射率區(qū)域14(參照?qǐng)D4～圖6)抑制基板6的溫度分布的同時(shí)進(jìn)行對(duì)加熱了的基板6的冷卻。加熱器74a、74b的剖面是圓形，最好盡可能細(xì)，使得在該冷卻時(shí)，盡可能不妨礙冷卻板73a、73b對(duì)于來(lái)自基板6的放射熱的吸收。
本發(fā)明并不限于上述例子中采用的基板6即玻璃。例如，即使冷卻對(duì)象的主要材料不是玻璃，而是像SiC的陶瓷那樣，分光放射率ελ在整個(gè)波長(zhǎng)中是接近比較恒定的特性的材料，也能夠以同樣的狀態(tài)實(shí)施。而這時(shí)，把全反射率ε作為放射率，而不是限定了波長(zhǎng)的分光放射率ελ。即，作為本發(fā)明中的放射率，根據(jù)其冷卻對(duì)象的特性，可以是分光放射率ελ，或者也可以是全放射率ε。另外，該測(cè)定時(shí)，可以進(jìn)行與工藝相對(duì)應(yīng)的溫度下的測(cè)定。
權(quán)利要求
1.一種冷卻裝置，該冷卻裝置使冷卻板與基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻，其特征在于在上述冷卻板中以減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，設(shè)置放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)在上述基板的中央部分與周緣部分中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，設(shè)置上述異放射率區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的冷卻裝置，其特征在于上述異放射率區(qū)域是在冷卻板的中央部分以圓形或者橢圓形的圖案設(shè)置的、放射率比冷卻板的其它區(qū)域高的區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于上述基板至少在單面的一部分具有放射率與該基板不同的異放射率部件，以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由于上述基板與異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，設(shè)置上述異放射率區(qū)域。
5.一種冷卻裝置，該冷卻裝置使冷卻板與具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域的基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻，其特征在于上述冷卻板具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比冷卻板的其它區(qū)域高的區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的冷卻裝置，其特征在于上述放射率低的區(qū)域是在上述基板上配置了放射率比該基板低的部件的區(qū)域。
7.一種圖像顯示面板的制造裝置，具備對(duì)在基板的至少單面的一部分上設(shè)置了放射率與該基板不同的異放射率部件的圖像顯示面板用的基板進(jìn)行加熱的加熱裝置；使冷卻板與用該加熱裝置加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的冷卻裝置，其特征在于上述冷卻裝置的冷卻板以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由于上述基板與上述異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，具備放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖像顯示面板的制造裝置，其特征在于上述異放射率部件是在基板的單面上形成的、放射率比基板低的布線，上述冷卻板中的異放射率區(qū)域是與上述布線的形成區(qū)域大致對(duì)應(yīng)設(shè)置的、放射率比冷卻板的其它區(qū)域高的區(qū)域。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的圖像顯示面板的制造裝置，其特征在于上述基板在基板的一個(gè)面上與布線一起突出設(shè)置有隔離件，設(shè)置了上述異放射率區(qū)域的冷卻板位于基板的另一個(gè)面一側(cè)。
10.一種圖像顯示面板的制造裝置，具備對(duì)具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域圖像顯示用的基板進(jìn)行加熱的加熱裝置；使冷卻板與用該加熱裝置加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的冷卻裝置，其特征在于上述冷卻裝置的冷卻板具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比冷卻板的其它區(qū)域高的區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的圖像顯示面板的制造裝置，其特征在于上述放射率低的區(qū)域是在上述基板上配置了放射率比該基板低的部件的區(qū)域。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的圖像顯示面板的制造裝置，其特征在于放射率比上述基板低的部件是布線。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的液晶顯示面板的制造裝置，其特征在于在上述基板的配置了上述布線的一個(gè)面一側(cè)進(jìn)而配置隔離件，上述冷卻板位于上述一個(gè)面的背面一側(cè)。
14.一種圖像顯示面板的制造方法，具備在對(duì)基板的至少單面的一部分上設(shè)置了放射率與該基板不同的異放射率部件的圖像顯示面板用的基板進(jìn)行加熱以后，使冷卻板與該加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的工藝，其特征在于將這樣的冷卻板用作為上述冷卻板，即該冷卻板以能夠減輕在用放射率均勻的冷卻板冷卻時(shí)由于上述基板與上述異放射率部件的放射率差異而在基板中產(chǎn)生的溫度分布變化的圖案，具備放射率與冷卻板的其它區(qū)域不同的異放射率區(qū)域。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的圖像顯示面板的制造方法，其特征在于上述異放射率部件是放射率比基板低的布線，把上述冷卻板中的異放射率區(qū)域做成與上述布線的形成區(qū)域大致對(duì)應(yīng)設(shè)置的、放射率比冷卻板的其它區(qū)域高的區(qū)域。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的圖像顯示面板的制造方法，其特征在于上述基板在基板的一個(gè)面上與布線一起突出設(shè)置有隔離件，設(shè)置了上述異放射率區(qū)域的冷卻板位于基板的另一個(gè)面一側(cè)。
17.一種圖像顯示面板的制造方法，具有在對(duì)具有放射率高的區(qū)域和低的區(qū)域的圖像顯示用的基板進(jìn)行加熱以后，使冷卻板與該加熱了的上述基板相對(duì)，吸收來(lái)自該基板的放射熱進(jìn)行冷卻的工藝，其特征在于將具有與上述基板的放射率低的區(qū)域相對(duì)的、放射率比冷卻板的其它區(qū)域高的區(qū)域的冷卻板用作為上述冷卻板。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的圖像顯示面板的制造方法，其特征在于上述放射率低的區(qū)域是在上述基板上配置了放射率比該基板低的部件的區(qū)域。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的圖像顯示面板的制造方法，其特征在于放射率比上述基板低的部件是布線。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的圖像顯示面板的制造方法，其特征在于在上述基板的配置了上述布線的一個(gè)面一側(cè)進(jìn)而配置隔離件，上述冷卻板位于上述一個(gè)面的背面一側(cè)。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻裝置，其特征在于上述冷卻板具有在以鋁或銅為基材的主材上涂敷陶瓷的結(jié)構(gòu)，涂敷了陶瓷的區(qū)域構(gòu)成上述異放射率區(qū)域，該區(qū)域的放射率與露出上述主材的區(qū)域的放射率不同。
全文摘要
在構(gòu)成使用了電子線放射元件等的圖像顯示裝置的基板的加熱以及冷卻過(guò)程中使用的冷卻裝置中，具備與基板相對(duì)而且吸收基板的放射熱的冷卻板，通過(guò)在冷卻板中設(shè)置與基板的低放射率區(qū)域相對(duì)的圖案的高放射率區(qū)域，減輕基板冷卻時(shí)的基板溫度分布的變化，防止基板畸變或者破損。
文檔編號(hào)C23C16/46GK1673411SQ20051005488
公開(kāi)日2005年9月28日 申請(qǐng)日期2005年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月23日
發(fā)明者吉村昌真 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社