專利名稱：顯像管玻殼石墨涂層噴砂清理工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種處理廢舊顯像管玻殼石墨涂層的工藝，將玻殼清理干凈便于回用。
背景技術(shù)：
目前，已有的石墨涂層清理工藝主要是使用玻殼碎玻璃進(jìn)行自磨，然后用水清洗去掉石墨涂層。此種工藝用水量大，并且會(huì)有污水產(chǎn)生，經(jīng)自磨后的碎玻璃粒度較細(xì)不利于回用，而且會(huì)造成清理不徹底等問題。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述的幾種缺點(diǎn)，本發(fā)明采用噴砂工藝來清理玻殼表面的石墨涂層，能夠改進(jìn)上述工藝中的石墨殘留、粒度過細(xì)、產(chǎn)生污水等問題。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是將玻殼放置噴砂箱中，經(jīng)高壓空氣吹動(dòng)的細(xì)砂經(jīng)過噴槍噴射到玻殼表面的石墨涂層上，砂粒與玻殼表面碰撞，由于砂粒的硬度大于石墨涂層的硬度，因此可以將玻殼表面的石墨涂層去掉?？刂茋娚涞臍饬魉俣群蜕傲５牧椒秶?，使得石墨涂層完全剝離，并且不要過多的磨損玻殼的表面。這樣可以避免水洗以及自磨帶來的問題。
本發(fā)明的有益效果是，可以快速徹底清除玻殼表面的石墨涂層，并且細(xì)砂可以重新回用，操作方便簡單。


下面結(jié)合附圖和實(shí)例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。
圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1.透明玻璃外罩 2.底板 3.噴槍 4.投射燈 5.排氣風(fēng)扇，外接收塵裝置 6.接壓縮空氣 7.氣壓表 8.砂斗 9.活門 10.橡膠手套 11.操作口。
圖1中的各個(gè)部分組成了噴砂裝置，在實(shí)際實(shí)施過程中，首先是接通壓縮空氣，開啟排氣收塵裝置和投射燈，然后待加工的玻殼通過活門(9)，放入噴砂箱中，操作工將手伸入操作口(11)，戴好橡膠手套(10)，手持噴槍(3)，對(duì)樣品表面進(jìn)行噴砂處理，噴砂完成后，從活門取出玻殼，關(guān)閉壓縮空氣、排氣裝置和投射燈。定期清理底板上沉積的磨砂。
權(quán)利要求
1.一種用于清理玻殼表面石墨涂層的工藝，通過噴砂操作來完成。其特征是通過壓縮空氣驅(qū)動(dòng)的磨砂，噴射到石墨涂層的表面，磨蝕玻殼表面的石墨涂層，達(dá)到清理石墨涂層的目的，并且防止玻璃的磨損。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所描述的工藝，其特征是磨砂的粒度范圍在0.125mm～0.42mm之間，莫氏硬度在3～6之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所描述的工藝，其特征是壓縮空氣的壓強(qiáng)范圍是0.2MPa～0.6MPa。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所描述的工藝，其特征是磨砂的噴出速度在10～20m/s，噴嘴離待加工品的距離要求在100mm～300mm。
全文摘要
一種能夠清理玻殼表面石墨涂層的工藝。它采用噴砂的方式磨蝕表面的石墨涂層，即通過壓縮空氣驅(qū)動(dòng)的一定粒度范圍并且具有一定硬度的磨砂，不斷沖擊石墨涂層的表面，從而達(dá)到清理石墨涂層的目的。該工藝能夠徹底去除表面涂層。磨砂可以循環(huán)利用。
文檔編號(hào)B24C1/04GK1919536SQ20051002917
公開日2007年2月28日 申請日期2005年8月26日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月26日
發(fā)明者鄭金標(biāo) 申請人:鄭金標(biāo), 龐京濤, 王德強(qiáng)